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赵逸琼

作品数:10 被引量:30H指数:4
供职机构:中国科学技术大学物理学院物理系更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学机械工程核科学技术电子电信更多>>

文献类型

  • 8篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 7篇理学
  • 6篇机械工程
  • 3篇核科学技术
  • 2篇电子电信
  • 1篇化学工程

主题

  • 8篇衍射
  • 8篇光学
  • 7篇衍射光学
  • 6篇光学元件
  • 5篇衍射光学元件
  • 4篇均匀照明
  • 4篇刻蚀
  • 4篇光束
  • 3篇离子束
  • 2篇梯度下降
  • 2篇梯度下降法
  • 2篇下降法
  • 2篇离子束刻蚀
  • 2篇均匀化
  • 2篇刻蚀工艺
  • 2篇光束整形
  • 2篇ICF
  • 1篇衍射效率
  • 1篇应用光学
  • 1篇优化设计

机构

  • 10篇中国科学技术...

作者

  • 10篇赵逸琼
  • 9篇李永平
  • 5篇徐俊中
  • 5篇王炜
  • 2篇傅绍军
  • 2篇张晓波
  • 1篇周洪军
  • 1篇张巍
  • 1篇王建东
  • 1篇徐向东
  • 1篇李涛
  • 1篇伍源
  • 1篇张艳丽
  • 1篇王旭迪
  • 1篇周秋桂
  • 1篇洪义麟
  • 1篇付绍军
  • 1篇刘洪亮
  • 1篇舒方杰

传媒

  • 2篇计算物理
  • 1篇量子电子学报
  • 1篇物理学报
  • 1篇中国科学技术...
  • 1篇光学技术
  • 1篇激光与光电子...
  • 1篇光电工程
  • 1篇第十五届全国...

年份

  • 1篇2006
  • 3篇2005
  • 1篇2004
  • 1篇2002
  • 4篇2001
10 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
用于超宽焦斑光束整形的大口径衍射光学元件设计和制作被引量:6
2005年
采用改进混合优化算法首次设计并制作了口径168.7 mm的连续衍射光学元件实现类环形光束入射,输出直径650μm超宽焦斑光束均匀照明。用Nd:YAG脉冲激光器1.064μm波长激光进行实验,获得了与设计尺寸相符、边缘陡峭、无中心尖锐脉冲、具有极好的离焦宽容性的宽焦斑,但焦斑顶部不均匀性较大。对此进行了深入的模拟分析,结果表明:焦斑顶部较大的光强调制主要来源于现有的工艺及实验条件误差。
赵逸琼王建东张晓波李永平伍源王旭迪傅绍军
关键词:应用光学衍射光学元件离子束刻蚀
离子束旋转刻蚀工艺误差对均匀照明的影响被引量:3
2001年
介绍一种离子束旋转刻蚀工艺,该工艺可用于制作真正意义上连续位相分布的衍射光学元件。对工艺系统中离子束不均匀度和基片与掩模板中心对准误差对器件性能的影响作了模拟计算,并根据对误差的模拟分析提出了工艺改进方案。
徐俊中赵逸琼王炜李永平徐向东周洪军洪义麟李涛傅绍军
关键词:误差分析离子束刻蚀衍射光学元件均匀照明
用于ICF的四光束并束均匀化的器件设计
2001年
惯性约束核聚变(ICF)中的均匀照明和极窄焦斑问题一直以来都是实验成败的关键,也是研究中的活跃课题.为了既保证所需光束质量,又在现有装置上提高靶场研究所需功率,一种对多光束进行合并整形的方案是必需的.基于以往多年的经验和实践,现今我们采用几何光学与二元光学位相调制相结合的基本思想,将方向不同、非相干的四束来自驱动器末端的光束,通过我们所设计的光学元件进行并束并加以波面整形,最后出射高强度、高质量的超高斯光束.基本思想是:将四束不同倾角的入射光通过楔形列阵准直平行,出射的四束平行光经由设计好的二维位相片进行波面变换,经过主透镜后在焦平面叠加产生窄焦斑、高功率的平顶超高斯光束.与以往二维位相片的设计不同的是,该设计方案中采用一维位相片设计,经过交叉变换拓展成二维分布.基于上述方法设计的位相片列阵能分别对四束光进行整形.通过对整个光路的计算模拟表明,四光束并束均匀化后叠加效果不仅使光强增加为原来的四倍,而且有利于提高靶场光束均匀化的指标.由此可知,我们所设计的四光束合并均匀化方案,在光束质量和能量上均比单光束有相当大的提高和改善,并且位相片的设计有利于工艺加工制作.(OG23)
赵逸琼王炜徐俊中李永平
关键词:ICF均匀化
优化设计衍射光学元件用于矢量光束整形及其应用研究
本论文的研究工作主要集中于优化设计衍射光学元件(DOE:Diffractive OpticalElements)用于矢量光束整形:通过建立或利用光学系统的矢量模型,针对不同的实际问题对DOE进行优化设计,实现均匀照明、多...
赵逸琼
关键词:衍射光学元件固体浸没透镜
文献传递
用于均匀照明的纯位相元件多元化分析
2001年
论文通过理论分析探讨了用于均匀照明问题的纯位相元件的通用性问题 ,揭示了纯位相元件的设计与实际应用系统各类参数指标的依赖关系 .并且还研究了刻蚀工艺中的正负片问题 。
徐俊中赵逸琼王炜李永平
关键词:均匀照明刻蚀工艺衍射光学
离子束平动刻蚀工艺衍射光学元件的设计及制作被引量:7
2002年
提出了一种用于制作二维光束整形衍射光学元件的新方法———离子束平动刻蚀工艺。分别介绍了利用这种新方法设计衍射光学元件的原理、设计过程以及刻蚀工艺系统的构成和掩模板的设计方法。结果表明 ,这种新的工艺方法不拘泥于圆对称系统 ,不但继承了离子束旋转刻蚀工艺的位相真正连续分布的优势 ,而且所制作出的衍射光学元件 ,即使对于半导体激光器所产生的两个方向发散角不同的激光束来说也仍然可以进行整形 ,并最终能得到矩形焦斑。这种工艺方法的理论设计也可以从二维化简为两个一维的设计 。
徐俊中赵逸琼王炜李永平徐向东傅绍军
关键词:衍射光学元件
变间距采样及准梯度下降法实现光束整形被引量:1
2004年
 利用输入输出不同的变间距采样通过汉克尔变换实现圆对称纯位相片精密化设计,并发展了准梯度下降法及频谱滤波,改进了原有的混合杂化算法.模拟结果表明,考虑到热传导匀滑之后输出振幅分布顶部调制为1 1%,衍射效率为97 2%.
赵逸琼伍源周秋桂李永平
关键词:光束整形惯性约束核聚变衍射效率
一种用于均匀照明的衍射光学元件设计的快速模拟退火法被引量:8
2005年
 介绍了一种适用于均匀照明的衍射光学元件设计的自洽迭代和优化混合的快速模拟退火法,它引入Tsallis正则分布以及相应的效用函数思想,可以在接近1%的时间内得到和传统模拟退火法有着相同均方差(MSE)的理想模拟结果.
刘洪亮赵逸琼李永平付绍军张巍张晓波舒方杰
关键词:模拟退火法元件设计衍射光学均匀照明正则分布均方差
高数值孔径聚焦三维光链的研究被引量:10
2006年
通过设计衍射光学元件对入射矢量光进行调制,在高数值孔径聚焦系统焦点附近产生沿光轴方向的三维多点光俘获结构———光链.并针对不同的入射矢量偏振、聚焦透镜的数值孔径以及衍射光学元件结构,对光链性能的影响分别进行了系统的分析,实现对该独特光俘获结构的可控性研究.
张艳丽赵逸琼詹其文李永平
关键词:衍射光学元件光镊
用于ICF的四光束并束均匀化器件设计
采用几何光学与二元光学位相调制相结合的基本思想,将四束不同倾角的入射光通过楔形列阵准直平行,然后分别经过位相片进行波面变换,最后由主透镜会聚在靶场叠加产生窄焦斑、高功率的平顶超高斯光束.
赵逸琼王炜徐俊中李永平
关键词:均匀照明光学元件
文献传递
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