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戴传玮

作品数：2 被引量：13H指数：1
供职机构：复旦大学更多>>
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合作作者

题名
作者

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 2篇计算机
  • 2篇计算机模拟
  • 2篇计算机模拟研...
  • 2篇溅射
  • 2篇薄膜生长
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇靶材
  • 1篇场分布
  • 1篇场强
  • 1篇磁场
  • 1篇磁场分布
  • 1篇磁场强度
  • 1篇全过程

机构

  • 2篇复旦大学

作者

  • 2篇戴传玮
  • 1篇顾昌鑫
  • 1篇孙琦
  • 1篇单莉英

传媒

  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 2篇2009
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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磁控溅射薄膜生长全过程的计算机模拟研究被引量：12
2009年
本文通过建立多尺度模型,结合模拟了磁控溅射中溅射原子的产生、溅射原子的碰撞传输、以及最终成膜的全过程,研究了基板温度、溅射速率、磁场分布和靶材-基板间距对薄膜生长过程与薄膜性能的影响。模拟结果显示,提高基板温度或降低溅射速率都会增加初期生长阶段薄膜的相对密度;磁场对靶的利用率有显著的影响,而对薄膜最终形貌的影响不大;增大靶材-基板间距会降低薄膜的粗糙度。
戴传玮顾昌鑫孙琦单莉英
关键词：磁控溅射薄膜生长
磁控溅射薄膜生长的计算机模拟研究
磁控溅射自20世纪70年代诞生以来,因较高的沉积率和成膜质量而成为薄膜制备的重要手段之一,被广泛应用于集成电路制造、特殊功能材料涂层及材料改性等诸多领域。由于当前溅射成膜工艺的控制在很大程度上仍然依赖于实验经验,因此,模...
戴传玮
关键词：磁控溅射磁场分布磁场强度
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