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周光亚

作品数：7 被引量：42H指数：4
供职机构：浙江大学光电信息工程学系现代光学仪器国家重点实验室更多>>
发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域：机械工程电子电信金属学及工艺理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 6篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 4篇机械工程
  • 3篇电子电信
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇理学

主题

  • 6篇光学
  • 4篇激光
  • 3篇光刻
  • 3篇二元光学
  • 2篇调焦
  • 2篇自动调焦
  • 2篇激光直写
  • 2篇激光直写系统
  • 2篇光学器件
  • 2篇光学元件
  • 1篇电子束曝光
  • 1篇电子束曝光机
  • 1篇调焦系统
  • 1篇掩模
  • 1篇掩模制作
  • 1篇衍射
  • 1篇衍射光学
  • 1篇透镜
  • 1篇曝光机
  • 1篇转台

机构

  • 7篇浙江大学

作者

  • 7篇周光亚
  • 4篇沈亦兵
  • 4篇杨国光
  • 4篇侯西云
  • 2篇许乔
  • 2篇叶钧
  • 1篇刘玉玲
  • 1篇米凤文
  • 1篇戴旭涵
  • 1篇包正康
  • 1篇余中如

传媒

  • 2篇仪器仪表学报
  • 1篇科技通报
  • 1篇浙江大学学报...
  • 1篇机电工程
  • 1篇光学学报

年份

  • 1篇1999
  • 3篇1998
  • 1篇1997
  • 2篇1996
共 7 条 记 录，以下是 1-7
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排序方式：
激光直接写入系统中的光功率稳定控制被引量：9
1999年
激光光功率控制对激光加工技术极为重要，本文介绍了在激光直写系统中用于光功率控制的声光调制器件并根据光强稳定度要求分析结出了调制器的结构参数和相关的控制电路。接控制原理及调制器参数设计并实现的声光调制系统获得了好的光强控制效果。受控前He-Cd激光器输出光强稳定度为15％，控制后一级衍射光光强稳定度达0.2‰。
沈亦兵周光亚刘玉玲
关键词：激光加工激光直写系统
折射型微透镜列阵的光刻热熔法研究被引量：18
1996年
研究了制作折射型微透镜列阵的一种新方法光刻胶热熔成形法，获得了２０×２０的折射型微透镜列阵，单元微透镜相对口径为Ｆ／２，单元透镜直径为９０μｍ，中心间隔１００μｍ，透镜的波像差小于１．３波长。本文详细阐述了光刻热熔法的基本原理及微透镜设计方法，并讨论了工艺参数对微透镜列阵质量的影响。
许乔叶钧周光亚侯西云杨国光包正康余中如
关键词：微透镜列阵微光学光刻胶光学元件
应用于激光直写设备的转台自动测控系统被引量：3
1998年
极坐标激光直写法是制作二元光学器件较有前途的方法:它对直写设备中的转台测控系统提出了许多特殊要求。本文介绍了一种满足这些要求的新型转台测控系统,它在工作过程中相当于上位机与转台之间的智能外围接口。系统以MCS-51微处理机为核心,采用IEEE-488协议实现与上位机的通讯;能够根据上位机的要求,综合运用比例积分与测速微分反馈原理控制转台转速;以硬件为核心构成的模块,实现了曝光圈数控制及高精度测速。
戴旭涵米凤文沈亦兵周光亚杨国光
关键词：光学器件自动测控系统
激光直接写入的理论及关键技术研究
周光亚
关键词：衍射光学二元光学
极坐标激光直接写入系统研究被引量：3
1996年
本文对极坐标激光直接写入系统进行了初步的研究，介绍了它的原理及结构，该系统可用于二元光学掩模的制作，具有加工孔径大、线宽小的特点，特别适用于圆对称的图形。加工此类图形在制作时间、成本、元件质量等方面都优于电子束曝光机。
周光亚侯西云许乔叶钧
关键词：极坐标光刻物镜二元光学器件自动调焦系统电子束曝光机
象散法高精度离焦检测系统研究被引量：4
1998年
本文提出了用几何光学分析象散法离焦检测系统的新方法，建立了离焦信号ＦＥＳ与光学系统各参数之间的关系，为设计和分析提供了理论依据，在此基础上设计了探测区间为－２５～＋２５μｍ的离焦检测系统。
周光亚沈亦兵侯西云杨国光
关键词：自动调焦光学系统
用于二元光学掩模制作的激光直接写入系统研究被引量：6
1998年
介绍了研制的极坐标激光直接写入系统．该系统可用于二元光学掩模的制作．最大掩模直径为１００ｍ ｍ ；最细曝光线宽为１．０μｍ ；套准精度及自动调焦精度分别达±０．３μｍ 和±０．２μｍ ⒚与电子束曝光机相比，该系统具有制作时间短、成本低、利于圆对称掩模制作等特点．
沈亦兵周光亚侯西云杨国光
关键词：光刻掩模激光直写系统二元光学元件
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