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贺德建

作品数:14 被引量:11H指数:2
供职机构:华中科技大学更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:自动化与计算机技术电子电信机械工程一般工业技术更多>>

文献类型

  • 6篇专利
  • 5篇会议论文
  • 2篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 3篇自动化与计算...
  • 2篇电子电信
  • 1篇机械工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 4篇光刻
  • 3篇电机
  • 3篇电机驱动
  • 3篇电路
  • 3篇动态加载
  • 3篇压印光刻
  • 3篇永磁
  • 3篇永磁式
  • 3篇直流电机
  • 3篇直流电机驱动
  • 3篇散射
  • 3篇散射法
  • 3篇数控
  • 3篇数控工作台
  • 3篇模压
  • 3篇纳米压印
  • 3篇刻蚀
  • 3篇加载
  • 3篇工作台
  • 3篇感器

机构

  • 14篇华中科技大学

作者

  • 14篇贺德建
  • 12篇张鸿海
  • 10篇刘胜
  • 9篇王志勇
  • 8篇汪学方
  • 6篇胡晓峰
  • 4篇范细秋
  • 3篇史铁林
  • 3篇马斌
  • 3篇朱福龙
  • 3篇汪海英
  • 2篇陈志凌
  • 1篇鲍剑斌
  • 1篇杨宏亮

传媒

  • 2篇全国生产工程...
  • 1篇现代机械
  • 1篇微纳电子技术
  • 1篇2004年中...
  • 1篇中国微米/纳...
  • 1篇2004年中...

年份

  • 2篇2006
  • 1篇2005
  • 9篇2004
  • 2篇2003
14 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
一种用于微小样品的六轴力学性能测量装置
本实用新型针对传统的力学试验机不能满足微机械(MEMS)等微小样品的测试需要,研究开发了一种用于微小样品的六轴力学性能测量装置,它包括精密六轴数控工作台、六轴测力传感器、加温箱和计算机控制系统。六轴数控工作台由一个永磁式...
王志勇刘胜张鸿海史铁林汪海英汪学方朱福龙贺德建
文献传递
一种用于微小样品的六轴力学性能测量装置
本发明针对传统的力学试验机不能满足微机械(MEMS)等微小样品的测试需要,研究开发了一种用于微小样品的六轴力学性能测量装置,它包括精密六轴数控工作台、六轴测力传感器、加温箱和计算机控制系统。六轴数控工作台由一个永磁式直线...
王志勇刘胜张鸿海史铁林汪海英汪学方朱福龙贺德建
文献传递
与集成电路工艺兼容的三维微结构模压刻蚀方法
本发明公开了一种与集成电路工艺兼容的三维微结构模压刻蚀方法。该方法是利用叠层原理制造具有任意曲面的三维模压刻蚀模具,然后将该三维模具对衬底上的软质材料层进行模压刻蚀,得到微系统的三维结构。该方法的关键技术三维模具的制造,...
王志勇刘胜张鸿海贺德建胡晓峰汪学方陈志凌马斌
文献传递
一种与集成电路工艺兼容的三维结构刻蚀技术研究
现有MEMS制造工艺难于同时满足既能加工真三维微结构又能与集成电路工艺兼容的要求,严重阻碍了MEMS产业化的进一步快速发展.本文分析了20世纪90年代中期兴起的压印光刻技术的相关工艺,认为该技术可改造成能加工任意曲面形状...
范细秋张鸿海胡晓峰贺德建
关键词:压印光刻MEMS
高效率低成本纳米级图形复制技术
介绍了一种新型的高效率、低成本的纳米结构制作方法——纳米压印光刻技术。该工艺不同于传统光刻工艺,它是通过阻蚀剂的物理变形而不是改变其化学特性来实现图形化。因此,其分辨率不受光波波长、物镜数值孔径等因素的限制,可突破传统光...
张鸿海胡晓峰范细秋贺德建刘胜
关键词:纳米压印光刻
文献传递
高效率低成本纳米级图形复制技术
本文介绍了一种新型的高效率、低成本的纳米结构制作方法--纳米压印光刻技术.该工艺不同于传统光刻工艺,它是通过阻蚀剂的物理变形而不是改变其化学特性来实现图形化.因此,其分辨率不受光波波长、物镜数值孔径等因素的限制,可突破传...
张鸿海胡晓峰范细秋贺德建刘胜
关键词:纳米压印光刻技术微器件
文献传递
一种用于MEMS检测的无耦合六维力传感器的研制被引量:5
2003年
提出了一种用于MEMS检测试验平台中力学量测量的无耦合六维力 /力矩传感器的设计。对传感器的结构形式、测量原理作了介绍 ,进行了试验验证并给出了从 8路输出电压到六维力 /力矩的传递矩阵。该传感器通过采用巧妙的结构形式和特定的电阻应变片布片方案实现了六维力解耦 ,大大简化了后置信号处理电路的设计且在各轴都具有较好的测量分辨率。实验证明 ,该传感器具有无耦合、测量分辨率高、线性度好、标定简单、贴片方便、制造成本低的优点 。
贺德建张鸿海刘胜汪学方王志勇
关键词:六维力传感器传递矩阵微机电系统
一种低温集成的圆片级微机电系统气密性封装工艺
一种低温集成的圆片级MEMS气密性封装工艺,包括以下步骤:1.在硅基片(1)上,蒸发淀积一层铝/铬层(2);2.在铝/铬层(2)及MEMS器件(12)的上面,投铸一层光刻胶(3),烘干;3.在硅基片(1)的上表面、铝/铬...
汪学方张鸿海刘胜王志勇马斌贺德建
文献传递
纳米压印光刻技术原理与实验研究
本文介绍了纳米压印光刻技术的原理并进行了相关的实验研究,目的在于研究采用纳米压印光刻技术制备三维微结构的工艺,以促进此项技术更快的走向广泛的实际应用.本文首先介绍了纳米压印光刻技术的原理,以及纳米压印光刻技术的趋势和面临...
贺德建
关键词:纳米压印光刻光刻技术
文献传递
热压印制作微透镜阵列
本文介绍利用热压印技术制作微透镜阵列的方法,热压印是一种很有前景的聚合物材料结构和器件加工方法,这种方法利用制作的模板,在温度达到聚合物的玻璃转化温度之上后施加一定压力将模板压在聚合物样品上,使得模板结构转移到样品上来....
胡晓峰张鸿海贺德建范细秋
关键词:热压印微透镜阵列
共2页<12>
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