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郝振霞

作品数:4 被引量:3H指数:1
供职机构:浙江大学更多>>
发文基金:浙江省自然科学基金国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学电子电信更多>>

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文
  • 1篇专利

领域

  • 2篇理学
  • 1篇电子电信

主题

  • 2篇酸酯
  • 2篇碳酸酯
  • 2篇紫外
  • 2篇聚碳酸
  • 2篇聚碳酸酯
  • 2篇光层
  • 1篇电极
  • 1篇对苯二甲酸
  • 1篇对苯二甲酸乙...
  • 1篇选择性
  • 1篇乙二醇酯
  • 1篇制备金属
  • 1篇微电极
  • 1篇微加热器
  • 1篇微流控
  • 1篇微流控芯片
  • 1篇微器件
  • 1篇金属
  • 1篇聚对苯
  • 1篇聚对苯二甲酸

机构

  • 4篇浙江大学

作者

  • 4篇郝振霞
  • 3篇陈恒武
  • 2篇方肇伦
  • 2篇云晓
  • 2篇孔泳

传媒

  • 1篇分析化学
  • 1篇中国化学会第...

年份

  • 1篇2010
  • 1篇2009
  • 1篇2007
  • 1篇2006
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
用光胶做挡光层的紫外光刻掩膜及用于在聚碳酸酯芯片表面制备金属微电极
紫外光谱研究表明,AZ正性光胶当厚度大于10μm时,在200-285 nm的紫外光区几乎不透光.本文研制了一种以AZ光胶做挡光层、石英玻璃做底板的紫外光刻掩膜.应用该掩膜对聚碳酸酯(PC)表面进行以低压汞灯为光源的选择性...
孔泳陈恒武云晓郝振霞方肇伦
关键词:聚碳酸酯
文献传递
光胶做挡光层的紫外光刻掩膜用于高聚物芯片表面选择性光化学改性被引量:3
2007年
紫外光谱研究表明,AZ正性光胶当厚度大于10μm时,在200~285nm的紫外光区几乎不透光。本研究据此研制了一种以固化后的AZ光胶做挡光层、石英玻璃做底板的紫外光刻掩膜。应用AZ光胶掩膜对聚碳酸酯(PC)表面进行以低压汞灯(主要辐射254nm紫外光)为光源的选择性光化学改性,在光照区域形成化学镀所需的催化中心后,采用化学镀技术,在PC毛细管电泳芯片上制备安培检测用的集成化金微电极。本掩膜材料简单,制作方便,无须洁净实验室和贵重的设备,成本低廉。
孔泳陈恒武云晓郝振霞方肇伦
关键词:聚碳酸酯
高聚物微流控芯片上金属微器件的研制和应用
近年来,高聚物材料以其成本低、易加工复制等优势在微流控芯片系统中得到了广泛的应用。微流控系统集成化、微型化、便携化的特点决定了在芯片上制各集成化的金属微器件以用于各种不同的功能单元是微流控发展的必然需要。利用传统的LIG...
郝振霞
关键词:微流控芯片化学镀聚对苯二甲酸乙二醇酯聚二甲基硅氧烷
一种在PDMS表面制备薄膜型金属微器件的方法
一种在PDMS表面通过化学镀制备薄膜金属微器件的方法。利用光刻掩膜通过光化学反应,在PDMS表面指定区域选择性地接枝生成一层聚丙烯酸PAA,通过胺化、吸附、还原等一系列表面化学反应,在紫外光照射过的区域形成化学镀所需要的...
陈恒武郝振霞
文献传递
共1页<1>
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