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杨铁锋

作品数：1 被引量：23H指数：1
供职机构：昆明物理研究所更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇电路
  • 1篇涂胶
  • 1篇集成电路
  • 1篇光刻
  • 1篇光刻机
  • 1篇光刻技术
  • 1篇光刻胶
  • 1篇分辨率

机构

  • 1篇昆明物理研究...

作者

  • 1篇周芳
  • 1篇杨铁锋
  • 1篇姜军
  • 1篇曾俊英

传媒

  • 1篇红外技术

年份

  • 1篇2002
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
光刻技术的现状和发展被引量：23
2002年
着重从涂胶、曝光 (包括光源和曝光方式等 )。
姜军周芳曾俊英杨铁锋
关键词：光刻技术涂胶光刻机分辨率光刻胶集成电路
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共1页<1>
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