冯明
- 作品数：7 被引量：13H指数：3
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- SU-8胶曝光衍射效应的模拟及丙三醇补偿方法
- 2007年
- 基于SU-8胶的UV-LIGA技术是MEMS中制备高深宽比结构的一种重要方法,但由于衍射效应会使结构的侧壁不再垂直.根据菲涅耳衍射模型,考虑了丙三醇/SU-8界面的反射和折射现象,模拟了丙三醇填充在掩膜版和光刻胶之间时的刻蚀图形.计算结果与已有的实验进行了比较,模型基本可以描述这种光刻过程,可在设计时作为参考.
- 朱真黄庆安李伟华周再发冯明
- 关键词：SU-8胶菲涅耳衍射丙三醇
- ICP刻蚀中等离子体分布的模拟被引量：4
- 2005年
- 采用直接蒙特卡罗方法对反应器中的气体分布进行粒子模拟,从而得到在不同条件下的一组结果,给出了粒子浓度和温度与腔体尺寸的关系图。并对结果作出分析比较,得出不同的条件对粒子浓度以及温度等产生影响,结果对ICP刻蚀的工艺控制有参考价值。
- 冯明张鉴黄庆安
- 关键词：电感耦合等离子体
- SU-8胶深紫外光刻模拟被引量：5
- 2007年
- 综合了SU-8胶光刻过程中衍射、反射、折射、吸收率随光刻胶深度的变化及交联显影等各种效应,考虑了折射及吸收系数随时间的变化,建立了SU-8化学放大胶的光刻模型.模拟结果显示,该模型比现有的模拟方法结果更精确,与实验结果符合较好,可以在实际应用中对SU-8光刻胶的二维模拟结果进行有效预测.
- 冯明黄庆安李伟华周再发朱真
- 关键词：SU-8胶光刻模拟
- SU-8胶深紫外光刻模拟
- 随着信息技术的飞速发展，微型化与集成化是器件发展的两大趋势，MEMS(微机电系统)是其中一个热点领域，采用SU-8胶的UV光刻技术是制造MEMS的重要微细加工技术。传统的光刻胶已无法满足高深宽比要求的器件微结构。SU-8...
- 冯明
- 关键词：SU-8胶误差分析微加工技术
- 文献传递
- SU-8胶在深紫外光源下的光强分布模拟
- 本文根据菲涅尔衍射的原理,在考虑了折射、光刻胶对光的吸收以及硅片对光的反射的情况下,给出了SU-8胶在365 nm光源下经过方孔曝光时,光刻胶中光强的二维分布及三维分布的计算模拟.将试验结果与实际情况相比,表现出了一定的...
- 冯明黄庆安李伟华周再发朱真
- 关键词：菲涅尔衍射SU-8胶
- 文献传递
- SU-8胶在深紫外光源下的光强分布模拟被引量：1
- 2006年
- 本文根据菲涅尔衍射的原理,在考虑了折射、光刻胶对光的吸收以及硅片对光的反射的情况下,给出了SU-8胶在365nm光源下经过方孔曝光时,光刻胶中光强的二维分布及三维分布的计算模拟.将试验结果与实际情况相比,表现出了一定的适用性,可以近似作为光刻胶形貌的最后近似.
- 冯明黄庆安李伟华周再发朱真
- 关键词：菲涅尔衍射SU-8胶
- 基于一致性绕射理论的城市环境辐射建模
- 一致性绕射理论(the Uniform Theory of Diffraction，UTD)与射线追踪(Ray Tracing)共同构成了无线通信系统电波传播的一种高精度建模方法。本文以镜像射线追踪为基础进行点对点的路径...
- 冯明
- 关键词：城市环境电波传播损耗计算一致性几何绕射理论
