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韩国华

作品数:4 被引量:10H指数:2
供职机构:北京有色金属研究总院更多>>
相关领域:化学工程电子电信理学更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 1篇专利

领域

  • 2篇化学工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 2篇光纤
  • 1篇提纯
  • 1篇通信
  • 1篇显微结构
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米晶
  • 1篇纳米晶体
  • 1篇晶体
  • 1篇光纤通信
  • 1篇半导体
  • 1篇

机构

  • 4篇北京有色金属...

作者

  • 4篇韩国华
  • 3篇王铁艳
  • 2篇李贺成
  • 1篇袁琴
  • 1篇耿宝利
  • 1篇孙福星

传媒

  • 2篇稀有金属
  • 1篇广东微量元素...

年份

  • 1篇2008
  • 1篇2004
  • 1篇1999
  • 1篇1998
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
国内外光纤用SiCl_4研究进展被引量:6
2008年
SiCl4作为生产光纤预制棒的基础原料,其质量好坏直接影响光纤传输的质量,必须最大限度脱除引起光纤吸收损耗的杂质。综述了光纤用SiCl4的质量标准,并应用傅立叶变换红外光谱(FT-IR)技术对国内外光纤用高纯SiCl4样品进行了对比。测试结果表明,本工艺产品含氢杂质含量明显降低,同时金属离子含量也达到相关技术要求,达到光纤级别,为建立工业化光纤用高纯SiCl4生产线提供了理论基础和技术参数。
孙福星王铁艳袁琴韩国华耿宝利
关键词:光纤提纯
包装容器
省略其它视图。
韩国华袁琴王铁艳关凤华耿宝利
纳米晶体锗(Nc-Ge)合成方法介绍
1998年
评述了纳米晶体锗的合成方法
李贺成王铁艳韩国华樊宇红
关键词:纳米晶体显微结构
光纤用GeCl_4的质量进展被引量:4
1999年
评述了国内外光纤用GeCl4 的质量水平。光纤用GeCl4 不仅要求金属杂质含量少 ,而且要求氢杂质 (OH、CH、HCl)总量也要少。用红外吸收法同时测定了两种进口产品和一种国产产品的含氢杂质总质量分数 ,进口产品为 3 2 3× 10 -3 %和 4 5× 10 -3 % ,国内产品为 2 11× 10 -3 %。
王铁艳韩国华樊宇红李贺成
关键词:光纤半导体光纤通信
共1页<1>
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