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上海新安纳电子科技有限公司

作品数：110 被引量：39H指数：5
相关机构：中国科学院浙江新创纳电子科技有限公司上海前瞻创新研究院有限公司更多>>
发文基金：国家自然科学基金中国科学院战略性先导科技专项国家重点实验室开放基金更多>>
相关领域：电子电信化学工程金属学及工艺理学更多>>

合作机构

文献类型

  • 99篇专利
  • 9篇期刊文章
  • 2篇会议论文

领域

  • 12篇电子电信
  • 8篇化学工程
  • 4篇金属学及工艺
  • 3篇理学
  • 1篇机械工程
  • 1篇交通运输工程
  • 1篇环境科学与工...
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 49篇抛光
  • 42篇抛光液
  • 30篇氧化硅
  • 30篇化学机械抛光
  • 30篇机械抛光
  • 28篇溶胶
  • 28篇硅溶胶
  • 21篇二氧化硅
  • 13篇水性
  • 12篇水性介质
  • 12篇纳米
  • 12篇衬底
  • 11篇氧化剂
  • 11篇蓝宝
  • 11篇蓝宝石
  • 11篇硅酸
  • 9篇氧化铝
  • 9篇相变材料
  • 9篇存储器
  • 8篇划痕

机构

  • 110篇上海新安纳电...
  • 91篇中国科学院
  • 16篇浙江新创纳电...
  • 3篇上海前瞻创新...
  • 2篇上海第二工业...
  • 2篇上海大学
  • 2篇中国科学院研...
  • 1篇中国科学院大...
  • 1篇中芯国际集成...

作者

  • 43篇刘卫丽
  • 22篇宋志棠
  • 20篇王良咏
  • 4篇张正
  • 4篇张泽芳
  • 3篇侯蕾
  • 3篇张磊
  • 2篇谢华清
  • 2篇张磊
  • 2篇罗宏杰
  • 2篇闫未霞
  • 1篇潘忠才
  • 1篇朱月琴
  • 1篇雷博
  • 1篇汪海波
  • 1篇邢星

传媒

  • 2篇上海第二工业...
  • 2篇功能材料与器...
  • 1篇应用化工
  • 1篇半导体技术
  • 1篇武汉理工大学...
  • 1篇无机材料学报
  • 1篇润滑与密封
  • 1篇第十三届全国...
  • 1篇2010上海...

年份

  • 1篇2024
  • 1篇2023
  • 2篇2022
  • 8篇2021
  • 7篇2020
  • 5篇2019
  • 2篇2018
  • 5篇2017
  • 12篇2016
  • 24篇2015
  • 21篇2014
  • 9篇2013
  • 10篇2012
  • 2篇2011
  • 1篇2010
共 110 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
一种水溶性聚苯乙烯-二氧化硅核壳型复合颗粒的制备方法
本发明涉及一种聚苯乙烯-二氧化硅核壳型复合颗粒的制备方法，为：（1）制备经表面活性剂表面改性的聚苯乙烯颗粒的水溶液；（2）制备用连接剂和硅酸的水溶液，用pH调节剂调节其pH值为碱性，制得经连接剂处理的硅酸的碱性水溶液；（...
邢星王良咏刘卫丽宋志棠谢华清
文献传递
一种抛光液及其制备方法和用途、聚醚型大分子有机物的用途及改善硅片抛光平整度的方法
本发明提供一种抛光液及其制备方法和用途、聚醚型大分子有机物的用途及改善硅片抛光平整度的方法。该抛光液包括聚醚大分子有机物，聚醚大分子有机物具有如下结构式：<Image file="DDA00040038115600000...
张会强霍军朝刘卫丽宋志棠
一种相变存储器结构及其制备方法
本发明涉及一种相变存储器结构及其制备方法，制备的相变存储结构包括基底和位于所述基底上的若干相邻的相变存储单元；相变存储单元包括相变材料层、位于相变材料层两侧的第一电介质层、位于相变材料层及其两侧第一电介质层上表面上的上电...
闫未霞王良咏刘卫丽宋志棠
文献传递
纳米SiO_2抛光液的制备及在蓝宝石抛光中的应用被引量：5
2013年
制备一种纳米氧化硅抛光液,采用扫描电子显微镜、激光粒度仪、颗粒计数仪等对其物性参数进行表征;使用该抛光液对LED蓝宝石衬底进行机械化学抛光,采用轮廓仪、表面缺陷检测设备、原子力显微镜等对抛光后的蓝宝石衬底表面进行表征。结果表明,制备的纳米氧化硅抛光液对LED蓝宝石衬底具有优异的抛光性能,抛光后的表面无划伤、无腐蚀坑,且粗糙度小于0.2 nm。
张泽芳侯蕾闫未霞刘卫丽宋志棠
关键词：蓝宝石氧化硅抛光LED抛光液
一种相变材料化学机械抛光方法
本发明涉及半导体技术领域，特别是涉及一种相变材料化学机械抛光方法。本发明提供一种相变材料化学机械抛光方法，包括如下步骤：1）提供半导体衬底，在所述半导体衬底上形成有第一电介质层，在所述第一电介质层形成底部电极，再在第一电...
何敖东宋志棠刘波王良咏刘卫丽
文献传递
一种GST中性化学机械抛光液
本发明涉及化学机械抛光液领域，尤其涉及一种可有效应用于相变材料GST的化学机械抛光。本发明提供一种GST中性化学机械抛光液，以重量百分比计，包括如下组分：二氧化硅抛光颗粒0.2‑30wt%；氧化剂0.01‑5wt%；表面...
闫未霞王良咏刘卫丽宋志棠
文献传递
一种改性二氧化硅胶体的制备方法
一种改性二氧化硅胶体的制备方法，依次包括以下步骤：1）调节铝改性硅溶胶溶液的pH至8.5~10.5，再加热至100~120℃并保温；2）搅拌过程中加入颗粒半径为10~15nm的二氧化硅胶体溶液；3）搅拌过程中加入活性硅酸...
梁晨亮刘卫丽宋志棠
一种相变存储器电极结构的制备方法
本发明涉及一种相变存储器电极结构的制备方法，首先在硅衬底上依次沉积第一绝缘层和第二绝缘层，然后刻蚀形成贯通第一绝缘层和第二绝缘层的圆孔状凹槽Ⅰ；在凹槽Ⅰ内沉积钨材料；再通过干法回蚀刻蚀填充于凹槽Ⅰ内的钨材料至其上表面与第...
何敖东宋志棠刘波王良咏刘卫丽
文献传递
一种用于硅单晶片抛光的抛光液及其制备与应用
本发明属于硅片加工中的化学机械抛光领域，涉及一种用于硅单晶片抛光的抛光液及其制备和使用方法。本发明的抛光液包括如下重量百分含量的组分：磨料20-40wt%、1,2-丙二胺0.5-5wt%、季铵盐或者季铵碱0.5-5wt%...
孔慧刘卫丽宋志堂汪海波
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一种非球形二氧化硅溶胶及其制备方法
本发明涉及CMP技术抛光领域，特别是涉及一种非球形二氧化硅溶胶及其制备方法。本发明提供一种非球形二氧化硅溶胶，包括液体介质和溶胶颗粒，所述溶胶颗粒由2~10个二氧化硅胶体粒子聚集而成。本产品的有益效果是：通过二价金属离子...
梁晨亮王良咏刘卫丽宋志棠
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