公共文化服务平台

共 9 条记录，以下是 1-9

全选清除导出

排序方式：

一种高温铸锻件仅线圈式电磁超声探头及检测装置: 本实用新型公开了一种高温铸锻件仅线圈式电磁超声探头及装置，其中探头包括：探头外壳；刚玉片，设置于所述探头外壳底部；线圈，设置于所述探头外壳内且位于所述刚玉片上方；接口，设置于所述探头外壳上，且与所述线圈电连接；所述探头外...; 胡力萍石文泽卢超张路根张琦邵纬桑颜超张昊儒刘远朱颖邱发生

高温铸锻件仅线圈式电磁超声相控阵检测装置及方法: 本发明公开了一种高温铸锻件仅线圈式电磁超声相控阵检测装置及方法，其中装置包括仅线圈式电磁超声探头及多通道仅线圈式电磁超声检测电路；仅线圈式电磁超声探头包括探头外壳、刚玉片、接口及多个线圈，刚玉片设置于探头外壳底部，多个线...; 石文泽邵纬桑卢超胡力萍张路根张琦刘远朱颖颜超张昊儒

载能Ni原子斜入射Pt(111)表面的分子动力学模拟被引量：1: 2011年; 采用嵌入原子方法的原子间相互作用势,利用分子动力学模拟,详细研究不同角度入射的载能Ni原子在Pt(111)基体表面的沉积过程.结果表明,随着入射角度θ从0°增加到80°,溅射产额、表面吸附原子产额、空位产额的变化情况均可按入射角度近似地分为θ≤20°,20°<θ<60°和θ≥60°三个区域.当θ≤20°时,载能沉积对基体表面的影响与垂直入射时的情况类似,表面吸附原子的分布较为集中,入射原子容易达到基体表面第二层及以下,对基体内部晶格产生一定的影响;在20°<θ<60°的范围内,入射原子的注入深度有所下降,对基体内部晶格的影响减小,表面吸附原子的分布较为均匀,有利于薄膜的均匀成核与层状生长;当θ≥60°时,所有入射原子均直接被基体表面反射,表面吸附原子产额、溅射产额、表面空位产额均接近0,载能沉积作用没有体现.; 颜超; 关键词：分子动力学模拟吸附原子

以本为本理念下的大学物理线上教学: 2021年; 线上教学只是一种教学形式,重要的是从学生的角度出发,坚持以本为本,为学生营造一个有爱的线上学习氛围。本文以大学物理课程为例,就收集易错知识点、师生的线上互动、我的课堂我做主、课程考核等方面进行了细致地探讨,制定符合学生的个性化教学方案,从而提高学生的学习获得感。通过师生的线上互动、批改学生作业等方式可以收集学生的易错知识点。把这些易错知识点设计成测试题,题目的素材来源于学生的学习过程,这样可以提高学生的学习兴趣。课程考核是教学工作的重要组成部分,所以本文文末就组织学生进行线上考试做出了详细说明。总体来说,教师应坚持以本为本,回归育人的初心,将因材施教做实做细,从而提高教学效果。; 胡家琦肖文波颜超朱泉水; 关键词：大学物理线上教学以本为本

Ni原子倾斜轰击Pt(111)表面低能溅射现象的分子动力学模拟: 2011年; 采用嵌入原子方法的原子间相互作用势,通过分子动力学模拟详细研究了以不同角度入射的低能Ni原子与Pt(111)基体表面相互作用过程中的低能溅射行为.结果表明:随着入射角度从0°增加到80°,溅射产额Ys和入射原子钉扎系数S的变化均可以根据入射角θ近似地分为以下三个区域:当θ≤20°时,Ys和S几乎保持不变,其值与垂直入射时接近,溅射原子的发射角分布和能量分布也与垂直入射时的情况类似;当θ≥60°时,Ys≈0,S≈0;在20°≤θ≤60°的范围内,钉扎系数呈现减小的趋势,溅射产额呈现先增大后减小的趋势,溅射原子的发射角分布和能量分布均与θ≤20°时的情况有一定的差异.通过对入射原子和被溅射原子运动轨迹的跟踪,分别给出了不同入射角度范围内的低能溅射机理及入射原子与基体表面的相互作用机理,斜入射与垂直入射时的低能溅射机理存在一定的差异,也不同于基于二体碰撞理论得到的溅射模型.; 颜超段军红何兴道; 关键词：分子动力学模拟入射角

高温铸锻件仅线圈式电磁超声探头、检测方法及装置: 本发明公开了一种高温铸锻件仅线圈式电磁超声探头、检测方法及装置，其中探头包括探头外壳、线圈、刚玉片、接口及仅线圈式电磁超声检测电路；刚玉片设置于探头外壳底部，线圈设置于探头外壳内且位于刚玉片上方，接口设置于探头外壳上，且...; 石文泽胡力萍卢超张路根张琦邵纬桑颜超张昊儒刘远朱颖邱发生

一种自动控制激光-感应复合熔覆涂层几何形貌的方法: 一种自动控制单道激光－感应复合熔覆涂层几何形貌的方法，该方法的特点是：（1）根据单道激光－感应复合熔覆涂层的横截面为半椭圆形，涂层宽度为激光光斑直径D的85%；（2）采用激光测厚仪与激光测宽仪在线实时测量单道激光－感应复...; 戴晓琴周圣丰颜超刘勇邵志松王春霞; 文献传递

低能原子沉积在Pt(111)表面的分子动力学模拟被引量：4: 2010年; 采用嵌入原子方法的原子间相互作用势,利用分子动力学方法模拟了六种贵金属原子(Ni,Pd,Pt,Cu,Ag,Au)分别在Pt(111)表面低能沉积的动力学过程.结果表明:随着入射能量从0.1eV升高到200eV,基体表面原子是按层迁移的,沉积过程对基体表面的影响和沉积原子在基体表层的作用均存在两个转变能量(ET1≈5eV,ET2≈70eV).当入射能量低于5eV时,基体表面几乎没有吸附原子和空位形成,沉积原子在基体表层几乎没有注入产生;当入射能量在5—70eV范围内时,沉积原子在基体表层有注入产生,其注入深度小于两个原子层,即为亚注入,此时吸附原子主要由基体表层原子形成,基体表面第三层以下没有空位形成;当入射能量高于70eV时,沉积原子的注入深度大于两个原子层,将会导致表面以下第三层形成空位,并且空位产额随入射能量的升高而急剧增加.基于分子动力学模拟的结果,对低能沉积作用下的薄膜生长以及最优沉积参数的选择进行了讨论.; 颜超段军红何兴道; 关键词：空位分子动力学模拟

入射能量对Au/Au(111)薄膜生长影响的分子动力学模拟被引量：2: 2014年; 利用分子动力学模拟了Au原子在Au(111)表面低能沉积的动力学过程.采用嵌入原子方法的原子间相互作用势,通过对沉积层原子结构的分析和薄膜表面粗糙度、层覆盖率的计算,研究了沉积粒子能量对薄膜质量的影响及其机制.结果表明:当入射能量Ein<25 eV时,沉积层和基体表层均呈现规则的单晶面心立方(111)表面的排列,沉积原子仅注入到基体最表面两层,随着入射能量的增加,薄膜表面粗糙度降低,薄膜越趋于层状生长,入射能量的增加有利于薄膜的成核和致密化;当Ein 25 eV时,沉积层表面原子结构出现了较为明显的晶界,沉积原子注入到基体表面第三层及以下,随着入射能量的增加,薄膜表面粗糙度增加,沉积层和基体表层原子排列越不规则,载能沉积会降低基体内部的稳定性,导致基体和薄膜内部缺陷的产生,降低薄膜质量.此外,当基体内部某层沉积原子数约等于该层总原子数的一半时,沉积原子将能穿过该层进入到基体内部更深层.; 颜超黄莉莉何兴道; 关键词：入射能量薄膜生长分子动力学

全选清除导出

共1页<1>

颜超