张启沛
- 作品数：10 被引量：30H指数：3
- 供职机构：华南理工大学材料科学与工程学院更多>>
- 发文基金：中央高校基本科研业务费专项资金广东省科技计划工业攻关项目广东省教育部产学研结合项目更多>>
- 相关领域：一般工业技术金属学及工艺更多>>
- 一种切削刀具材料表面的Ti/TiN/TiAlN复合镀层及其制备方法
- 本发明公开了一种切削刀具材料表面的Ti/TiN/TiAlN复合镀层及其制备方法，包括下述步骤：（1）将切削刀具材料表面进行清洗；（2）利用离子镀设备依次镀覆Ti层、TiN层；（3）利用磁控溅射设备镀覆TiAlN层，得到T...
- 钟喜春张启沛曾德长邱万奇匡同春刘仲武余红雅
- 文献传递
- 多弧离子镀TiN薄膜颜色性能的研究被引量：7
- 2014年
- 用多弧离子镀技术在3Cr13不锈钢表面沉积TiN薄膜,用扫描电子显微镜和可见光分光光度计研究了大颗粒、氮气流量与靶电流对膜层颜色性能的影响及其作用规律。结果表明,大颗粒由表面结晶层、中间层和液滴层组成,大颗粒数量较少时不会影响薄膜的颜色性能。增加氮气流量,样品的反射率呈下降趋势,颜色坐标红/绿值a*和黄/蓝值b*增大,明度L*减小,彩度指数C*ab增大,色调角H*ab减小,薄膜颜色由银灰色逐渐变化为深黄色;然而,随着靶电流的增大,色调角H*ab增大,彩度指数C*ab、红/绿值a*和黄/蓝值b*减小,薄膜颜色从深黄色逐渐变为银白色。靶电流的变化改变了膜层中钛和氮的原子比,可对氮气流量的变化起到补偿作用。
- 张启沛钟喜春杨怡帆李春明曾德长邱万奇匡同春
- 关键词：多弧离子镀TIN薄膜
- 一种工模具材料表面的TiN双层镀层及其制备方法
- 本发明公开了一种工模具材料表面的TiN双层镀层及其制备方法，包括下述步骤：（1）将工模具材料表面的离子镀TiN层进行机械研磨后再进行清洗；（2）利用磁过滤离子镀装置镀覆TiN层，得到TiN双层镀层。该TiN双层镀层表面平...
- 钟喜春张启沛邱万奇匡同春曾德长刘仲武余红雅
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- TiN系硬质薄膜的制备及性能研究
- 硬质薄膜可有效延长工具的使用寿命、提高加工效率和精度、降低加工成本，具有广泛的应用前景。随着工业技术的进步，对硬质薄膜的性能要求也在不断提高，即不但要有较高的硬度和膜/基结合力，薄膜表面也要平整。针对以上需求，本文利用P...
- 张启沛
- 关键词：电弧离子镀磁控溅射硬质薄膜
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- 一种切削刀具材料表面的复合镀层
- 本实用新型公开了一种切削刀具材料表面的复合镀层，在切削刀具材料表面依次镀有Ti层、TiN层、TiAlN层，所述Ti层和TiN层为过渡层，在过渡层与TiAlN层之间嵌有微米级大颗粒，该大颗粒是沉积的钛滴。该复合镀层表面相对...
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- 一种工模具材料表面的TiN双层镀层及其制备方法
- 本发明公开了一种工模具材料表面的TiN双层镀层及其制备方法，包括下述步骤：（1）将工模具材料表面的离子镀TiN层进行机械研磨后再进行清洗；（2）利用磁过滤离子镀装置镀覆TiN层，得到TiN双层镀层。该TiN双层镀层表面平...
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- 一种切削刀具材料表面的Ti/TiN/TiAlN复合镀层及其制备方法
- 本发明公开了一种切削刀具材料表面的Ti/TiN/TiAlN复合镀层及其制备方法，包括下述步骤：（1）将切削刀具材料表面进行清洗；（2）利用离子镀设备依次镀覆Ti层、TiN层；（3）利用磁控溅射设备镀覆TiAlN层，得到T...
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- 磁过滤电弧离子镀TiN薄膜的制备及性能研究
- 采用磁过滤电弧离子镀方法在高速钢表面制备了TiN薄膜,采用扫描电子显微镜(SEM)、x射线衍射仪(XRD),显微硬度计和划痕仪等方法研究了偏压和磁过滤电流对TiN薄膜的形貌、沉积速率、组织结构和力学性能的影响.结果表明:...
- 张启沛钟喜春李春明匡同春郭燕伶
- 关键词：高速钢氮化钛薄膜表面形貌沉积速率力学性能
- 电弧离子镀与磁控溅射复合技术制备Ti/TiN/TiAlN复合涂层的组织结构与力学性能被引量：18
- 2015年
- 采用磁控溅射和电弧离子镀技术,在高速钢基体上制备了Ti/TiN/TiAlN复合涂层。采用扫描电子显微镜、X射线衍射仪、显微硬度计、微米划痕仪等方法研究了镀覆条件对复合涂层的形貌、组织结构和力学性能的影响。结果表明,离子镀镀覆的过渡层对磁控溅射涂层的显微组织和力学性能有重要影响。例如,新开发的AIP+MS技术制备的复合膜比AIP或MS技术制备的薄膜具有更高的硬度、更好的耐磨性能、更光滑的表面和更强的膜基结合力(大于30N)。由于电弧离子镀TiN过渡层表面的"大颗粒"在磁控溅射沉积TiAlN薄膜时也会结晶长大,组织形貌与膜上的TiAlN相似,提高了其与周围薄膜的结合,电弧离子镀TiN过渡层表面的"大颗粒"负面效应大大弱化。
- 张启沛钟喜春李春明郭燕伶余赟焦东玲匡同春
- 关键词：磁控溅射技术结合力
- 磁过滤电弧离子镀TiN薄膜的制备及性能研究被引量：4
- 2015年
- 采用磁过滤电弧离子镀(MFAIP)方法在高速钢表面制备了Ti N薄膜,采用扫描电子显微镜、X射线衍射仪,显微硬度计和划痕仪等方法研究了偏压和磁过滤电流对Ti N薄膜的形貌、沉积速率、组织结构和力学性能的影响。结果表明:MFAIP-Ti N薄膜膜层均匀,表面质量好,膜与基体结合紧密。随着偏压和磁过滤电流的增加,Ti N的(111)晶面择优取向越来越弱,(311)和(222)晶面的择优取向逐渐增强。当偏压为-150 V,磁过滤电流为4.5 A时,表现出较大的沉积速率,最大的显微硬度测试值和最大的膜/基结合力。
- 张启沛钟喜春李春明匡同春郭燕伶
- 关键词：TIN薄膜偏压
