吕长东
- 作品数：4 被引量：8H指数：2
- 供职机构：天津师范大学物理与材料科学学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：金属学及工艺理学一般工业技术机械工程更多>>
- 不同氩气流量下溅射所得TiO_x薄膜的结构和光学性能
- 2014年
- 为探究不同氩气流量对TiOx薄膜结构和光学性能的影响,采用常温反应磁控溅射法,在K9双面抛光玻璃基底上制备TiOx薄膜样品,利用X线衍射分析样品的晶体结构,通过原子力显微镜观察样品表面结构,使用光栅光谱仪测试样品透射率,并计算得到薄膜沉积速率和消光系数等光学参数.实验结果表明:氩气流量对TiOx薄膜的光学性能具有较为明显的影响,随着氩气流量的增加,薄膜的光学厚度和沉积速率随之增加,而折射率有微小增加,消光系数受氩气流量的影响不大.
- 刘春伟黄美东杜姗唐晓红吕长东
- 关键词：氧化钛薄膜磁控溅射透射谱
- 氧氩流量比对溅射氧化钒薄膜结构和光学性能的影响被引量：3
- 2013年
- 采用射频反应磁控溅射方法制备氧化钒(VOx)薄膜,对样品的沉积速率、物相结构、表面形貌和可见光波段的透过率进行表征,研究了在沉积气压一定的情况下,氧氩流量比对氧化钒薄膜结构和光学性能的影响。结果表明,改变氧氩流量比可明显改变薄膜结构,随着氧气比例的增加,沉积速率下降,薄膜表面出现了颗粒结构,颗粒尺寸具有增大的趋势,光透过率增大。
- 杜姗黄美东刘春伟唐晓红吕长东
- 关键词：氧化钒薄膜反应磁控溅射
- Ar流量对溅射氧化钛薄膜结构和光学性能的影响
- 采用反应磁控溅射法于常温条件下在K9双面抛光玻璃基底上制备氧化钛薄膜。溅射功率为100 W,基底负偏压为80 V,工作气压为0.8 Pa,基底不加热(只受到粒子轰击而升温)的条件下,通过改变Ar流量,在基底上沉积一组Ti...
- 刘春伟黄美东唐晓红吕长东
- 文献传递
- 氮气流量对磁控溅射TiN膜层色泽的影响被引量：5
- 2013年
- 在国产SA-6T型离子镀膜机上利用反应直流溅射方法,在抛光后的W18Cr4V高速钢基体表面制备TiN膜层,考察氮气流量对薄膜色泽的影响。用扫描电镜对薄膜表面形貌进行观测,发现沉积的TiN膜层质量良好,无孔洞,表面平整、致密。采用色度计定量测试了TiN薄膜的色泽,并分析了氮气流量对色泽的影响。结果表明,氮气流量即沉积气压对装饰镀TiN薄膜的颜色有重要影响,通过调节氮气流量,可有效改变TiN膜层的色泽。TiN薄膜的颜色随氮气流量增大而加深。
- 吕长东黄美东刘野许世鹏薛利
- 关键词：TIN薄膜磁控溅射色泽氮气
