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朱涛

作品数：9 被引量：10H指数：2
供职机构：中国科学院电工研究所更多>>
发文基金：国家重点基础研究发展计划国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域：电子电信金属学及工艺更多>>

合作作者

文献类型

  • 5篇专利
  • 2篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 3篇电子电信
  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 6篇工件台
  • 5篇光刻
  • 4篇极紫外
  • 3篇紫外光刻
  • 3篇极紫外光刻
  • 2篇掩模
  • 2篇投影光刻
  • 2篇投影光刻机
  • 2篇微动
  • 2篇微细加工
  • 2篇微细加工设备
  • 2篇晶片
  • 2篇控制模块
  • 2篇光刻机
  • 2篇光学扫描
  • 2篇仿真
  • 2篇长行程
  • 2篇磁悬浮
  • 1篇调节器
  • 1篇信号

机构

  • 9篇中国科学院

作者

  • 9篇朱涛
  • 8篇李艳秋

传媒

  • 1篇微细加工技术
  • 1篇纳米技术与精...
  • 1篇第十三届全国...

年份

  • 1篇2009
  • 1篇2008
  • 2篇2007
  • 2篇2006
  • 3篇2005
共 9 条 记 录，以下是 1-9
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排序方式：
极紫外光刻精密磁悬浮工件台
一种极紫外光刻精密磁悬浮工件台。它由微定位平台组件[117]、粗定位平台组件[125]、基座组件[132]组成；基座组件[132]位于最底部，粗定位平台组件[125]位于基座组件[132]正上方，可以相对基座沿Y向移动；...
朱涛李艳秋
文献传递
极紫外光刻机工件台精密机械及控制相关技术
极紫外光刻技术(EUVL)被称为最有发展潜力的下一代光刻技术，有望接替光学光刻，成为45nm以下光刻产业的主流技术。因而，该技术也是目前国际上先进光刻领域研究的热点。　　 件台是光刻机最关键的子系统之一，也是实现光刻机...
朱涛
极紫外光刻真空工件台技术研究被引量：2
2005年
在极紫外光刻系统中,真空工件台的运行精度、速度、加速度以及动态定位和扫描同步性能是影响整机成像质量、套刻精度和产率的重要因素。结合极紫外光刻机的工作原理和发展现状,论述了极紫外光刻机真空工件台系统的特征、组成及其关键技术。
朱涛李艳秋
关键词：工件台真空
可调节反射式光学物镜装调系统
一种可调节反射式光学物镜装调系统，包括三组调节器组件[2]、物镜[3]、传感器[21]、由AD转换卡[23]，单片机[24]，DA转换卡[25]，伺服放大器[26]组成的控制器[22]。传感器[21]发送来的模拟信号，首...
朱涛李艳秋
文献传递
步进扫描光刻机晶片台掩模台同步控制系统
一种步进扫描光刻机晶片台掩模台控制系统，其特征在于：它由主控制模块[13]、晶片台控制模块[12]、掩模台控制模块[10]和同步控制模块[11]组成。本发明采用带有扰动控制器的同步控制降低了扰动对晶片台及掩模台运动精度和...
朱涛李艳秋
文献传递
EUVL工件台的结构设计与优化
作为极紫外光刻机的一个关键子系统,真空工件台的运行精度、速度、加速度以及动态定位和扫描同步性能是影响整机成像质量、套刻精度和产率的重要因素.对于工件台的结构设计,体积小、轻量化、好的散热性是基本要求.基于上述原因,本文设...
朱涛李艳秋
关键词：仿真优化设计
文献传递
极紫外光刻精密磁悬浮工件台
一种极紫外光刻精密磁悬浮工件台。它由微定位平台组件[117]、粗定位平台组件[125]、基座组件[132]组成；基座组件[132]位于最底部，粗定位平台组件[125]位于基座组件[132]正上方，可以相对基座沿Y向移动；...
朱涛李艳秋
文献传递
步进扫描光刻机晶片台掩模台同步控制系统
一种步进扫描光刻机晶片台掩模台控制系统，其特征在于：它由主控制模块[13]、晶片台控制模块[12]、掩模台控制模块[10]和同步控制模块[11]，组成。本发明采用带有扰动控制器的同步控制降低了扰动对晶片台及掩模台运动精度...
朱涛李艳秋
文献传递
极紫外光刻机工件台设计及仿真(英文)被引量：2
2005年
作为极紫外光刻机的一个关键子系统,真空工件台的精度、速度、加速度、动态特性及同步性能对于光刻图形精度和光刻机的产率都起着重要作用．设计了一种适用于极紫外光刻机的真空工件台系统,该系统具有体积小、质量轻、精度高等特点．为了验证结构的合理性,还对工件台进行了结构仿真:包括静态仿真、瞬态仿真和模态仿真．仿真结果表明:结构设计合理,结构变形和固有频率均能满足光刻机的要求．
朱涛李艳秋
关键词：仿真
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