李翔
- 作品数：12 被引量：34H指数：4
- 供职机构：中国科学院理论物理研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
- 相关领域：天文地球理学一般工业技术电子电信更多>>
- 视界邻域的几何与黑洞熵被引量：14
- 2000年
- 视界邻域的时空具有类似Rindler度规的几何结构 ,从这个背景下的场方程出发 ,利用brick wall方法分别计算了标量场和Dirac场的熵 ,很自然地得到熵与面积成正比的结果 .这一结果适用于一大类黑洞 .还讨论了极端黑洞熵 ,指出拓扑熵只有经典意义而不是量子的观点 .
- 李翔赵峥
- 关键词：黑洞熵
- 利用广义不确定关系计算Vaidya-Bonner黑洞的熵被引量：2
- 2005年
- 利用广义不确定关系计算量子态数目, 进而计算Vaidya -Bonner黑洞的熵. 此方法与brick- wall模型相比, 优点为不必引入截断因子, 就避免了发散问题.
- 牛振风李翔赵峥
- 关键词：BRICK-WALL模型量子态
- 从Schwarzschild黑洞到极端Kerr-Newman黑洞被引量：5
- 1999年
- 考虑 Ｓｃｈｗａｒｚｓｃｈｉｌｄ 和 Ｋｅｒｒ Ｎｅｗ ｍａｎ 黑洞的度规场和电磁场张量，研究了落入黑洞的物理粒子．得出结论：任何物理粒子落入 Ｓｃｈｗａｒｚｓｃｈｉｌｄ 或 Ｋｅｒｒ Ｎｅｗ ｍ ａｎ 黑洞必定使其面积增加或不变，刚好与面积定理相符．考虑到从非极端 Ｋｅｒｒ Ｎｅｗ ｍａｎ 到极端 Ｋｅｒｒ Ｎｅｗ ｍａｎ 黑洞的演化过程要满足δ Ａ≥０ 和δκ≤０ 两个条件，得出了不能通过有限次操作使 Ｋｅｒｒ Ｎｅｗ ｍａｎ 黑洞的温度降低到绝对零度，从而变成极端 Ｋｅｒｒ Ｎｅｗ ｍａｎ 黑洞，刚好与第三定律相符．还讨论了 Ｋｅｒｒ Ｎｅｗ ｍａｎ 黑洞趋于极端情况时，其面积的变化趋势，提出了黑洞负热容的影响以及熵的重整化问题．
- 刘文彪李翔
- 关键词：黑洞
- 利用广义不确定关系计算Vaidya-de Sitter黑洞的熵被引量：4
- 2003年
- 利用广义不确定关系计算量子态数目 ,进而计算Vaidya deSitter黑洞的熵 .此方法的优点是不必引入截断因子 。
- 牛振风李翔赵峥
- 关键词：黑洞
- Vaidya黑洞的熵被引量：1
- 2003年
- 把广义不确定关系引入黑洞熵的计算 ,采用WKB近似方法 ,对Vaidya黑洞视界面上的标量场的熵进行了直接计算 ,得到了熵与视界面积成正比的结论 ;与brick wall模型不同的是 ,我们得到的结果是有限的 ,无需任何截断 .
- 刘成周李翔赵峥
- 关键词：VAIDYA黑洞视界超曲面
- 广义不确定原理对一般静态黑洞熵的影响被引量：2
- 2004年
- 把广义不确定原理引入黑洞熵的计算 ,采用薄膜brick wall模型 ,对一般静态黑洞外部标量场的熵进行了计算 ,得到了熵计算公式 .应用该公式结果表明 ,可以得到已知所有静态黑洞的Bekenstein Hawking熵 .作为比较和进一步研究 ,对视界面上的二维膜的熵进行计算 ,可以更方便和一般性地得到熵与视界面积成正比的结论 ,该讨论可直接表明黑洞熵就是其视界面上的量子态的熵 .与原始brick wall模型不同的是 ,这一结论是有限的 ,计算中无需引入截断 。
- 刘成周周宙安李翔赵峥
- 动态黑洞的熵被引量：4
- 2000年
- 黑洞熵来源于视界附近量子场的贡献 .按照这一想法 ,在局部热平衡的条件下 ,计算了Vaidya黑洞的熵 .结果比通常的稳态黑洞的熵稍小 .
- 李翔赵峥
- 关键词：VAIDYA黑洞动态黑洞
- 新型Eu^(3+)三元复合发光材料研究被引量：1
- 2002年
- 合成了一种新型三元复合物Eu3 + -AAOM -TTA[TTA :2 -噻吩甲酰三氟丙酮 ;AAOM :聚丙烯酰胺 (70 % ) /丙烯酸 (30 % ) ,数均相对分子质量为 10 0 0 0 ]并测定了其荧光光谱。该三元复合物的发光强度比强发光物质NaEu(TTA) 4 的荧光强度还大 ,而且比二元复合物Eu3 + -AAOM的发光强度大 2 0倍。研究了合成条件对复合物发光强度的影响。
- 王明昭李翔宁亚兰蔡冠梁
- 关键词：EU^3+发光材料铕离子荧光材料
- 黑洞会完全蒸发吗?
- 黑洞的热辐射导致理论上的一些困难,如光度发散,信息佯谬等. 考虑引力之后的广义不确定关系将改变通常的辐射态方程,解决了黑洞蒸发晚期光度发散的问题,信息佯谬也得到一定程度的缓解.
- 李翔
- 文献传递
- 一种Eu^(3+)-AAO-TTA新型复合发光材料的研究被引量：1
- 2002年
- 合成了一种共聚型低聚物的新型三元复合物Eu3+-AAO-TTA（AAO:低聚丙烯酰胺丙烯酸，n（丙烯酰胺）/n（丙烯酸）=7∶3，数均相对分子质量为10000; TTA：荧光敏化剂2噻吩甲酰三氟丙酮）并测定了其荧光光谱.三元复合物的荧光强度是二元复合物Eu3+AAO荧光强度的21倍，并且比强发光物质NaEu(TTA)4的荧光强度更强.研究了pH值、Eu3+低聚物物质的量比、Eu3+-TTA物质的量比对复合物荧光强度的影响.所得三元复合物具有作为优良发光材料的应用前景.
- 王明召李翔宁亚兰蔡冠梁
- 关键词：TTA发光材料荧光强度铕AAO
