何勇
- 作品数：17 被引量：6H指数：2
- 供职机构：中国科学院感光化学研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学电子电信金属学及工艺更多>>
- 离子型聚醚树枝体－线性聚丙烯酸两亲嵌段共聚物/稀土金属离子发光复合物及其制备方法
- 本发明属于稀土金属发光材料领域，它由离子型聚醚树枝体-线性聚丙烯酸两亲嵌段共聚物和稀土金属离子组成，两者的摩尔数比为5×10<Sup>-7</Sup>～5×10<Sup>-4</Sup>∶2×10<Sup>-5</Sup...
- 朱麟勇王尔鉴李妙贞常志英吴飞鹏何勇
- 文献传递
- 超高分子量磺化单体和丙烯酰胺共聚物的低温合成方法
- 本发明涉及超高分子量和丙烯酰胺共聚物的低温合成方法,是向反应容器中,加入试剂级的丙烯酰胺单体和至少一种试剂级的磺化单体,摩尔比为9∶1～6∶4,并且使两者的总重量占总投料量的7%～22%(重量百分比),再加入占总投料量的...
- 王尔鉴李妙贞常志英何勇张云龙
- 文献传递
- 阳离子电沉积法制备光致抗蚀剂的研究被引量：1
- 1999年
- 当前，印制电路板已广泛应用于航空、航天、通信、通用电器和计算机等各个领域，而光致抗蚀剂是印制电路板生产中的重要化学品，由于印制电路向着微型化、轻量化、大容量、高密度和高可靠性的方向发展，传统的工艺和材料将不能满足上述要求．因此，电沉积（ｅｌｅｃｔｒｉ...
- 何勇张云龙吴飞鹏李妙贞王尔鉴
- 关键词：抗蚀剂电沉积光致抗蚀剂印制电路板涂装
- 荧烷染料/二芳基碘鎓盐同步光生色和光聚合体系被引量：2
- 1998年
- 荧烷染料（ＦＲ）和二芳基碘盐（Ｏｎ＋Ｘ－）组成的体系，在光作用下，通过激发态的荧烷染料与碘盐之间发生电子转移反应，生成开环结构的荧烷染料有色体，伴随发生盐的光解反应，生成活性引发自由基碎片．该体系不仅可有效地引发烯类单体的聚合反应，也可同步发生光生色作用，产生较高的色密度．进一步研究了二芳基碘盐的取代基不同碳链长度和不同对离子及浓度诸因素，在光固化体系中对生色反应的影响．同时ＦＲ／Ｏｎ＋Ｘ－体系引发光交联形成的有色薄膜具有良好的色稳定性．
- 周文慧何勇吴尊荣王尔鑑
- 金属表面精密光刻成像材料及其制法和用途
- 本发明属于光固化成像材料技术领域，其组分包括光聚合性树脂20%～50%；多官能团丙烯酸酯交联剂及反应性稀释剂10%～25%；光敏引发剂1%～4%；助剂0.5%～2%；填料、颜料或染料0.05%～20%；溶剂20%～55%...
- 李妙贞何勇聂俊王尔鉴
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- 方酸染料/碘鎓盐复合物及其用途
- 本发明属于高分子化学和感光高分子材料领域，特别是涉及可见光/近红外光光敏聚合复合引发剂—方酸染料/碘翁盐复合物及其用途。复合物是由方酸染料和碘翁盐以碘翁盐的重量是方酸染料重量的1～10倍，在溶剂中通过静电相互作用和偶极相...
- 何勇李妙贞王尔鉴吴飞鹏
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- 方酸染料/碘鎓盐复合物及其用途
- 本发明属于高分子化学和感光高分子材料领域,特别是涉及可见光/近红外光光敏聚合复合引发剂——方酸染料/碘鎓盐复合物及其用途。复合物是由方酸染料和碘鎓盐以碘鎓盐的重量是方酸染料重量的1～10倍,在溶剂中通过静电相互作用和偶极...
- 何勇李妙贞王尔鉴吴飞鹏
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- 超高分子量磺化单体和丙烯酰胺共聚物的低温合成方法
- 本发明涉及超高分子量和丙烯酰胺共聚物的低温合成方法，是向反应容器中，加入试剂级的丙烯酰胺单体和至少一种试剂级的磺化单体，摩尔比为9∶1～6∶4，并且使两者的总重量占总投料量的7%～22%(重量百分比)，再加入占总投料量的...
- 王尔鉴李妙贞常志英何勇张云龙
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- 单组分光成像液体阻焊剂及其制法
- 本发明属于印制电路板用涂覆材料领域,包括(重量百分数)复合型光反应性成膜树脂30～50%,丙烯酸酯交联剂及活性稀释剂15～30%,光敏引发剂2～6%,填料、颜料15～30%、助剂1～6%,溶剂10～20%。复合型光反应性...
- 王尔鉴李妙贞何勇
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- 单组分光成像液体阻焊剂及其制法
- 本发明属于印制电路板用涂覆材料领域，包括(重量百分数)复合型光反应性成膜树脂30～50%，丙烯酸酯交联剂及活性稀释剂15～30%，光敏引发剂2～6%，填料、颜料15～30%，助剂1～6%，溶剂10～20%。复合型光反应性...
- 王尔鉴李妙贞何勇
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