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韩阶平
作品数:
19
被引量:36
H指数:3
供职机构:
中国科学院微电子研究所
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相关领域:
电子电信
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理学
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合作作者
侯豪情
中国科学院长春应用化学研究所
田如江
中国科学院微电子研究所
李秀琼
中国科学院微电子研究所
陈梦真
中国科学院微电子研究所
梁俊厚
中国科学院微电子研究所
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韩阶平
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1990
1篇
1989
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束致变蚀方法
本发明涉及半导体芯片二氧化硅表面束致变蚀方法。本发明包括使用一种或两种粒子束诸如离子束、电子束和等离子束对二氧化硅表面进行选择轰击,使二氧化硅表面的腐蚀特性发生明显变化;在该选择轰击的二氧化硅表面上涂一层催化剂组合物层;...
韩阶平
王守武
王培大
杜甲丽
李秀琼
陈梦真
刘辉
徐卫东
文献传递
用于高分辨率的高能X光图像的编码器孔径板的研制
魏珂
韩阶平
田如江
刘辉
关键词:
高分辨率
高能
X光图像
文献传递
网络资源链接
磁场对反应离子刻蚀速率影响的研究
1989年
本文用自制的磁控反应离子刻蚀设备研究了磁场对反应离子刻蚀速率的影响.实验结果表明,磁场的引入使反应离子刻蚀速率明显提高.与不加磁场相比,加磁场后刻蚀速率可提高6-10倍.
金钟元
韩阶平
马俊如
关键词:
磁场
反应离子刻蚀
集成电路
利用束致变蚀进行微细图形加工
1991年
本文介绍了束致变蚀技术在国际上的发展历史和现状,对离子束增蚀/抗蚀现象及有关机理进行了阐述。并对此新工艺进行了综合评价与前景展望。
杜甲丽
韩阶平
关键词:
光刻工艺
抗蚀
半导体材料
半导体集成电路
聚焦离子束
掩膜
干法工艺用的大面积均匀可调永磁磁路结构
本发明涉及千法工艺用的大面积均匀可调永磁磁路结构。本发明提供一种磁控反应离刻蚀机上施加磁场的永磁磁路结构,该永磁磁路结构设于反应室内直接构成磁场,由一对包括许多永磁磁铁单元的极板,一个软铁回路以及角铁组成。通过调整可使硅...
罗澎
金钟元
韩阶平
马俊如
文献传递
远紫外无显影光刻的催化剂及工艺探讨
1990年
我们研制成了一种新型催化剂,它是由普通小分子有机化合物(如甲基紫等)和CMPS树脂。一起溶解在一定的溶剂中配制而成。用此催化剂做了远紫外曝光的各种腐蚀特性的实验,获得了满意的结果。
韩阶平
侯豪情
关键词:
光刻
催化剂
干法工艺用的大面积均匀可调永磁磁路结构
本发明涉及干法工艺用的大面积均匀可调永磁磁路结构。本发明提供一种磁控反应离刻蚀机上施加磁场的永磁磁路结构,该永磁磁路结构设于反应室内直接构成磁场,由一对包括许多永磁磁铁单元的极板,一个软铁回路以及角铁组成。通过调整可使硅...
罗澎
金钟元
韩阶平
马俊如
SIRP-1型四合一多功能机及工艺研究
韩阶平
魏珂
田如江
刘辉
关键词:
多功能机
光刻
镀膜
文献传递
网络资源链接
适用于剥离工艺的光刻胶图形的制作技术及其机理讨论
被引量:21
1994年
研究了AZ-1350胶的正、负转型和形成适用于剥离技术的倒台面图形的工艺技术,并对一些机理性问题进行了讨论。
韩阶平
侯豪情
邵逸凯
关键词:
光刻胶
集成电路
光刻
束致变蚀技术
本发明涉及半导体芯片二氧化硅表面束致变蚀技术。本发明包括使用一种或两种粒子束诸如离子束、电子束和等离子束对二氧化硅表面进行选择轰击,使二氧化硅表面的腐蚀特性发生明显变化;在该选择轰击的二氧化硅表面上涂一层催化剂混合物层;...
韩阶平
王守武
王培大
杜甲丽
李秀琼
陈梦真
刘辉
徐卫东
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