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株式会社钢臂功科研

作品数:144 被引量:0H指数:0
相关机构:株式会社神户制钢所索尼碟片数位解决方案股份有限公司更多>>
相关领域:金属学及工艺化学工程冶金工程理学更多>>

文献类型

  • 144篇中文专利

领域

  • 10篇金属学及工艺
  • 6篇化学工程
  • 2篇冶金工程
  • 1篇经济管理
  • 1篇机械工程
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇文化科学
  • 1篇理学

主题

  • 46篇合金
  • 33篇金属
  • 33篇溅射
  • 30篇烧结体
  • 29篇氧化物
  • 25篇基合金
  • 16篇金属元素
  • 14篇半导体
  • 13篇相对密度
  • 11篇氧化铟
  • 11篇金属间化合物
  • 10篇被覆
  • 10篇AL基合金
  • 9篇氧化锡
  • 9篇印刷用
  • 9篇靶材
  • 8篇导电性
  • 8篇氧化物半导体
  • 8篇载流子
  • 8篇成膜

机构

  • 144篇株式会社钢臂...
  • 48篇株式会社神户...
  • 2篇索尼碟片数位...

年份

  • 2篇2023
  • 2篇2022
  • 6篇2021
  • 5篇2020
  • 9篇2019
  • 10篇2018
  • 8篇2017
  • 7篇2016
  • 20篇2015
  • 7篇2014
  • 20篇2013
  • 13篇2012
  • 11篇2011
  • 5篇2010
  • 8篇2009
  • 2篇2008
  • 7篇2006
  • 2篇2004
144 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
网版印刷用金属箔网状部材、网版印刷版以及使用所述网版印刷版的太阳电池制造方法
网版印刷用金属箔网状部材为包含与形成印刷图案的树脂一体化地使用的金属箔的网版印刷用金属箔网状部材,并且将金属箔网状部材沿一方向以间距X排列有多个开口部,将开口部的开口宽度设为Y,将沿一方向并列的两个开口部所夹持的金属箔设...
篠田达昭宫田浩一时本康伸
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安全性评价试验装置
本发明提供一种安全性评价试验装置。本发明的安全性评价试验装置构成为,在对Li离子电池模块(2)进行安全性评价试验时产生的包含爆炸性成分的气体等与从气体供给机构(10)等和辅助气体供给机构(30)等分别供给的空气一起通过配...
高桥知二今北毅寺泽优一
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紫外线反射膜和溅射靶
提供一种通过将构成紫外线反射膜的稀土类元素、Cu和其余的Al的量、以及稀土类元素与Cu的比率控制在规定的范围,从而波长254nm的紫外线的反射率为85%以上的紫外线反射膜。一种紫外线反射膜,其含有一种或两种以上的稀土类元...
吉田慎太郎奥野博行中井淳一
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电子束发生用阴极构件及其制造方法
本发明的电子束发生用阴极构件,包含铱和铈的化合物的单相或二相占95面积%以上,金属铱、和铱与铈之中的1个以上元素的氧化物之中的1个以上的副成分的含量合计为5面积%以下。
古贺健治高木敏晃工藤史晃草道龙彦
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靶组装体
本发明提供一种在背衬板上,经由粘合材,留出间隔而配置有多个氧化物靶构件的靶组装体。所述靶组装体在氧化物靶构件和背衬板之间,具有跨越所述间隔而设的由从Ni、Si、Hf和Ta所构成的组中选择的至少一种或两种以上构成的内衬构件...
越智元隆畠英雄松村仁实
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网版印刷用网状构件
提供一种即便在使用了高粘度的膏剂的情况下,也能够进行没有印刷模糊、高低差少的印刷,且能得到高印刷位置精度的网版印刷用网状构件。本发明涉及一种网版印刷用网状构件,用于通过感光性乳剂来形成印刷图案,其中,所述网版印刷用网状构...
高冈启吾吉川一男古保里隆
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被覆锯丝
本发明提供一种耐磨耗性优异的被覆锯丝,其是在基底丝的表面被覆有机被膜或无机被膜,作为在一边喷射磨粒一边进行切割时使用的被覆锯丝。另外,提供一种能够使工件切割面的精度良好的被覆锯丝。是一种在基底丝的表面被覆有有机被膜或无机...
家口浩吉川一男隐岐保博古保里隆村桥守浦塚昭典
溅射靶及其制备方法
一种由相同材料制成的金属薄片的对接制成的溅射靶被提供,其中连接部分中的金属间化合物具有的平均颗粒直径是非连接部分中的金属间化合物平均颗粒直径的60%至130%。在溅射靶中,连接部分中的金属间化合物的平均颗粒直径与非连接部...
松村仁实米田阳一郎
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含有Cu、In、Ga及Se元素的粉末、烧结体及溅射靶、以及上述粉末的制造方法
本发明提供一种在烧结时或加工时不会发生破损的、含有Cu、In、Ga及Se的Cu-In-Ga-Se系粉末、以及使用该粉末的烧结体及溅射靶。本发明涉及含有Cu、In、Ga及Se元素的粉末,其中,Cu-In-Ga-Se系化合物...
得平雅也南部旭柏井茂雄福住正文
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Ag-Bi基合金溅射靶及其制备方法
一种Ag-Bi基合金溅射靶以及该溅射靶的制备方法,其特征在于,溅射靶的析出Bi强度为0.01原子%<Sup>-1</Sup>或以下,其是根据下式,基于X-射线衍射的分析结果计算出来的。析出Bi强度=[I<Sub>Bi(1...
高木胜寿中井淳一田内裕基佐藤俊树松崎均藤井秀夫
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共15页<12345678910>
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