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万磊

作品数：9 被引量：0H指数：0
供职机构：华南师范大学更多>>
相关领域：轻工技术与工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 9篇中文专利

领域

  • 1篇轻工技术与工...

主题

  • 3篇印章
  • 3篇激光
  • 3篇光刻
  • 3篇光栅
  • 2篇电压变换
  • 2篇电压变换器
  • 2篇多量子阱
  • 2篇压印
  • 2篇荧光粉
  • 2篇载流子
  • 2篇载流子分布
  • 2篇散射
  • 2篇散射损耗
  • 2篇退火
  • 2篇热退火
  • 2篇紫外光刻
  • 2篇量子效率
  • 2篇介质材料
  • 2篇局域
  • 2篇激光器

机构

  • 9篇华南师范大学

作者

  • 9篇万磊
  • 9篇梅霆
  • 5篇朱凝
  • 4篇郭克芹
  • 3篇李旋
  • 2篇王洪朝
  • 2篇李浩
  • 2篇杜康
  • 2篇戴阳
  • 2篇张新亮
  • 1篇郭克勤

年份

  • 2篇2016
  • 1篇2015
  • 2篇2014
  • 3篇2013
  • 1篇2012
共 9 条 记 录，以下是 1-9
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排序方式：
一种半导体外延结构及其发光器件
本发明公开了一种半导体发光器件的外延结构，包括电子注入区、空穴注入区、多量子阱有源区、阻挡载流子的势垒层以及一个或多个带边整形层。该带边整形层的掺杂类型和/或掺杂浓度与其相邻层有差异，可通过调整其掺杂类型、掺杂浓度和/或...
梅霆王乃印李浩万磊
文献传递
一种全聚合物平面光路的制作方法
本发明公开了一种全聚合物平面光路的制作方法，包括步骤：（1）利用紫外光刻与深刻蚀工艺获得初始原模，之后用电化学沉积的方法复制金属镍模具，然后采用微型模塑的方法制作聚合物微结构零件；（2）采用热退火工艺对零件进行分段处理，...
梅霆万磊李旋朱凝
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一种测量荧光粉的PL光谱及PLE光谱的测试系统
本发明公开了一种用于测量荧光粉PL光谱及PLE光谱的测试系统，该测试系统引入了双重调制，包括飞秒激光器、锁相放大器、光栅光谱仪、光功率计和光路器件。其中，光路器件包括反射镜、透镜、衰减片和分束镜。所述飞秒激光器出射的激光...
梅霆郭克芹戴阳张新亮万磊
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一种半导体外延结构及其发光器件
本发明公开了一种半导体发光器件的外延结构，包括电子注入区、空穴注入区、多量子阱有源区、阻挡载流子的势垒层以及一个或多个带边整形层。该带边整形层的掺杂类型和/或掺杂浓度与其相邻层有差异，可通过调整其掺杂类型、掺杂浓度和/或...
梅霆王乃印李浩万磊
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一种LED荧光粉预制膜的制造方法
本发明公开了一种LED荧光粉预制膜的制造方法，包括以下步骤：选择薄膜片和表面平滑的衬底，利用机械切割或激光切割在薄膜片上制作预制腔，将带有预制腔的薄膜片粘接压紧在衬底表面；将荧光粉和粘合剂按(0.1～1)∶1的质量比均匀...
梅霆李旋万磊郭克勤朱凝
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一种测量荧光粉的PL光谱及PLE光谱的测试系统
本发明公开了一种用于测量荧光粉PL光谱及PLE光谱的测试系统，该测试系统引入了双重调制，包括飞秒激光器、锁相放大器、光栅光谱仪、光功率计和光路器件。其中，光路器件包括反射镜、透镜、衰减片和分束镜。所述飞秒激光器出射的激光...
梅霆郭克芹戴阳张新亮万磊
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一种应用压印技术制作硅酮微纳光学结构的方法
本发明公开了一种应用压印技术制作硅酮微纳光学结构的方法，首先要根据器件结构要求设计并加工模板，作为压印用的印章；其次，根据器件微纳光学结构的要求，选用合适衬底材料，并覆盖压印胶，之后，采用压印工艺，转移模板上的结构图案，...
梅霆万磊王洪朝郭克芹杜康朱凝
一种应用压印技术制作硅酮微纳光学结构的方法
本发明公开了一种应用压印技术制作硅酮微纳光学结构的方法，首先要根据器件结构要求设计并加工模板，作为压印用的印章；其次，根据器件微纳光学结构的要求，选用合适衬底材料，并覆盖压印胶，之后，采用压印工艺，转移模板上的结构图案，...
梅霆万磊王洪朝郭克芹杜康朱凝
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一种全聚合物平面光路的制作方法
本发明公开了一种全聚合物平面光路的制作方法，包括步骤：（1）利用紫外光刻与深刻蚀工艺获得初始原模，之后用电化学沉积的方法复制金属镍模具，然后采用微型模塑的方法制作聚合物微结构零件；（2）采用热退火工艺对零件进行分段处理，...
梅霆万磊李旋朱凝
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