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黄晓阳

作品数：5 被引量：11H指数：2
供职机构：四川大学物理科学与技术学院物理学系更多>>
发文基金：国家自然科学基金国家重点实验室开放基金国家教育部博士点基金更多>>
相关领域：电子电信理学机械工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 4篇电子电信
  • 3篇机械工程
  • 3篇理学

主题

  • 4篇光学邻近效应
  • 2篇散射
  • 2篇相干
  • 2篇邻近效应校正
  • 2篇计算机
  • 2篇计算机模拟
  • 2篇计算机模拟研...
  • 2篇光学邻近效应...
  • 2篇部分相干
  • 1篇掩模
  • 1篇空间法
  • 1篇激光
  • 1篇激光直写
  • 1篇光场
  • 1篇光场分布
  • 1篇光刻
  • 1篇光刻技术
  • 1篇分辨力
  • 1篇场分布
  • 1篇OPE

机构

  • 5篇四川大学

作者

  • 5篇黄晓阳
  • 3篇杜惊雷
  • 2篇郭永康
  • 1篇黄奇忠
  • 1篇孙国良
  • 1篇粟敬钦
  • 1篇曾阳素

传媒

  • 2篇微细加工技术
  • 1篇应用激光
  • 1篇激光技术

年份

  • 1篇2002
  • 2篇1998
  • 2篇1997
共 5 条 记 录，以下是 1-5
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排序方式：
光学邻近效应的计算机模拟研究
黄晓阳
关键词：光学邻近效应部分相干
畸变的掩模对光刻图形质量的影响被引量：2
2002年
基于描述激光直写邻近效应的双高斯函数之差抗蚀剂模型 ,计算分析了邻近效应带来的掩模加工的偏差 ,及其对光刻图形质量的影响。模拟结果表明 ,当掩模的特征尺寸为 1.5 μm时 ,激光直写所加工掩模的相对面积偏差达 5 % 。
杜惊雷曾阳素黄晓阳粟敬钦郭永康崔铮
关键词：激光直写分辨力掩模
光学邻近效应校正的新方法被引量：7
1997年
基于波前加工的观点，从调整像面光强分布出发，提出一种在掩模上添加亚分辨的亮暗衬线校正光学邻近效应的新方法，并详细讨论了添加这种亮暗衬线的规则及所获得的结果。
杜惊雷黄奇忠黄晓阳郭永康崔铮
关键词：光学邻近效应OPE光刻技术
基于光场分布的光学邻近效应校正被引量：3
1998年
本文基于改善光场分布的考虑，在掩模上添加了适当的散射条和抗散射条，成功地改善了像面的光场分布，达到了光学邻近效应校正的目的。
杜惊雷黄晓阳黄奇忠郭永康
关键词：光学邻近效应散射光场分布
光学邻近效应的计算机模拟研究
1998年
本文以部分相干光的衍射理论为基础，分析了掩模结构参量对衍射场分布的影响，讨论了光学邻近效应产生的物理机理，确定了其有效作用范围，为研究光学邻近效应校正打下了基础。
黄晓阳杜惊雷郭永康孙国良
关键词：部分相干光学邻近效应计算机模拟
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