刘峰名
- 作品数：23 被引量：64H指数：4
- 供职机构：厦门大学化学化工学院化学系更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金江西省自然科学基金上海市自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学金属学及工艺电子电信更多>>
- 表面增强拉曼光谱研究硫脲及其衍生物在银电极上的共吸附行为被引量：3
- 1997年
- 用表面增强拉曼光谱技术（ＳＥＲＳ）研究了ＨＣｌＯ４介质中硫脲（ＴＵ），一甲基硫脲（ＭＴＵ）和烯丙基硫脲（ＡＴＵ）在银电极表面的共吸附行为．首次报道了它们的混合物在银电极表面上竞争共吸附随电极电位变化的行为以及在所研究的共吸附体系中作为支持电解质的弱吸附ＣｌＯ－４离子被诱导物理共吸附的现象．
- 钟起玲粟晓琼刘峰名姚建林王仲权黄群健
- 关键词：硫脲共吸附拉曼光谱银电极SERS
- 硅刻蚀现场研究的表面拉曼光谱技术
- 通过对拉曼谱仪和电极粗糙方法的优化,本文将表面拉曼光谱技术拓宽到了半导体硅电极表面的现场研究.文中观测了不同粗糙时间对硅刻蚀的影响,并实时考察了硅氢表面在开路电位下的氧化过程.实验结果表明,在以HF为主的湿法刻蚀中,硅表...
- 刘峰名任斌田中群
- 关键词：显微拉曼光谱硅刻蚀
- 文献传递
- 硅电极在电抛光区的刻蚀研究
- 本文寻求合理的抛光预处理将可以获得所需要的有序硅表面,另外对于电抛光结果的进一步解释,将有利于全面了解硅刻蚀的机理.
- 刘峰名薛祥峰任斌田中群
- 关键词：硅电极刻蚀
- 文献传递
- 多孔硅纵向分辨拉曼及光致发光研究被引量：2
- 1999年
- 运用高灵敏度的共焦显微拉曼系统研究了多孔硅在纵向的拉曼效应和光致发光的性质。研究结果表明多孔硅在形成的初期和后期的反应机制不相同。反应初期，外表面的颗粒尺寸比内表面的大，而经过长时间刻蚀而获得的多孔硅，其外表面颗粒尺寸比内表面的小。我们认为反应的初期主要受表面不均匀电场的影响，而随着表面多孔层的增厚和颗粒的细化，刻蚀反应逐渐变成受传质过程和量子尺寸约束的控制。
- 刘峰名程璇任斌郑玉峰林华水田中群
- 关键词：多孔硅光致发光
- 苯并三氮唑与4-羧基苯并三氮唑在氯化钠溶液中对铜的缓蚀作用被引量：13
- 2001年
- 用表面增强拉曼光谱技术 (SERS)对在 3 %NaCl溶液中苯并三氮唑 (BTA)及其衍生物 4 羧基苯并三氮唑 (4CBTA)对铜的缓蚀作用机理进行了研究。发现 4CBTA对铜的缓蚀作用机理与BTA相似 ,在较正电位下两者都是通过三唑环与铜形成配合物覆盖在铜表面 ;随着电位负移 ,铜电极表面吸附的分子形式的BTA或 4CBTA数量增多 ;4CBTA中的—COOH基团只是起到空间位阻的作用 ,没有参与电极表面的吸附。两者复配使用时以BTA吸附为主 ,其缓蚀机理没有发生改变 ,也没有产生协同效应。
- 徐群杰周国定陆柱刘峰名田中群林昌健
- 关键词：铜电极苯并三氮唑缓蚀剂表面增强拉曼光谱氯化钠溶液
- 甲酸在粗糙铂电极上解离吸附与经的电化学表面拉曼光谱研究
- 钟起铃刘峰名任斌
- 关键词：甲酸铂电极拉曼光谱
- 两步法制备多孔硅及其表征
- 程璇温作新刘峰名田中群林昌健薛茹
- 关键词：化学氧化两步法多孔硅
- 硫脲在硝酸介质中的拉曼光谱研究被引量：1
- 1997年
- 硫脲在硝酸介质中的拉曼光谱研究钟起玲粟晓琼刘峰名＊田中群＊（江西师范大学化学系南昌３３００２７）（＊厦门大学固体表面物理化学国家重点实验室厦门３６１００５）ＲａｍａｎＳｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｉｃＳｔｕｄｉｅｓｏｆＴｈｉｏｕｒｅａｉｎＮｉｔｒｉｃＡｃｉ...
- 钟起玲粟晓琼刘峰名田中群
- 关键词：硫脲硝酸介质拉曼光谱
- 烯丙基硫脲与支持电解质阴离子在银电极上共吸附的拉曼光谱被引量：1
- 1997年
- 用表面增强拉曼散射光谱（ＳＥＲＳ）和时间分辨ＳＥＲＳ光谱（ＴＲＳＥＲＳ）等技术首次研究了烯丙基硫脲（ＡＴＵ）在ＨＣｌＯ４、Ｈ２ＳＯ４和ＨＮＯ３介质中与无机阴离子在银电极上的电化学共吸附行为．提出ＡＴＵ很可能以Ｓ端与银电极表面形成化学吸附键，仲氨基相对伯氨基距离表面较近，整个分子偏向烯丙基一侧倾斜吸附在表面上．ＣｌＯ－４、ＳＯ２－４和ＮＯ－３等弱吸附无机阴离子均能被ＡＴＵ诱导共吸附在其质子化了的仲氨基上，这３种无机阴离子被ＡＴＵ诱导共吸附的强弱顺序是ＣｌＯ－４＞ＳＯ２－４＞ＮＯ－３．被诱导共吸附的无机阴离子对ＡＴＵ在电极表面的化学吸附起到稳定剂的作用。
- 钟起玲黄群健刘峰名姚建林王仲权熊丽华熊丽华
- 关键词：共吸附银电极缓蚀剂
- 苯并三氮唑及其衍生物在硫酸溶液中对铜的缓蚀作用被引量：28
- 2001年
- 用表面增强拉曼光谱技术 (SERS)对在 0 5mol/LH2 SO4 溶液中苯并三氮唑BTAH及其衍生物 4CBTAH(4羧基苯并三唑 )对铜的缓蚀作用机理进行了研究 ,发现 4CBTAH对铜的作用与BTAH的作用机理相似 ,在较正电位下两者都是通过三唑环与铜形成配合物覆盖在铜表面 ,随着电位负移在铜电极表面吸附的聚合物膜逐渐转化为分子形式吸附 ,4CBTAH中的 -COOH基团只是起到空间位阻的作用 ,没有参与电极表面的吸附 .
- 徐群杰周国定陆柱刘峰名任斌田中群林昌健
- 关键词：铜电极缓蚀剂表面增强拉曼光谱
