博海洋
- 作品数：24 被引量：45H指数：3
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- 相关领域：一般工业技术化学工程理学轻工技术与工程更多>>
- 一种液相自组装方法在玻璃基板上制备铁酸铋功能薄膜的方法
- 本发明公开了一种液相自组装方法在玻璃基板上制备铁酸铋功能薄膜的方法，按照以下步骤：(1)清洗玻璃基板；(2)在到干净基片上沉积制备OTS自组装膜层；(3)配制BiFeO<Sub>3</Sub>前驱液；(4)制备铁酸铋功能...
- 郑玉芹谈国强博海洋
- 文献传递
- 自组装单层膜表面制备BiFeO_3图案化薄膜的研究被引量：1
- 2009年
- 采用短波紫外光（UV）对十八烷基三氯硅烷（OTS）自组装单分子层（SAMs）进行刻蚀,利用化学液相法在OTS-SAMs模板表面制备出铁酸铋（BiFeO3）图案化薄膜。通过接触角、X射线衍射（XRD）、扫描电镜（SEM）、X射线能谱（EDS）等测试手段对OTS膜和BiFeO3薄膜进行表征。结果表明：以OTS为模板利用化学液相法成功制备出边缘轮廓清晰、条纹宽度为10～20μm的BiFeO3图案化薄膜。
- 谈国强宋亚玉苗鸿雁博海洋夏傲
- 关键词：自组装图案化
- 铁酸铋功能陶瓷薄膜的液相自组装制备
- 2009年
- 利用自组装单层膜技术,以三氯十八烷基硅烷(octadecyl trichlorosilane,OTS)为模板,以硝酸铋和硝酸铁为原料,在玻璃基片上成功制备了铁酸铋(BiFeO3)晶态薄膜。采用接触角仪测量了紫外光照射后OTS单层膜的亲水性。通过X射线衍射、扫描电镜和能谱仪等表征了BiFeO3薄膜的物相、表面形貌及微观结构。结果表明:紫外光照射使OTS单层膜由原来的强疏水性转变为良好的亲水性,说明OTS自组装膜层表面已被羟基化。在70℃沉积8h并经600℃退火2h制备的BiFeO3薄膜结晶良好,薄膜样品的表面平整,厚度较为均匀,薄膜厚度约为100nm。
- 谈国强博海洋苗鸿雁夏傲贺中亮
- 关键词：自组装单层膜铁酸铋
- 一种微波水热法制备铁酸铋粉体的方法
- 本发明公开了一种微波水热法制备铁酸铋粉体的方法，(1)将FeCl<Sub>3</Sub>·6H<Sub>2</Sub>O和Bi(NO<Sub>3</Sub>)<Sub>3</Sub>·5H<Sub>2</Sub>O配成母...
- 谈国强郑玉芹章薇宋丽花博海洋
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- 一种微波水热法制备软铋矿粉体的方法
- 本发明公开了一种微波水热法制备软铋矿(Bi<Sub>25</Sub>FeO<Sub>40</Sub>)粉体的方法，(1)将FeCl<Sub>3</Sub>·6H<Sub>2</Sub>O和Bi(NO<Sub>3</Sub...
- 谈国强郑玉芹魏莎莎程蒙博海洋
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- 一种微波水热法制备Bi<Sub>25</Sub>FeO<Sub>40</Sub>-BiFeO<Sub>3</Sub>粉体的方法
- 本发明公开了一种微波水热法制备新型光催化材料Bi<Sub>25</Sub>FeO<Sub>40</Sub>-BiFeO<Sub>3</Sub>粉体的方法，(1)将FeCl<Sub>3</Sub>·6H<Sub>2</Su...
- 谈国强郑玉芹宋丽花程蒙博海洋
- 文献传递
- 一种液相自组装方法在玻璃基板上制备铁酸铋功能薄膜的方法
- 本发明公开了一种液相自组装方法在玻璃基板上制备铁酸铋功能薄膜的方法，按照以下步骤：(1)清洗玻璃基板；(2)在到干净基片上沉积制备OTS自组装膜层；(3)配制BiFeO<Sub>3</Sub>前驱液；(4)制备铁酸铋功能...
- 郑玉芹谈国强博海洋
- 文献传递
- 硅基图案化HfO_2表面微结构的制备和表征被引量：1
- 2009年
- 结合光刻印技术和HfO2液相自组装沉积成膜技术,在单晶硅表面成功地制备了具有微米级图案结构的HfO2薄膜,该硅基图案化HfO2微结构近来在工业界特别是微电子领域引起极度的关注。X射线衍射(XRD)与扫描电镜(SEM)显示,在图案区域成功制备了HfO2薄膜,EDS能谱测试显示了图案区域的HfO2薄膜的化学组成。
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- 基于紫外光辐照改性自组装单层膜图案化表面的铁酸铋薄膜制备与表征被引量：1
- 2010年
- 采用自组装单层膜(self-assembled monolayers,SAMs)技术在玻璃基板表面制备了十八烷基三氯硅烷(octadecyltrichlorosilane,OTS)-SAMs,将OTS-SAMs基体在光掩膜覆盖下用紫外光进行刻蚀,得到含有亲水性和疏水性区域的模板,利用液相沉积法在OTS-SAMs模板表面制备了铁酸铋(BiFeO3)图案化薄膜。通过接触角仪、原子力显微镜、X射线衍射、扫描电镜、X射线能谱仪等测试手段对OTS膜和BiFeO3薄膜进行表征。结果表明:以OTS为模板利用液相沉积法制备出边缘轮廓清晰、粗糙度较小,与基板结合力较强,条纹宽度为10～20μm的BiFeO3图案化薄膜。
- 谈国强宋亚玉苗鸿雁博海洋夏傲
- 关键词：自组装单层膜紫外光铁酸铋图案化
- 二氧化铪(HfO_2)薄膜制备的研究进展被引量：2
- 2009年
- 随着集成电路的迅速发展,高K值柵介质材料将成为下一代MOS器件最具有希望的候选材料,HfO2具有宽带隙和高介电常数而备受关注。本文简述了HfO2薄膜的制备方法及研究进展。
- 谈国强贺中亮刘剑博海洋宋亚玉娄晶晶李锋娟
- 关键词：HFO2
