周俊峰
- 作品数：13 被引量：17H指数：3
- 供职机构：上海大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：金属学及工艺理学冶金工程更多>>
- 稳恒强磁场对Fe-Si复合电沉积行为的影响
- 采用软磁性Fe-Si合金颗粒以及弱抗磁性Si颗粒在稳恒磁场下采用复合电沉积法制备Fe-Si镀层,考察了磁感应强度(B)、磁场与电流(J)方向以及电极排布方式对不同颗粒在电镀过程的迁移行为的影响.研究结果表明,当采用水平电...
- 钟云波龙琼周俊峰任维丽雷作胜任忠鸣
- 关键词：稳恒强磁场硅含量镀层形貌
- 文献传递
- 电流复合扩散法连续制备高硅硅钢薄带的方法及装置
- 本发明公开了一种电流复合扩散法连续制备高硅硅钢薄带的方法及装置，应用于硅钢制备工艺技术领域。本发明将预先制备好的待处理硅钢基带放入真空热处理炉中并通过外部电源对基带施加一定电流密度的直流电流或脉冲电流，然后使薄带处于适当...
- 钟云波石亚杰周俊峰
- 文献传递
- 电流复合扩散法连续制备高硅硅钢薄带的方法及装置
- 本发明公开了一种电流复合扩散法连续制备高硅硅钢薄带的方法及装置，应用于硅钢制备工艺技术领域。本发明将预先制备好的待处理硅钢基带放入真空热处理炉中并通过外部电源对基带施加一定电流密度的直流电流或脉冲电流，然后使薄带处于适当...
- 钟云波石亚杰周俊峰
- 垂直稳恒磁场下Fe-纳米Si颗粒复合电沉积被引量：11
- 2014年
- 在垂直稳恒磁场中采用纳米复合电沉积法制备Fe--Si复合镀层.研究了磁场强度和电流密度对阴极电流效率和镀层Si颗粒含量的影响规律,并采用扫描电子显微镜和能谱对所得镀层进行分析.施加垂直磁场后,随着磁场强度增大,阴极电流效率呈现先上升后下降的趋势;镀层Si颗粒质量分数在0.2T达到最大值20.17%,比无磁场下提高了10.4%;镀层表面形貌也发生显著变化,多处形成"山脊","山脊"延伸方向与磁流体力学效应方向一致,分布数量和延伸长度与磁场强度成正比.由于磁流体力学效应,施加磁场还改变了镀层表面气孔形貌,促进氢气的析出.
- 周鹏伟钟云波龙琼孙宗乾范丽君郑天祥周俊峰
- 关键词：复合镀层电沉积磁场磁流体力学硅钢
- 颗粒导电性对铁-硅复合镀层形貌及硅含量的影响被引量：4
- 2014年
- 将硅含量(质量分数)为30%,50%和70%的铁硅合金粉和纯硅粉作为复合电沉积法制备高硅镀层的颗粒,研究颗粒的导电性对镀层形貌及硅含量的影响。研究结果表明:颗粒硅含量越低,其导电性越高;采用水平电极电镀时,颗粒硅含量是影响镀层硅含量的主要因素;而采用竖直电极电镀时,颗粒的电导率是影响镀层硅含量的主要因素,由Fe-30%Si合金颗粒电镀获得的镀层硅含量最高,而且镀层中颗粒形貌由原来不规则状变为圆丘状,而纯硅颗粒形貌没有发生明显变化,说明在电镀的过程中颗粒的导电性能促进其共沉积。
- 龙琼钟云波李甫王怀周俊峰任维丽雷作胜
- 关键词：复合电沉积导电率
- 热浸镀硅法制备高硅硅钢薄带的方法及硅钢带连续制备装置
- 本发明公开了一种热浸镀硅法制备高硅硅钢薄带的方法，控制传输备用基础薄带并使其通过热浸镀池的热浸镀液，使备用基础薄带表面覆盖上一层热浸高硅镀层，然后通过对热浸高硅镀层的厚度和表面平整度进行修饰控制，得到高硅复合镀层钢带坯料...
- 钟云波龙琼董立城李甫李明杰周俊峰任维丽雷作胜
- 文献传递
- 真空磁控电弧重熔精炼金属的方法及装置
- 本发明公开了一种真空磁控电弧重熔精炼金属的方法及装置，通过在真空电弧重熔电极末端和金属熔池位置外围施加一磁场发生器提供轴向磁场，磁场发生器由两组同芯线圈组成，分别通直流电流和交流电流，通直流电流产生的稳恒磁场成分对沿径向...
- 钟云波方贻鹏周俊峰王怀
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- 热浸镀硅法制备高硅硅钢薄带的方法及硅钢带连续制备装置
- 本发明公开了一种热浸镀硅法制备高硅硅钢薄带的方法，控制传输备用基础薄带并使其通过热浸镀池的热浸镀液，使备用基础薄带表面覆盖上一层热浸高硅镀层，然后通过对热浸高硅镀层的厚度和表面平整度进行修饰控制，得到高硅复合镀层钢带坯料...
- 钟云波龙琼董立城李甫李明杰周俊峰任维丽雷作胜
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- MHD流动对Fe-纳米Si颗粒复合电沉积行为影响的研究
- 周鹏伟钟云波周俊峰郑天祥
- 稳恒磁场对Fe-Si复合电镀层形貌及Si含量的影响被引量：10
- 2013年
- 将平均粒径为2μm的Si粉分散于镀铁液中,对水平稳恒磁场下复合电沉积法制备Fe-Si复合镀层过程进行了研究,探讨了磁感应强度及位向、电流密度等对Fe-Si复合镀层形貌及Si含量的影响规律.结果表明,采用竖直电极电镀时,在0—1 T磁感应强度下,无论施加平行磁场还是垂直磁场,镀层Si含量均随着磁场强度的增加而增加,特别对平行磁场而言,镀层Si含量从无磁场的1.23%(质量分数,下同)增加到1 T时的39.80%;采用水平电极电镀时,由于重力沉降效应,阴极镀层Si含量可高达37.94%,然而施加垂直磁场后,复合镀层Si含量随磁感应强度增加而急剧下降,1 T时仅为2.83%,并且阴极镀层表面出现与磁场方向垂直的条状铁基质突出物,同时微米Si颗粒沿着突出物延伸方向分布.在1 T磁场下,无论是水平电极还是竖直电极,施加垂直磁场电镀获得的镀层Si含量均随着电流密度的增大而减小,但竖直电极平行磁场电镀获得的镀层Si含量随着电流密度的增加而先增大后减小,在20 mA/cm2时镀层颗粒含量达到最大值.理论分析表明,施加不同位向的稳恒磁场后,电解液中形成的宏观磁流体动力学(MHD)效应和微区MHD效应,是影响复合镀层形貌和Si含量的关键原因.
- 龙琼钟云波李甫刘春梅周俊峰范丽君李明杰
- 关键词：稳恒磁场复合电沉积
