徐金洲
- 作品数：17 被引量：24H指数：3
- 供职机构：东华大学理学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金上海市科委纳米专项基金长江学者和创新团队发展计划更多>>
- 相关领域：理学轻工技术与工程电气工程更多>>
- 射频等离子体功率参数对硅基发光薄膜生长与结构的影响
- 2012年
- 采用射频等离子体化学气相沉积(RF-PECVD)技术,以SiH4和Ar的混合气体为源气体,在石英玻璃衬底上制备了硅基发光薄膜.利用场发射扫描电子显微镜(FESEM)、X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)和傅里叶红外光谱(FTIR)对薄膜的形貌、结构和性能进行了表征,并利用发射光谱(OES)对薄膜等离子体生长过程进行了分析.研究结果表明,随着射频功率的增加,等离子体发射光谱中Hβ谱线强度激增,薄膜的红外光谱中Si—O键在1095cm-1处振动吸收峰强度减小,Si—Si键在613cm-1处特征吸收峰强度增加,说明射频功率增加加剧了硅烷的裂解与氧化硅的还原,提高了薄膜结晶度和纳米晶粒的融合度,并降低了沉积薄膜的表面粗糙度.
- 邵宇光杨沁玉王德信石建军徐金洲郭颖张菁
- 同轴微波共振探针诊断大气压等离子体射流的仿真被引量：1
- 2015年
- 介绍了一种用于诊断大气压等离子体射流的同轴微波共振探针,利用微波传输线理论分析了探针共振谱与等离子体参数之间的关系.通过仿真模拟得知,探针的共振频率不受等离子体参数的影响,其共振频率与在空气中的共振频率一致;共振半高宽与等离子体的电子密度成正比,与电子温度成反比.根据分析与模拟结果,获得了一种诊断大气压等离子体射流的方法,研究同时表明,探针材料的电导率是产生误差的重要原因.
- 汪金凤严威陆知遥张弛徐金洲
- 一种大气压微放电等离子体处理材料表面的装置及方法
- 本发明涉及一种大气压微放电等离子体处理材料表面的装置及方法，同轴套置金属棒状电极和介质阻挡管形成电极-介质管，并行排列若干这样的电极-介质管成一个电极阵列面，上电极阵列面接高压线，下电极阵列面接地，电极轴向间夹角为0-1...
- 孙立群李赛刁颖徐金洲石建军钟方川张菁
- 等离子体对壳聚糖整理棉织物效果的影响被引量：13
- 2007年
- 研究等离子体预处理技术对棉织物壳聚糖功能整理效果的影响.比较3种不同的整理方法.第1种是用柠檬酸及壳聚糖的混合溶液进行一浴整理;第2种是先用柠檬酸溶液再用壳聚糖溶液进行两浴处理;第3种是使用等离子体预处理织物后再经两浴法整理.使用酸性橙Ⅱ对整理后织物染色并测试K/S值.通过测试织物大肠杆菌和金黄色葡萄球菌的抗菌率考察其抗菌性.结果表明,经等离子体预处理后再经两浴法整理的织物的K/S值以及抗菌率较一浴法或两浴法都有所提高,对大肠杆菌和金黄色葡萄球菌的抗菌率高达100%.
- 彭晓波徐绍魁徐金洲张菁
- 关键词：等离子体壳聚糖棉织物
- 纳米晶多孔TiO<Sub>2</Sub>薄膜及其制备方法
- 本发明涉及一种纳米晶多孔TiO<Sub>2</Sub>薄膜及其制备方法，该薄膜是TiOn结构的薄膜，其中n为1.5－2.5，多晶晶体结构，晶粒尺度10－500nm，孔径10－5000nm；制备方法，包括：(1)将基体材料...
- 李岩徐绍魁刘伟何涛过凯孙滨璇陆修来杨沛林徐金洲张菁
- 文献传递
- 大气压平面放电化学气相沉积纳米颗粒膜方法及装置
- 一种大气压平面放电化学气相沉积纳米颗粒膜的方法及装置，其特征是在大气压化学气相沉积装置的反应器中增加气流分配器，使气体均匀流过放电区并在基材包括软基材表面均匀、快速地沉积具有相同组分的膜层。在装置的反应器中放置不同个数的...
- 徐金洲徐绍魁周荃彭小波张菁
- 文献传递
- 一种大气压微放电等离子体处理材料表面的装置及方法
- 本发明涉及一种大气压微放电等离子体处理材料表面的装置及方法，同轴套置金属棒状电极和介质阻挡管形成电极-介质管，并行排列若干这样的电极-介质管成一个电极阵列面，上电极阵列面接高压线，下电极阵列面接地，电极轴向间夹角为0-1...
- 孙立群李赛刁颖徐金洲石建军钟方川张菁
- 文献传递
- 大气压等离子体处理纤维束或纤维线绳表面装置及方法
- 本发明涉及一种大气压等离子体处理纤维束或纤维线绳表面装置及方法，同轴套置石英内套管和石英外套管构成气体放电等离子体区，石英内套管的内表面或外表面通过真空蒸镀沉积金属膜形成高压电极；石英外套管外表面套接不锈钢丝网和水膜夹层...
- 徐金洲张菁王德兴
- 文献传递
- 一种二氧化钛立方锥晶体的制备方法
- 本发明涉及一种二氧化钛立方锥晶体的制备方法，其特征在于，采用常压低温射频介质阻挡辉光放电方法，将放电气体通入介质阻挡放电等离子体反应器中，通射频交流电使所述放电气体放电产生等离子体射流，将前驱体和载气送入等离子体区进行反...
- 王德信郭颖徐金洲杨沁玉石建军张菁
- 文献传递
- 纳米多孔硅基薄膜的常压等离子体化学气相沉积过程研究被引量：4
- 2008年
- 采用常压等离子体化学气相沉积(APECVD)的方法制备了带有新颖结构和特殊蓝紫光(400nm左右)发光特性的硅基薄膜.通过在自行研制的等离子体反应装置中通入按100∶1∶1的体积比进行配比的SiH4∶H2∶Ar混合气体进行APECVD,在加负偏压条件下获得了由Si基组成的絮状多孔纳米结构薄膜.通过等离子体发射光谱测定了沉积过程中的电子温度在2.2eV左右,扫描电子显微镜(SEM)观测薄膜表面形貌后肯定了偏压对薄膜纳米结构的形成起着重要的作用.
- 夏磊周荃徐金洲张菁
