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罗云飞

作品数：56 被引量：7H指数：1
供职机构：中国科学院光电技术研究所更多>>
发文基金：国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域：电子电信自动化与计算机技术一般工业技术理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 55篇专利
  • 1篇期刊文章

领域

  • 16篇电子电信
  • 5篇自动化与计算...
  • 4篇一般工业技术
  • 2篇交通运输工程
  • 2篇理学
  • 1篇机械工程
  • 1篇轻工技术与工...

主题

  • 21篇光刻
  • 18篇超分辨
  • 15篇掩模
  • 13篇感光
  • 8篇等离子体
  • 8篇成像
  • 7篇多层膜
  • 7篇衍射
  • 6篇纳米
  • 6篇表面等离子体
  • 5篇透镜
  • 5篇膜层
  • 5篇刻蚀
  • 5篇基底表面
  • 5篇光栅
  • 5篇感光层
  • 5篇波长
  • 4篇掩模版
  • 4篇衍射波
  • 4篇透射

机构

  • 56篇中国科学院

作者

  • 56篇罗云飞
  • 56篇罗先刚
  • 45篇赵泽宇
  • 27篇王长涛
  • 27篇刘凯鹏
  • 16篇王彦钦
  • 12篇黄成
  • 11篇高平
  • 8篇胡承刚
  • 7篇陶兴
  • 7篇蒲明薄
  • 6篇杨磊磊
  • 5篇李雄
  • 5篇姚纳
  • 4篇马晓亮
  • 4篇冯沁
  • 4篇刘利芹
  • 4篇蒲明博
  • 4篇何家玉
  • 2篇崔建华

传媒

  • 1篇科学通报

年份

  • 8篇2024
  • 11篇2023
  • 13篇2022
  • 4篇2021
  • 2篇2020
  • 2篇2019
  • 1篇2018
  • 1篇2017
  • 2篇2016
  • 2篇2015
  • 4篇2014
  • 4篇2013
  • 2篇2012
共 56 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
纳米压印系统及方法
本公开提供了一种纳米压印系统及方法，可以应用于纳米压印技术领域。该系统包括：衬底；压印胶，固化形成在衬底上；抗刻蚀膜层，沉积形成在所述压印胶上；压印模板，所述压印模板的基底上制备有压印图形结构。该方法包括：将所述压印模板...
罗先刚罗云飞刘凯鹏张译尹牟帅赵泽宇
高分辨近场干涉光刻的方法
本公开提供一种高分辨近场干涉光刻的方法，该方法包括：S1，在基底(1)上沉积一层硅膜层(2)；S2，在硅膜层(2)上涂覆一层超薄感光膜层(3)；S3，利用近场干涉光刻对感光膜层(3)进行曝光显影，衍射光通过硅膜层(2)进...
罗先刚罗云飞刘凯鹏朱瑶瑶赵泽宇
基于柔性材料的超分辨光刻装置
本发明公开了一种基于柔性材料的超分辨光刻装置，包括光源系统、掩模吸附板、掩模、柔性基片、承片台、密封球耳、弹性薄膜、弹性薄膜压板、升降台、精密气压控制系统。光源系统位于掩模的上方，掩模吸附板上开有环形槽，通过抽取真空，掩...
罗先刚赵承伟李猛王长涛王彦钦罗云飞
文献传递
近场光刻方法
本公开提供一种近场光刻方法，包括：在基底表面制备多层交替叠设的金属层和感光层，感光层夹设于金属层之间；基于金属层对干涉光场的调控，利用光刻掩模进行至少两次近场干涉光刻，将光刻掩模的掩模图形传递至靠近基底的感光层，在靠近基...
罗先刚罗云飞刘凯鹏朱瑶瑶牟帅赵泽宇
对准标记结构及其形成方法
本公开提供一种对准标记结构及其形成方法，该对准标记结构包括：衬底(1)；标记区(2)，包括对准结构(2‑2)和倒角结构层(2‑1)；对准结构(2‑2)形成于衬底(1)中，为凹陷结构；倒角结构层(2‑1)形成于衬底(1)的...
罗先刚张译尹罗云飞刘凯鹏朱瑶瑶赵泽宇
光刻方法
本公开提供一种光刻方法，包括：在光刻基底表面依次制备叠设的功能膜层、反射式辅助成像膜层及第一光刻胶层。对第一光刻胶层进行光刻，得到第一光刻结构。以第一光刻结构为掩蔽层对反射式辅助成像膜层进行刻蚀，以将第一光刻结构的图形传...
罗先刚刘凯鹏罗云飞牟帅高平赵泽宇
一种高分辨颗粒检测装置
本发明公开了一种高分辨颗粒检测装置，属于颗粒检测的创新技术领域。该装置包括用于隔离人员和空气等扰动与污染的隔离罩；用于支撑和定位连接各分系统的支架；用于承载测试样片、调节样片与成像系统共轴、检测区域定位和大面积检测步进拼...
罗先刚赵承伟王长涛刘利芹罗云飞
一种纳米激光器激光合束器件的制备方法
本发明提供一种纳米激光器激光合束器件的制备方法，包括：曲面多层膜的制备；曲面多层膜的平坦化；曲面多层膜的减薄；涂覆、固化溶胶层；在溶胶层上沉积金属Ag层；反复涂覆溶胶层-沉积Ag层，最终得到这种纳米激光器激光合束器件。该...
罗先刚王彦钦王长涛赵泽宇沈同圣罗云飞胡承刚黄成杨磊磊潘思洁崔建华赵波
文献传递
一种近场光刻浸没系统及其浸没单元和接口模组
一种近场光刻浸没系统及其浸没单元和接口模组，包括设备基板；掩模装载模块，安装在设备基板上并用于安装掩模板；近场光刻浸没单元，通过接口模组安装在设备基板上；供给回收系统，用于通过接口模组向近场光刻浸没单元提供气体、液体并回...
罗先刚赵泽宇赵承伟蒲明博罗云飞
文献传递
一种介电常数可调控的多晶银薄膜及其制备方法
本公开提供了一种介电常数可调控的多晶银薄膜及其制备方法，该多晶银薄膜的制备方法包括：S11，获取在预定制备条件下、纯氩气气体环境中制备得到的多晶银薄膜的第一介电常数‑波长曲线；S12，获取在预定制备条件下、不同比例氩气与...
罗先刚张可璇刘凯鹏张译尹罗云飞赵泽宇
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