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王阳

作品数：25 被引量：0H指数：0
供职机构：沈阳芯源微电子设备有限公司更多>>
相关领域：电子电信金属学及工艺更多>>

合作作者

文献类型

  • 25篇中文专利

领域

  • 3篇电子电信
  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 17篇半导体
  • 12篇涂胶
  • 12篇光刻
  • 11篇光刻胶
  • 9篇半导体生产
  • 6篇喷嘴
  • 6篇晶圆
  • 5篇晶片
  • 5篇半导体晶片
  • 4篇气缸
  • 3篇电路
  • 3篇拾取
  • 3篇托架
  • 3篇显影
  • 3篇集成电路
  • 3篇管路
  • 3篇封装
  • 3篇半导体封装
  • 2篇导轨
  • 2篇电路制造

机构

  • 25篇沈阳芯源微电...

作者

  • 25篇王阳
  • 4篇郑春海
  • 2篇魏猛
  • 1篇卢继奎
  • 1篇王绍勇

年份

  • 2篇2016
  • 6篇2015
  • 2篇2014
  • 1篇2013
  • 3篇2012
  • 6篇2011
  • 3篇2010
  • 2篇2009
共 25 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
一种提高传片速度的机械手移动方法
本发明是一种提高传片速度的机械手移动方法，运用到半导体实际晶圆传送过程当中去，可以缩短机械手一个单周期晶圆传送的时间，使得晶圆在传送过程中消耗的时间缩短，对于多单元堆叠式加工工艺设备的产能提高有明显的积极作用。
郑春海王阳
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涂胶显影单元工作臂的分控、交叉作业结构
本实用新型涉及涂胶显影单元工作臂的改进技术，具体为一种用以在半导体晶片上进行涂胶、显影的各工作臂的可分控作业及可交叉作业结构，解决涂胶、显影单元中实现工作臂的上下动作结构复杂，工作效率低等问题。涂胶单元或显影单元的基座一...
王阳
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光刻胶喷嘴更换辅助定位半自动固定装置
本发明涉及半导体领域，具体为一种用以在半导匀胶显影设备中光刻胶喷嘴更换辅助定位半自动固定装置，用以在多光刻胶喷嘴手动更换时的辅助定位和半自动固定，达到更换方便，适应多喷嘴更换，定位准确，固定结实的优点。该装置设有光刻胶喷...
王阳
半导体封装用厚胶膜旋涂方法
本发明涉及半导体领域，具体为一种用以在半导体晶片上通过两次特殊方式的覆盖旋涂方法，获得半导体厚道封装用厚胶膜的旋涂方法，具体为在半导体封装厚胶涂胶方法特殊的二次涂胶方式，通过两次不同胶膜厚度和形式进行互补，达到最终封装用...
王阳胡延兵
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可防止气泡的氮气压力方式供应光刻胶系统
本实用新型涉及半导体封装领域，具体为一种用以在半导体生产中的可防止气泡的氮气压力方式供应光刻胶系统。该系统在压力桶中放置光刻胶胶瓶，压力桶上盖设有穿板密封接头，光刻胶管通过穿板密封接头插到光刻胶瓶底部，穿过压力桶的光刻胶...
王阳
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涂胶显影单元工作臂的分控、交叉作业结构
本发明涉及涂胶显影单元工作臂的改进技术，具体为一种用以在半导体晶片上进行涂胶、显影的各工作臂的可分控作业及可交叉作业结构，解决涂胶、显影单元中实现工作臂的上下动作结构复杂，工作效率低等问题。涂胶单元或显影单元的基座一侧安...
王阳
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一种涂胶显影机的工艺模块布局方法
本发明涉及半导体生产中涂胶显影机内工艺处理模块的技术领域，具体地说是一种涂胶显影机的工艺模块布局方法。所述涂胶显影机包括依次串接的片盒站、工艺站及接口站，其中工艺站内设有涂胶模块、显影模块、热处理模块及工艺站机器人，所述...
王阳魏猛郑春海胡延兵
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气缸和导轨的保护缓冲结构
本发明涉及保护缓冲结构，具体为一种气缸和导轨的保护缓冲结构。该保护缓冲结构设有气缸、导轨、滑块、平台、翅膀形状薄板结构件，气缸两侧是两根与之相平行的导轨，导轨上面连接滑块，导轨上的滑块上面连接平台，气缸位于平台底部，平台...
王阳
涂胶显影机的工艺模块结构及布局方法
本发明涉及在集成电路生产时与光刻机联线作业的涂胶显影机，具体地说是一种涂胶显影机的工艺模块结构及布局方法。包括离心处理工艺模块和热处理工艺模块，多个所述离心处理工艺模块堆砌成叠层的离心处理工艺组，多个所述热处理工艺模块堆...
胡延兵魏猛王阳卢继奎
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一种均匀喷涂光刻胶的方法
本发明涉及集成电路制造晶圆的加工技术，具体地说是一种在晶圆上获得均匀光刻胶喷涂的方法，解决现有技术中存在的光刻胶层厚度均匀性指标需要进一步提高等问题。将待喷涂加工的晶圆进行离心式旋转、喷嘴沿晶圆直径方向水平移动喷洒光刻胶...
胡延兵郑春海王阳
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