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王宙: 作品数：91 被引量：190H指数：8; 供职机构：大连大学更多>>; 发文基金：中国石油科技创新基金辽宁省教育厅高等学校科学研究项目国家自然科学基金更多>>; 相关领域：金属学及工艺化学工程一般工业技术机械工程更多>>

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一种高晶化率多晶硅薄膜的制备方法: 本发明提供了一种高晶化率多晶硅薄膜的制备方法，该方法为：选取多晶硅粉末及磷粉末为原料，石墨片为蒸发源，k9玻璃片为基板，将原料、蒸发源和前处理后的基板放置于真空镀膜机中蒸镀，设定基板与原料间距离为130～150cm，基板...; 王宙骆旭梁付传起董桂馥雍帆; 文献传递

电沉积Ni-W合金镀层的X射线光电子能谱分析被引量：7: 2002年; 采用X射线光电子能谱 (XPS)对电沉积Ni W合金镀层表面膜进行了分析。研究结果表明 ,Ni W合金镀层表面存在一层薄的氧化膜 ,而钨的氧化作用远大于镍 ,Ni; 王宙许光宇王金玉杨德庄; 关键词：电沉积 X射线光电子能谱镍钨合金

感应烧结Fe-Cu-Al-石墨复合材料的力学性能和摩擦学性能被引量：3: 2011年; 为了进一步提高材料的力学性能和摩擦学性能,以感应加热烧结的方法,制备了Fe-Cu-Al-石墨复合材料。利用XRD,EDS,SEM等分析了复合材料的组成、结构、表面形貌;研究了其力学性能、摩擦学性能及磨损机理。结果表明:Fe-Cu-Al-石墨复合材料具有多孔结构;随着石墨含量的增加,复合材料的力学性能降低,摩擦学性能提高,石墨含量为4%时复合材料的摩擦学性能良好;在摩擦过程中,Fe-Cu-Al-石墨复合材料表面形成自润滑釉质层,摩擦机制由粘着磨损转变为磨粒磨损。; 付传起王宙; 关键词：摩擦学性能力学性能

三乙醇胺络合剂对化学镀Ni-W-P合金镀层结构与性能的影响被引量：1: 2016年; 目的研究以三乙醇胺作为络合剂对化学镀Ni-W-P合金镀层的组织结构和腐蚀性能的影响。方法以化学镀的方法在40Cr基体上制备Ni-W-P合金镀层,研究了三乙醇胺对Ni-W-P合金镀层的成分结构、沉积速率、耐蚀性和孔隙率的影响。结果三乙醇胺用量为8 m L/L时镀层W、P质量分数达到峰值,分别为3.63%、9.34%。三乙醇胺用量较低时,镀层具有非晶态结构;三乙醇胺用量达到12 m L/L时镀层开始出现晶态峰,具有混晶态结构。三乙醇胺浓度对镀层的沉积速率和孔隙率具有很大影响,三乙醇胺用量为10 m L/L时,镀速达到最大值14.1μm/h,用量为8 m L/L时,镀层的孔隙率最低,为0.07%。化学镀Ni-W-P合金镀层的耐蚀性随着三乙醇胺浓度的增加,具有先增加后降低的趋势,用量为8 m L/L时,镀层的腐蚀速率最低,为5.6μm/a,耐蚀性最好。结论以三乙醇胺作为络合剂能够得到胞状颗粒且颗粒均匀细小的Ni-W-P合金镀层,对镀层的结构具有一定的影响,可以提高Ni-W-P合金镀层的沉积速率。Ni-W-P合金镀层具有很好的耐蚀性,腐蚀速率最低为5.6μm/a。; 徐德奎王宙付传起马文海; 关键词：三乙醇胺镀层结构盐雾试验

化学镀Ni-Zn-P阳极复合结构镀层及制备工艺: 本发明所述的种化学镀Ni-Zn-P阳极复合结构镀层及制备工艺，是以化学镀Ni-P合金工艺为基础，在45号钢基体上通过二次施镀制备Ni-Zn-P阳极复合结构镀层；复合镀层由表面向基体依次由低电位层和高电位层构成；具体工艺步...; 付传起王宙

氮化硅减反射膜制备工艺对组织结构及折射率影响的研究被引量：3: 2019年; 太阳能电池是一种清洁能源,近年来发展迅猛。减反射膜能大幅减少太阳能电池对光线的反射,从而提高电池光电转化率。为优化减反射效果,减反射膜设计多样,包括单层膜、双层膜、三层膜和多层膜,膜层不同对薄膜材料的折射率要求不同。氮化硅薄膜是一种优秀的硅基太阳能减反射膜,其折射率在1.78-2.5之间,调控范围广。本文采用脉冲激光沉积法制备氮化硅减反射膜,研究不同工艺参数对硅片上沉积的氮化硅薄膜性能的影响。; 高越王宙付传起杨梓健项永矿; 关键词：脉冲激光沉积氮化硅薄膜太阳能电池

制动二硫化钼-Cu-Fe基摩擦材料的制备方法: 本发明所述的制动二硫化钼-Cu-Fe基摩擦材料的制备方法，是以Cu-Fe基合金为基体添加润滑组元MoS<Sub>2</Sub>、摩擦组元SiC和合金组元Mn和Cr，制备出了制动二硫化钼-Cu-Fe基摩擦材料；具体工艺步骤...; 付传起王宙李斌; 文献传递

真空蒸镀多晶硅薄膜工艺对其组织和性能的影响被引量：2: 2011年; 采用真空蒸镀并退火的方法制备多晶硅薄膜,采用透射电子显微镜对退火前后的样品进行了表征,通过原子力显微镜观察了薄膜的形貌,并测试了薄膜的耐压性能,分析了基板温度、基板距离和退火工艺对薄膜组织和性能的影响。实验结果表明:真空蒸镀所得薄膜为非晶硅薄膜,退火处理可使其多晶化,晶粒尺寸达0.5μm;基板温度120℃、基板距离60 mm为最佳工艺条件,采用该工艺所得多晶硅薄膜的耐压值可达384.2 V。; 曹健王宙室谷贵之付传起; 关键词：真空蒸镀退火多晶硅薄膜

生物陶瓷材料的发展与现状被引量：25: 2001年; 分别对惰性生物陶瓷、活性生物陶瓷和可吸收生物陶瓷的类型、性能特点与应用进行了详细地介绍；叙述了生物陶瓷材料的发展与现状，并对其前景作了展望．; 王宙李智蔡军; 关键词：生物医学工程学生物陶瓷材料

化学复合镀Ni-P/PTFE工艺研究被引量：1: 2004年; 探讨了粒子悬浮量、镀液温度、搅拌速度、表面活性剂含量及pH值等工艺条件对Ni-P/PTFE复合镀层中PTFE粒子的含量影响。研究表明,在一定工艺条件下,当活性剂(FCE)含量达到1g/L时,可以获得粒子含量为48vol%的Ni-P/PTFE复合镀层。; 王宙张旭昀李国祥赵福君李宏喜胡光远夏立芳郝文森; 关键词：化学复合镀