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日产化学工业株式会社

作品数：2,358 被引量：0H指数：0
相关机构：国立大学法人九州大学兴和株式会社国立大学法人京都大学更多>>
相关领域：化学工程理学自动化与计算机技术电子电信更多>>

合作机构

文献类型

  • 2,357篇专利
  • 1篇期刊文章

领域

  • 114篇化学工程
  • 54篇理学
  • 50篇自动化与计算...
  • 19篇电子电信
  • 17篇医药卫生
  • 13篇轻工技术与工...
  • 8篇一般工业技术
  • 7篇农业科学
  • 6篇矿业工程
  • 4篇经济管理
  • 3篇金属学及工艺
  • 3篇电气工程
  • 1篇石油与天然气...
  • 1篇机械工程
  • 1篇动力工程及工...
  • 1篇文化科学

主题

  • 720篇组合物
  • 515篇液晶
  • 469篇化合物
  • 353篇亚胺
  • 345篇酰亚胺
  • 309篇原子
  • 289篇抗蚀剂
  • 277篇聚酰亚胺
  • 255篇基团
  • 253篇液晶取向
  • 228篇有机基团
  • 228篇酰胺
  • 222篇树脂
  • 209篇显示元件
  • 195篇酰胺酸
  • 192篇聚酰胺
  • 189篇聚酰胺酸
  • 177篇处理剂
  • 153篇膜形成
  • 143篇树脂组合物

机构

  • 2,358篇日产化学工业...
  • 40篇国立大学法人...
  • 20篇兴和株式会社
  • 10篇国立大学法人...
  • 9篇大正制药株式...
  • 6篇国立研究开发...
  • 6篇大赛璐化学工...
  • 4篇三菱化学株式...
  • 4篇长冈技术科学...
  • 4篇相模中央化学...
  • 4篇工业技术院
  • 4篇国立大学法人...
  • 4篇豪雅株式会社
  • 3篇大日本住友制...
  • 3篇国立大学法人...
  • 2篇岩手大学
  • 2篇东北泰克诺亚...
  • 2篇学校法人关西...
  • 2篇宇部兴产株式...
  • 2篇丰田自动车株...

传媒

  • 1篇无机硅化合物...

年份

  • 5篇2024
  • 9篇2023
  • 21篇2022
  • 97篇2021
  • 103篇2020
  • 134篇2019
  • 227篇2018
  • 228篇2017
  • 265篇2016
  • 212篇2015
  • 146篇2014
  • 148篇2013
  • 130篇2012
  • 81篇2011
  • 74篇2010
  • 66篇2009
  • 56篇2008
  • 67篇2007
  • 54篇2006
  • 36篇2005
共 2,358 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
形成含有硅的EUV抗蚀剂下层膜的组合物
本发明的课题是提供一种EUV抗蚀剂的曝光灵敏度提高，用EUV光曝光时释气发生少的光刻用抗蚀剂下层膜和用于形成该下层膜的形成抗蚀剂下层膜的组合物。作为解决本发明课题的方法涉及一种形成EUV光刻用抗蚀剂下层膜的组合物，其包含...
志垣修平谷口博昭坂本力丸何邦庆
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适用于有机电子的包含金属纳米颗粒的非水性油墨组合物
本文描述了非水性油墨组合物，其包含具有本文所述的符合式(I)的重复单元的聚噻吩、一种或多种金属纳米颗粒和具有一种或多种有机溶剂的液体载体。本发明还涉及所述非水性油墨组合物例如在有机电子器件中的应用。<Image file...
王菁谢尔盖·B·利L·迪法柯F·德坎坡S·陈
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改性环氧树脂组合物
本发明提供对结晶性环氧树脂进行改性可获得具有良好的固化物性的固化物的环氧树脂组合物。包含分子内具有式(1)：式(1)表示的官能团的化合物A和分子内具有缩水甘油基的化合物B的改性环氧树脂组合物，式(1)中，R<Sup>1<...
军司康弘武山敏明
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油胶凝剂
本发明的课题在于提供一种含有单脲衍生物的新胶凝剂。本发明提供一种胶凝剂，由下述式[1]所示的化合物构成，<Image file="DDA0001689248350000011.GIF" he="253" imgConte...
山中正道宫地伸英
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膜形成用组合物
含有例如包含下述式(17)所示的、具有三嗪环的重复单元结构的聚合物、交联剂和光扩散剂的膜形成用组合物给予光扩散性良好的固化膜，而且含有该聚合物、交联剂和具有交联性官能团的无机微粒的膜形成用组合物能给予高温高湿耐性良好的固...
西村直也悴山高大鹿内康史村上奈子美安部诚志三井滋小泽雅昭
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低折射率膜形成用组合物
本发明的课题是提供一种适合于制作具有低折射率，可以实现高透明性、高耐热性、高耐光性、高硬度的显示器件用膜的膜形成用组合物。作为解决本发明课题的手段涉及一种膜形成用组合物，其包含：由水解性硅烷在非醇溶剂中水解并缩合而得的重...
加藤拓岛田惠中岛诚
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液晶取向处理剂、液晶取向膜及液晶显示元件
本发明是含有下述的特定聚合物(A)、特定聚合物(B)及特定交联性化合物(C)的液晶取向处理剂。特定聚合物(B)：选自下述聚酰亚胺前体及聚酰亚胺的至少一种聚合物，该聚酰亚胺前体将具有以式[1]表示的侧链的二胺化合物用作原料...
巴幸司菊池奈穗片山雅章后藤耕平
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热固化膜形成用聚酯组合物
本发明提供在固化膜形成后显示高耐溶剂性、液晶取向性、耐热性、高透明性和高平坦化性，而且在固化膜形成时可适用于滤色器的平坦化膜的生产线、可溶解于二醇类溶剂或乳酸酯类溶剂的材料。本发明提供含有成分(A)，成分(B)和成分（C...
畑中真安达勲
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形成电子束光刻用抗蚀剂下层膜的组合物
本发明的课题在于提供在使用电子束光刻的器件制作工序中所使用的、对于降低由电子束产生的不良影响、获得良好的抗蚀剂图案有效的电子束光刻用抗蚀剂下层膜组合物，和提供使用该电子束光刻用抗蚀剂下层膜组合物的抗蚀剂图案形成方法。本发...
榎本智之坂口崇洋坂本力丸永井雅规
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液晶取向剂、液晶取向膜以及使用了其的液晶表示元件
提供一种液晶取向剂和液晶取向膜以及使用了其的液晶表示元件，所述液晶取向剂含有包含下述式(I)和(II)中任一者所示单元结构的各聚酰胺酸，该液晶取向剂维持余像消除时间和取向约束力且透明性也高，并且不容易因交流驱动的非对称化...
佐藤夏树中原翔一朗石井秀则铃木加名子见山幸广
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