韩传余
- 作品数：8 被引量：4H指数：1
- 供职机构：中国科学院微电子研究所更多>>
- 相关领域：电子电信金属学及工艺更多>>
- 微等离子体三极管及其应用被引量：1
- 2010年
- 一种新型的微电子器件——微等离子体三极管近期被成功研制出来.它的问世奠定了未来更加节能、更加轻便的,具有更高分辨率和更高对比度的等离子体显示的新技术革命基础.文章介绍了微等离子体三极管的工作原理和基本特性,展望了它在发光显示领域的应用前景.
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- 微等离子体喷枪及其应用被引量：2
- 2010年
- 微等离子体喷枪是一类重要的微等离子体源,已成为近年国际上低温等离子体研究的热点课题之一。与常规等离子体喷枪相比,微等离子喷枪具有低功耗、低温度、高密度等特性。由于电极间隙小,适合于高气压或大气压下运行,因而微等离子体喷枪具有体积小、易于集成、便携等优势。目前研制的微等离子体喷枪主要有直流微空心阴极型、高频微DBD型、射频电容耦合型、射频电感耦合型、微波耦合型等放电形式。现阶段,微等离子体喷枪已在半导体制造领域、生物医学领域、航天推进领域进入了实用化阶段。本研究组研究制作了高频微DBD和射频电容耦合型结构的喷枪,将其应用于光刻胶去胶、材料表面改性及微生物灭菌领域,并对喷枪的放电特性进行了研究。基于本研究组的实验研究,本文综述了已有的各种微等离子体喷枪,介绍了各种微等离子体喷枪的结构和工作原理,以及在不同领域的研究和应用状况。
- 韩传余吴瑜王守国
- 关键词：常压等离子体
- 常压等离子体自由基束流清洗硅片新方法
- 一种常压等离子体自由基束流清洗硅片新方法，其特征在于：该新方法是采用一个常压介质阻挡等离子体发生器，工作气体可以采用氧气、氧/氩混合气体或空气来产生高密度的自由基，并在一定气体压力下把放电等离子体区产生的高密度自由基由喷...
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- 文献传递
- 常压介质阻挡型活性自由基清洗系统
- 本发明是一种新型的常压介质阻挡型活性自由基清洗系统，包括高压电极、介质阻挡层、接地电极、电源、移动机械手、加热装置以及进气和排气系统。该系统的特性在于高压电极由介质阻挡层包裹，在常压下即可在高压电极和接地电极的间隙中发生...
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- 文献传递
- 超低k介质材料低损伤等离子体去胶工艺进展被引量：1
- 2011年
- 介绍了三类常见的低k介质材料,并对空气隙(k=1)的发展进行了探讨;讨论了引起等离子体损伤的机理和传统的O2等离子体去胶工艺面临的困难;最后综述了近年来国际上提出的低损伤等离子体去胶工艺的研究进展。人们已经开发出一些对低k材料进行硅化处理的工艺,可以部分修复在刻蚀和去胶处理过程中被消耗掉的有机官能团。基于金属硬掩膜层和新型等离子体化学的集成方案将会展示出颇具前景的结果。
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- 关键词：空气隙等离子体损伤
- 一种应用于32nm以下技术节点的常压自由基束流清洗新方法
- 一种应用于32nm以下技术节点的常压自由基束流清洗新方法，其特征在于：该新方法是采用一个常压介质阻挡等离子体发生器，工作气体可以采用氮气、氮气/氢气的混合气体来产生高密度的自由基，并在一定气体压力下把放电等离子体区产生的...
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- 文献传递
- 常压等离子体阵列去除光刻胶的研究
- 设计并制作了一种新型的常压等离子体清洗装置。利用电流和电压探针对该等离子体的放电特性进行了研究。并且利用此装置对涂有光刻胶A Z9912的硅片进行了去胶的实验研究。实验中对比了O2和N2两种不同的气体作为放电气体,对这两...
- 韩传余王守国
- 常压双介质阻挡扁口型活性自由基清洗系统
- 本发明是一种新型的常压双介质阻挡扁口型活性自由基清洗系统，包括高压电极、介质阻挡层、接地电极、电源、移动机械手以及进气和排气系统。该系统的特性在于高压电极和地电极分别由介质阻挡层包裹，在常压下即可在高压电极和接地电极的间...
- 王守国赵玲利张朝前杨景华韩传余
- 文献传递
