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席明霞

作品数：3 被引量：3H指数：1
供职机构：中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
相关领域：电子电信理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 3篇淀积
  • 3篇激光
  • 2篇准分子
  • 2篇准分子激光
  • 2篇脉冲激光
  • 2篇脉冲激光淀积
  • 2篇激光淀积
  • 2篇分子
  • 1篇气相淀积
  • 1篇消融
  • 1篇硫化
  • 1篇硫化铅
  • 1篇化学气相淀积
  • 1篇SEM
  • 1篇XPS研究

机构

  • 3篇中国科学院上...
  • 2篇上海材料研究...

作者

  • 3篇席明霞
  • 2篇武四新
  • 2篇郑隽
  • 2篇赵国珍
  • 2篇李缙
  • 2篇吴正亮

传媒

  • 1篇量子电子学报
  • 1篇中国激光

年份

  • 3篇1997
共 3 条 记 录，以下是 1-3
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排序方式：
反应脉冲激光淀积硫化物薄膜的研究
席明霞
关键词：准分子激光消融
反应脉冲激光淀积硫化铅膜的SEM和XPS研究
1997年
以扫描电镜（SEM）和X射线光电子能谱（XPS）等多种测试手段研究分析了用反应脉冲激光淀积技术制备的PbS薄膜。分析结果表明，利用该淀积方法可以得到附着力好、符合化学计量比的硫化铅薄膜。在环境气压p＝1．33×103Pa，靶与基片间距d＝20mm，基片温度t＝100℃时淀积膜的质量较好。另外，本文对其淀积机制也作了较为详细的阐述。
席明霞武四新郑隽吴正亮李缙赵国珍曹基文
关键词：激光淀积
准分子激光化学反应淀积硫化物薄膜被引量：3
1997年
提出了一种新的激光光化学三元反应体系，用于制备硫化铅薄膜。应用吸收光谱、扫描电镜和Ｘ射线光电子能谱等测试手段研究了膜的性质和组成，指出了该方法淀积硫化物薄膜的可行性。
席明霞武四新郑隽郑隽李缙吴正亮曹基文
关键词：化学气相淀积
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共1页<1>
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