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文献类型

  • 6篇中文期刊文章

领域

  • 5篇理学
  • 1篇电子电信

主题

  • 3篇电子偶素
  • 3篇正电子
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  • 1篇电子能量
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  • 1篇真空
  • 1篇入射能
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  • 1篇漂移速度
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  • 1篇溅射制备
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  • 1篇SI薄膜
  • 1篇
  • 1篇表面态

机构

  • 6篇中国科学技术...

作者

  • 6篇郭学哲
  • 6篇翁惠民
  • 5篇韩荣典
  • 2篇徐纪华
  • 1篇赵特秀
  • 1篇刘宏图
  • 1篇王晓平
  • 1篇秦敢
  • 1篇施一生

传媒

  • 2篇物理学报
  • 2篇原子与分子物...
  • 1篇高能物理与核...
  • 1篇中国科学技术...

年份

  • 1篇1994
  • 2篇1992
  • 1篇1991
  • 2篇1990
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
一台慢正电子束实验装置
1990年
本文介绍一台磁聚焦传输的慢正电子束装置.在该装置上用Ni+MgO 慢化体产生了慢正电子,测量了慢正电子能谱,并和其他实验组用Au(Pt,不锈钢)+MgO慢化体所得实验结果进行了比较.
韩荣典翁惠民郭学哲谢力
关键词:能谱
电子偶素(Ps)原子n=2激发态的测量被引量:1
1992年
利用延迟符合技术,以Ps原子的退激信号为起始信号,以退激后基态Ps湮灭γ光子信号为终止信号,测量Psl^3S_1基态寿命谱可以证明Ps原子激发态的存在。根据本实验测量系统探测器的探测效率以及Ps原子束的绝对强度,在考虑了正电子传输磁场对探测器的影响的修正后,本实验给出在产生真空Ps原子时约1%的Ps原子处于n=2的激发态,和国外报道的结果相近。
韩荣典翁惠民徐纪华郭学哲秦敢
关键词:原子束激发态
真空电子偶素产额法测定正电子在固体中的扩散参数
1990年
本文报告一个新的实验方法,可以从实验上测定正电子在金属中的扩散参数。过去,用加电场E测正电子漂移速度V,由迁移率μ=V/E,通过关系式D_+=μKT/e求出扩散系数D_+。此法只能用于半导体和非金属材料,对于金属只能靠理论估算。本文所述真空电子偶素产额法不但适用于半导体和非金属,而且适用于金属材料。对于金属材料这也是目前唯一能用的方法。
翁惠民郭学哲韩荣典徐纪华孙晓舞
关键词:电子偶素漂移速度电子能量入射能量
真空电子偶素原子的产生
1991年
用慢正电子束入射固体靶表面,通过测量湮没光子能谱随靶温度和入射慢正电子能量的变化,用“峰法”确定慢正电子产生电子偶素原子的转换率。转换率依赖于靶材料、靶温度和入射慢正电子能量。对材料锗转换率可达80%。
韩荣典郭学哲翁惠民石星军谢力
关键词:电子偶素原子
锗的正电子表面态的测量研究
1992年
通过测量低能正电子入射到锗(Gc)靶的电子偶素产额随靶温度的变化,测定了在真空度为 1.33×10^(-4)Pa 时锗的正电子表面态的束缚能E_b=2.2eV;Ps形成的激活能E_a=0.2±0.01eV。讨论了高真空与超高真空条件下E_b,E_a的变化。
郭学哲翁惠民韩荣典
关键词:正电子表面态
多层溅射制备WSi_x/Si薄膜的电阻率特性研究被引量:2
1994年
利用多层溅射技术制备了WSi_x/Si薄膜,然后测量其平面电阻的退火行为,发现平面电阻在600-700℃之间退火后有陡降,这对应于非晶WSi_x薄膜中W_5Si_3四角相的形成。x射线衍射和慢正电子湮没测量也证实了这一点。认为薄膜电阻率的突变反映了导电机制的变化,它和薄膜结构的变化有很好的对应关系。
王晓平赵特秀刘宏图施一生翁惠民郭学哲
关键词:硅化钨溅射电阻率
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