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文献类型

  • 9篇中文期刊文章

领域

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主题

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机构

  • 5篇中国科学院
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  • 2篇中国科学院化...
  • 1篇陕西科技大学

作者

  • 9篇黄兰友
  • 2篇余健业
  • 2篇邵曼君
  • 1篇刘绪平
  • 1篇王克定
  • 1篇段岳
  • 1篇汪滨
  • 1篇吴明均
  • 1篇谢信能
  • 1篇赵万敏
  • 1篇程康

传媒

  • 6篇电子显微学报
  • 3篇仪器仪表学报

年份

  • 2篇1997
  • 1篇1996
  • 1篇1994
  • 1篇1992
  • 1篇1989
  • 1篇1983
  • 2篇1981
9 条 记 录,以下是 1-9
排序方式:
DX-4透射式电子显微镜设计与调试被引量:4
1981年
$DX-4透射电子显微镜的分辨率为2.04A!最高放大倍数为80万倍。本文介绍了DX-4电镜的设计原则,重点在于缩小镜筒体积方面。DX-4是高分辨率电镜中体积较小的。我们对透镜的最短绝对焦距、成象系统的畸变补偿以及透镜磁路设计等电子光学问题进行了研究,得到一些公式和结论,并用到DX-4电镜的设计中,证明这些结果是正确的。本文提供了这些公式和解决问题的途径,并讨论了DX-4电镜调试中的一些问题,分别说明了物镜合轴,物镜上下极靴对成象的不同影响等电子光学实验和高压电源稳定度的一种简便的直接测量方法,这种方法可以在电镜处于正常工作时进行测量。
黄兰友王克定金鹤鸣李成达钟治平
关键词:透射式成象系统高压电源高分辨率标记点测量方法
阴极形变引起的电子束漂移的实验和计算
1989年
用电子光学系统测量和数值计算两种方法,初步探讨了发叉式钨丝热阴极因热形变引起的电子枪交叉斑的横向漂移,以及电子束方向角的变化,得出了一定条件下的定量关系。
程康黄兰友
早期电子显微镜制造的回忆被引量:7
1996年
本文是作者对我国早期电子显微镜研制的个人回忆,包括对1958年和1959年在中国科学院长春光学精密机械研究所研制我国最早的两台电子显微镜的回忆。
黄兰友
关键词:电子显微镜
高温环境扫描电镜(KYKY1500)Ⅰ.成像原理及仪器特点被引量:6
1997年
本文简要地叙述了KYKY1500高温环境扫描电镜的一些基本概念:气体的电离效应,背底噪音,偏电压对信号电流的影响及图像形成的原理:并简单地介绍了本电镜的三个主要特殊系统(三级真空系统,环境信号探测系统及高温样品台)的结构与特点,此外,又给出了高温样品台中加热炉丝磁场对电子轨迹影响的计算结果。
余健业谢信能刘廷壁邵曼君邵曼君
关键词:成像原理电镜
高温环境扫描电镜(KYKY1500)Ⅱ.调试与应用被引量:7
1997年
本文扼要地叙述了KYKY1500高温环境扫描电镜在常温通气状态下及高温通气状态下,为获得分辨率优于60nm的图像所必须的参数选择,及在调试过程中所作的改进。同时。
邵曼君赵万敏肖骅昭段岳余健业黄兰友
关键词:电镜
具有夹层极靴的新型电子探针透镜的设计与计算
1983年
本文分析讨论了具有夹层极靴的新型探针透镜的设计计算方法。提出采用轴上线性增长线性下降的似优磁场分布,在工作距离给定后,仅用两个场形参量就可以唯一地确定透镜的场形,并可以获得近似最小的球差系数。本中从模型场出发,导出了夹层极靴的设计计算公式,介绍了它的计算机辅助设计方法。用所述方法设计的一个实际透镜,在工作距离L_s=30mm时,球差系数C_s=84mm,色差系数C_c=64mm,激励(NI)/((V_r)^(1/2))=8.0.在试样上方有50°的自由空间角。
雷贺宁黄兰友
关键词:电子探针球差设计原理形参加速电压磁场分布
在给定探针直径的条件下获取最大的上靶束流
1994年
对于一个电子探针系统,我们在考虑了它的球差、色差、衍射以及高斯斑大小的条件下,推导出了一个获得最佳放大倍数和孔径角的公式,这些最佳值可确保该系统在给定探针直径的条件下获得最大的上靶束流。本文中还将阐明:给定束径下使束流最大的最佳条件可同时满足在束流一定时使束径达到最小。本文并以一个实例说明上述公式的使用。
汪滨黄兰友
关键词:电子探针直径
磁电子透镜的磁路设计被引量:1
1981年
本文针对一些典型几何形状的磁路,特别是易于发生饱和的关键部位(如极靴锥面部分,透镜铁芯的根部),在对其磁力线分布提出相应的近似模型后,通过计算磁路表面的磁通密度,得出进入磁路的磁通量,结合磁路各部分的截面积,求得各处的磁通密度。所获结果简单而便于应用。用此方法设计了DX-4型透射电子显微镜和DX-3型扫描电子显微镜的物镜磁路。与实测结果偏差在20%以内。因此,在选用适当的保险系数后,用本文方法可作出近似而快速的磁路设计。
黄兰友刘绪平
关键词:磁路设计电子透镜磁通密度透射电子显微镜铁芯磁通计
DJ—2可变矩形电子束曝光机被引量:1
1992年
电子束曝光机用于制造超大规模集成电路掩模版。它由电子光学柱、工件台、图形发生器、计算机及控制系统组成。可变矩形电子束曝光机,具有生产效率高,图形产生灵活等优点。束斑形状的变化是通过投影两个方光栏的象来实现的,用静电偏转的方法把第一方光栏的象相对于第二方光栏移动,两者重合组成的矩形象经缩小并投身到工件台上得到一个可变的矩形束斑。
吴明均黄兰友
关键词:电子束曝光机曝光机VLSI
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