刘曦
- 作品数：7 被引量：10H指数：2
- 供职机构：青岛大学化学化工与环境学院更多>>
- 发文基金：青岛市科技发展计划项目山东省自然科学基金国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：一般工业技术理学化学工程更多>>
- AAO模板法组装Ni亚微米阵列被引量：1
- 2010年
- 为了制备结构规整、长度可控的金属Ni亚微米阵列,以多孔阳极氧化铝(AAO)为模板,采用直流电沉积法进行了Ni亚微米阵列的制备研究,并利用SEM,TEM,XRD等测试手段对其微观形貌和结构进行了表征。结果表明:此法制得的Ni亚微米阵列结构规整、直径与模板孔径基本一致,约为250 nm,是结构紧密的多晶体。并通过控制电沉积的时间,制备出不同长度的Ni纳米线,讨论了电沉积时间对纳米线长度的影响。
- 佘希林宋国君王士财李建江刘曦周迪
- 关键词：AAO模板法电化学沉积阵列
- 溶液浸润模板法制备图案化ABS纳米管阵列
- 2010年
- 采用紫外光刻技术首先制备了图案化的阳极氧化铝(AAO)模板,以此作为"二次模板",以不同浓度的ABS溶液浸润模板,成功地制备了不同结构的ABS纳米管阵列。用扫描电镜(SEM)对其微观形貌进行表征,结果显示,所获得的ABS纳米管阵列排列规整,高度有序,与掩膜的图案完全一致。并且讨论了溶液浓度对纳米管壁厚的影响。
- 刘相红李晓茹宋国君彭智刘曦李培栋
- 关键词：图案化
- 图案化一维聚合物纳米阵列制备及生长机理研究
- 本文主要利用紫外光刻法在多孔阳极氧化铝模板上复制掩模预设的图案。探索了影响模板图案化的条件。经过研究后发现，图案化直径为lcm的多空氧化铝模板最佳的光刻条件为：匀胶量为0.2ml，曝光时间为50s，显影时间为20s。并且...
- 刘曦
- 文献传递
- 图案化聚苯乙烯一维纳米结构阵列的研究被引量：2
- 2008年
- 采用紫外光刻技术对阳极氧化铝(AAO)模板进行图案化,再采用 AAO 模板物理浸润技术,以聚苯乙烯(PS)溶液浸润图案化的 AAO 模板,制得图案化的 PS 一维纳米结构阵列;采用扫描电子显微镜对图案化的 AAO 模板和 PS 一维纳米结构阵列进行表征。表征结果显示,通过紫外光刻技术,可以制得有清晰图案的 AAO 模板,模板上有直径为5μm的圆形图案,圆形图案间的距离也为5μm;以质量分数10.0%的 PS 溶液浸润图案化的 AAO 模板,当光刻胶用量为0.2 mL 时能得到图案化的 PS 一维纳米结构阵列;当光刻胶用量为0.3 mL 时,只能制得光刻胶的纳米结构阵列,不能制得图案化的 PS 一维纳米结构阵列。
- 佘希林宋国君王树龙孙峋李建江刘曦
- 关键词：紫外光刻图案化聚苯乙烯一维纳米结构阵列
- 铜金属纳米线的制备及其图案化被引量：3
- 2007年
- 采用电化学沉积法在孔径为200 nm的阳极氧化铝膜AAO模板中成功制备了Cu金属纳米线阵列、结合紫外线光刻法组装了图案化铜纳米线阵列。电化学沉积法可通过控制沉积时间来获得具有不同长径比的铜纳米线阵列;图案化的纳米线排列规整,高度有序;且纳米线组成的形状与掩膜相同。
- 周迪佘希林宋国君孙峋刘曦
- 关键词：铜纳米线电化学沉积法图案化AAO
- 图案化铜纳米线阵列的制备被引量：1
- 2008年
- 采用紫外光刻法制得图案化的阳极氧化铝模板。在模板上蒸镀金膜后,采用电化学沉积法制备了铜纳米线,用扫描电子显微镜观察,研究了最佳电化学沉积时间。结果表明,铜纳米线阵列的图案与掩膜的图案完全一致,呈直径约5μm的圆形。铜纳米线的长度随沉积时间的增加而增长,沉积时间20min,即可制得长度约5μm的铜纳米线阵列结构。在此基础上可研制微器件。
- 刘曦佘希林宋国君孙峋王树龙
- 关键词：图案化铜纳米线阵列结构
- 纳米TiO_2太阳能电池电极修饰研究进展被引量：3
- 2010年
- 综述了近年来国内外在TiO2太阳能电池电极修饰技术方面的研究成果,重点介绍了有关纳米TiO2薄膜电极和TiO2纳米管电极修饰技术的研究进展,包括半导体复合掺杂、过渡金属离子掺杂、非金属离子掺杂、导电高聚物掺杂和贵金属沉积掺杂等。并对该工作和今后的研究问题进行了总结和展望。
- 佘希林刘曦宋国君李建江李晓茹
- 关键词：太阳能电池TIO2薄膜纳米管电极修饰
