张天播
- 作品数：11 被引量：18H指数：2
- 供职机构：浙江大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：一般工业技术理学化学工程更多>>
- 在玻璃基板上沉积TiN薄膜的方法
- 本发明公开了在玻璃基板上沉积TiN薄膜的方法，采用的是化学气相沉积法，通过调节反应气体进气管道的喷头和玻璃基板间的距离，实现控制沉积在玻璃基板上TiN薄膜的电阻率及表面形貌、光学性能等。本发明方法比传统的通过调节反应温度...
- 赵高凌张天播郑鹏飞韩高荣
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- 在玻璃基板上沉积TiN薄膜的方法
- 本发明公开的在玻璃基板上沉积TiN薄膜的方法，其步骤如下：将经清洗的玻璃基板放入化学气相沉积装置反应室的石墨支架上，反应室抽真空至－0.02Mpa，并通入N<Sub>2</Sub>对反应室进行清洗；调节进气管道喷头和玻璃...
- 赵高凌张天播郑鹏飞韩高荣
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- 兼具自清洁性能的新型节能薄膜TiN<,x>O<,y>的制备和性能研究
- 目前,能源短缺的问题已经越来越凸显出来,如何减少建筑能耗也成为人们普遍关注的问题,节能型镀膜玻璃就是一种可以节省现有能源的建筑材料.同时,环境的恶化使得人们关注建筑玻璃的环保性能.本文在对TiN薄膜的节能机理和TiO<,...
- 张天播
- 关键词：TIN薄膜镀膜玻璃
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- 兼具自清洁和节能功能的镀膜玻璃的制备方法
- 本发明公开的兼具自清洁和节能功能的镀膜玻璃的制备方法，在常压化学气相沉积法基础上，利用热处理工艺使TiN薄膜表面部分氧化，在其表面形成不导通的二氧化钛纳米颗粒，形成一种特殊的表面结构，这种表面结构兼具自清洁和节能功能。本...
- 赵高凌林小璇张天播宋晨路杜丕一翁文剑汪建勋沈鸽徐刚张溪文程逵韩高荣
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- 喷涂距离对APCVD制备的TiN薄膜性能的影响(英文)被引量：2
- 2007年
- 以TiCl4和NH3为原料,用常压化学气相沉积法在玻璃基板表面沉积得到了TiN薄膜。采用X射线衍射、场发射扫描电子显微镜、电阻仪、紫外-可见光谱仪等研究了喷涂距离(输入TiCl4管道末端到基板之间的距离)对沉积的TiN薄膜的结晶性能和表面形貌,以及薄膜的电学性能和光学性能的影响。结果表明:当喷涂距离为5cm和10cm时,玻璃基板表面形成电阻较高、反射率较低的较疏松薄膜。当喷涂距离增加到13cm和15cm时,可以得到结晶良好、低电阻、高反射、致密的TiN薄膜。当喷涂距离进一步增加到20cm以上,得到的薄膜的电阻率随之升高而反射率下降。对喷涂距离对薄膜性能的影响机理进行了分析,认为喷涂距离的变化会影响扩散到达并吸附在基板表面的反应物分子数量比例,进而影响沉积薄膜的性能。
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- 关键词：氮化钛常压化学气相沉积
- 在玻璃基板上沉积TiN薄膜的方法
- 本发明公开了在玻璃基板上沉积TiN薄膜的方法，采用的是化学气相沉积法，通过调节反应气体进气管道的喷头和玻璃基板间的距离，实现控制沉积在玻璃基板上TiN薄膜的电阻率及表面形貌、光学性能等。本发明方法比传统的通过调节反应温度...
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- 通过掺杂V改善TiN薄膜导电性能的方法
- 本发明公开一种通过掺杂V改善TiN薄膜导电性能的方法。方法步骤如下：1)用10％的氢氟酸清洗玻璃基板；2)将玻璃基板放入反应室中，反应室抽真空，并通入N<Sub>2</Sub>对反应室进行清洗；3)将反应室加热至450－...
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- 通过掺杂V改善TiN薄膜导电性能的方法
- 本发明公开一种通过掺杂V改善TiN薄膜导电性能的方法。方法步骤如下：1)用10%的氢氟酸清洗玻璃基板；2)将玻璃基板放入反应室中，反应室抽真空，并通入N<Sub>2</Sub>对反应室进行清洗；3)将反应室加热至450-...
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- 通过热处理使TiN薄膜具有自清洁性能的方法
- 本发明公开了一种通过热处理使TiN薄膜表面具有自清洁性能的方法。方法步骤如下：1)用10％的氢氟酸清洗玻璃基板；2)将玻璃基板放入气相沉积反应室，通入TiCl<Sub>4</Sub>、NH<Sub>3</Sub>和N<S...
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- 制备高透过率氮化钛镀膜玻璃的方法
- 本发明公开了一种制备高透过率氮化钛镀膜玻璃的方法，步骤如下：将经过清洗的玻璃基片放入气相沉积反应室，反应室抽真空，通入N<Sub>2</Sub>清洗；将反应室加热至600℃，以惰性气体为载气将N<Sub>2</Sub>、...
- 赵高凌吴玲张天播韩高荣
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