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福吉米株式会社
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研磨用组合物、研磨方法和半导体基板的制造方法
一种研磨用组合物、研磨方法和半导体基板的制造方法。提供能够以高研磨速度对有机材料进行研磨且能够降低研磨后的刮痕的手段。一种研磨用组合物,其包含氧化锆颗粒和分散介质,前述氧化锆颗粒包含正方晶系氧化锆和立方晶系氧化锆中的至少...
前僚太
熊山茜
多田真树
抛光组合物
一种抛光组合物,包含6元环骨架的三唑、水溶性聚合物、氧化剂和抛光粉。三唑的6元环骨架中具有疏水官能团。抛光组合物中三唑的含量为等于或小于3g/L。抛光组合物的pH值等于或大于7。所述抛光组合物进一步包括其它类型具有6元环...
平野达彦
浅野宏
堀和伸
文献传递
喷镀材料
本发明提供:在形成喷镀膜时不会进行细粉化而发生喷溅现象等、具有耐腐蚀性、耐剥离性等优异的性能、且喷镀膜形成性优异的硅酸钙质喷镀材料。提供一种喷镀用材料,对于硅酸钙质喷镀材料,使用X射线衍射法测定的晶相的衍射强度中,在2θ...
冈本直树
益田敬也
竹内淳登
伊部博之
粉末层叠造形中使用的粉末材料和使用其的粉末层叠造形法
[课题]提供流动性良好的用于粉末层叠造形的粉末材料。[解决手段]本发明的粉末材料为用于粉末层叠造形的粉末材料,该粉末材料由具有二次颗粒的形态的颗粒构成,所述二次颗粒是一次颗粒隔着间隙以三维方式结合而成的。另外,构成粉末材...
伊部博之
文献传递
喷镀用浆料
本发明涉及一种喷镀用浆料。提供抑制裂纹的产生、并且能形成致密的喷镀皮膜的喷镀用浆料。喷镀用浆料含有平均粒径为1μm以上且10μm以下的喷镀颗粒和分散有喷镀颗粒的分散介质,通过下述数学式算出的填充率为84质量%以下。下述数...
益田敬也
伊部博之
杉村和弥
文献传递
研磨完的研磨对象物的制造方法及研磨用组合物试剂盒
本发明课题在于,提供一种能够显著降低研磨对象物表面的雾度水平,而且明显减少缺陷的研磨完的研磨对象物的制造方法。提供一种研磨完的研磨对象物的制造方法,其包括如下的工序:双面研磨工序,使用包含平均一次粒径为40nm以上的第1...
田畑诚
高见信一郞
井出匠学
文献传递
研磨用组合物
本发明提供一种在硅晶圆的研磨中能够实现高研磨速度的方法。本发明涉及一种研磨用组合物,其用于研磨硅晶圆,其包含最高占据分子轨道(HOMO)的能级为‑9.50eV以上的含氮有机化合物和水。
田边谊之
研磨用组合物、研磨用组合物的制造方法、研磨方法及半导体基板的制造方法
本发明涉及研磨用组合物、研磨用组合物的制造方法、研磨方法及半导体基板的制造方法。本发明的研磨用组合物为包含磨粒、添加剂、pH调节剂和分散介质的研磨用组合物,前述磨粒的zeta电位为负,前述添加剂为具有叔氮原子的桥连二环式...
石黑创之介
大西正悟
喷镀用粉末、喷镀皮膜、皮膜和熔融金属浴中辊
本发明的喷镀用粉末含有选自W和Mo的第一元素、选自Co、Ni和Fe的第二元素、选自C和B的第三元素和由Si构成的第四元素作为构成元素。喷镀用粉末以40摩尔%以下的量含有第二元素。喷镀用粉末中的第四元素相对于第二元素的摩尔...
安尾典之
高畠刚
水津龙夫
水野宏昭
益田敬也
久野达也
文献传递
粉体、化妆品用白色颜料、化妆品
提供一种遮盖力优异的粉体,其作为代替二氧化钛的白色颜料可以用于化妆品。本发明的粉体由板状晶体颗粒形成,体积D50%粒径为0.7μm以上且8.0μm以下,一次粒径的变异系数(CV值)为1.0以下。
岩国真弓
芦高圭史
三轮直也
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