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上海微电子装备(集团)股份有限公司

作品数：2,330 被引量：87H指数：5
相关机构：桂林电子科技大学上海微高精密机械工程有限公司哈尔滨工业大学更多>>
发文基金：国家科技重大专项国家自然科学基金广西壮族自治区自然科学基金更多>>
相关领域：电子电信自动化与计算机技术机械工程文化科学更多>>

合作机构

文献类型

  • 2,227篇专利
  • 91篇期刊文章
  • 4篇标准
  • 3篇科技成果
  • 2篇会议论文

领域

  • 283篇电子电信
  • 269篇自动化与计算...
  • 165篇机械工程
  • 111篇文化科学
  • 100篇理学
  • 21篇金属学及工艺
  • 16篇电气工程
  • 15篇经济管理
  • 11篇轻工技术与工...
  • 10篇建筑科学
  • 10篇交通运输工程
  • 9篇医药卫生
  • 9篇一般工业技术
  • 5篇环境科学与工...
  • 3篇动力工程及工...
  • 3篇航空宇航科学...
  • 1篇化学工程
  • 1篇矿业工程
  • 1篇石油与天然气...
  • 1篇水利工程

主题

  • 750篇光刻
  • 404篇光刻机
  • 242篇光刻设备
  • 228篇掩模
  • 225篇物镜
  • 206篇工件台
  • 146篇激光
  • 130篇光束
  • 124篇投影物镜
  • 124篇硅片
  • 116篇基板
  • 116篇基底
  • 112篇光学
  • 109篇垂向
  • 107篇键合
  • 101篇光源
  • 98篇照明
  • 98篇入射
  • 97篇掩模版
  • 87篇光斑

机构

  • 2,327篇上海微电子装...
  • 18篇桂林电子科技...
  • 17篇上海微高精密...
  • 11篇哈尔滨工业大...
  • 8篇上海隐冠半导...
  • 5篇上海交通大学
  • 5篇福州鑫图光电...
  • 4篇上海大学
  • 4篇上海集成电路...
  • 2篇华东师范大学
  • 2篇中国科学院
  • 2篇中国电子技术...
  • 2篇上海立信会计...
  • 2篇深圳鲲云信息...
  • 2篇北京北方华创...
  • 2篇中微半导体设...
  • 1篇复旦大学
  • 1篇南京师范大学
  • 1篇清华大学
  • 1篇浙江大学

作者

  • 11篇张文涛
  • 9篇王明义
  • 8篇熊显名
  • 2篇刘家曦
  • 2篇张建华
  • 2篇谈恩民
  • 1篇吴永前
  • 1篇李思坤
  • 1篇汪杰君
  • 1篇成荣
  • 1篇曹进
  • 1篇朱煜
  • 1篇胡放荣
  • 1篇王向朝
  • 1篇戴凤钊
  • 1篇杨海玲
  • 1篇骆欣
  • 1篇商亮亮
  • 1篇肖寒
  • 1篇秦祖军

传媒

  • 13篇电子工业专用...
  • 12篇集成电路应用
  • 8篇电子技术（上...
  • 8篇仪器仪表用户
  • 7篇中国集成电路
  • 3篇激光与光电子...
  • 3篇激光杂志
  • 3篇光电子技术
  • 3篇机电信息
  • 3篇电脑知识与技...
  • 2篇光学仪器
  • 2篇控制工程
  • 2篇科技创新与应...
  • 1篇振动．测试与...
  • 1篇科研管理
  • 1篇制造技术与机...
  • 1篇科技导报
  • 1篇电子世界
  • 1篇清华大学学报...
  • 1篇工业控制计算...

年份

  • 74篇2024
  • 190篇2023
  • 310篇2022
  • 433篇2021
  • 430篇2020
  • 425篇2019
  • 364篇2018
  • 101篇2017
共 2,330 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
一种掩模台电机更换装置
本实用新型属于光刻机设备技术领域，公开了一种掩模台电机更换装置，该掩模台电机更换装置包括：支撑组件，其设有连接部；升降组件，其连接于所述支撑组件；运动组件，其分别与所述升降组件和掩模台电机连接，所述运动组件被配置为能够沿...
赵康梅王昱郑清泉丛国栋
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掩膜板及曝光方法
本发明提供了一种掩膜板及曝光方法，所述掩膜图形是由多个呈多边形的单位图形规则排布而成的，且每个所述单位图形均包括不透光部分及围绕所述不透光部分的透光部分，通过所述掩膜图形对所述LED基底的若干曝光区域执行曝光后，可以在每...
任书铭章磊李成立
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芯片通用批键合装置及方法
本发明涉及一种芯片通用批键合装置及方法，该装置包括物料取放区和传输工作区，其中：所述物料取放区包括用于提供芯片的蓝膜片取放区和用于存放基底的基底取放区，所述蓝膜片取放区和基底取放区分设于所述传输工作区的两端；所述传输工作...
郭耸朱岳彬陈飞彪夏海
文献传递
传输系统及检测线
本实用新型提供了一种应用于传输领域的传输系统及检测线。该传输系统包括输送装置，用于输送物料；一缓冲装置，用于使所述输送装置上的所述物料缓冲减速；以及一定位装置，用于在所述物料缓冲减速时与所述缓冲装置一同对所述物料进行定位...
许伍王璟廖飞红
棱镜组件、光学系统、光刻设备及光场旋转方法
本发明涉及一种棱镜组件、光学系统、光刻设备及光场旋转方法，该棱镜组件包括一个入射面、一个分光面、多个第一内反射面、多个第二内反射面以及一个合光面，光束从所述入射面射入所述棱镜组件并在所述分光面上被分光得到正交的S偏光和P...
孙建超周媛红
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一种具有调焦功能的对准系统及对准方法
本发明涉及一种具有调焦功能的对准系统及对准方法，该系统包括对准成像单元、信号处理及控制单元以及用于承载硅片的工件台，硅片上设有对准标记，对准成像单元包括照明单元、具有相位差的相移标记及探测单元，探测单元用于探测硅片上的对...
于大维杜荣
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光刻装置、光刻装置的垂向控制方法及曝光方法
本发明提供了一种光刻装置、光刻装置的垂向控制方法及曝光方法，所述测量单元获取所述物料表面的面型数据，所述掩模单元、投影物镜单元或所述物料承载单元根据所述物料表面的面型数据垂向运动，以使所述物料的表面与所述投影物镜单元的最...
陈丹
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一种半导体器件的制备方法、装置及曝光机
本发明实施例公开了一种半导体器件的制备方法、装置及曝光机。该制备方法包括：在前层绝缘层和前层金属层背离衬底一侧涂布光刻胶，形成第一光刻胶层；其中，衬底包括边缘区和器件区；对第一光刻胶层曝光；对第一光刻胶层显影，以使边缘区...
唐磊章磊李成立陈海将
一种气浴装置和光刻机
本发明提供一种气浴装置和光刻机。所述气浴装置用于向所述运动件吹送气体，所述气浴装置包括供气单元、至少一个气体调节单元和控制单元，所述供气单元用于提供气体，所述气体调节单元用于吹送所述气体，且所述气体调节单元吹送所述气体的...
刘伟
吸盘
本发明提供了一种吸盘，所述吸盘包括吸附单元、支撑固定单元、整体冷却单元及局部冷却单元，所述吸附单元设置于所述支撑固定单元上，所述局部冷却单元与所述整体冷却单元连通，并穿过所述支撑固定单元与所述吸附单元接触。通过利用局部冷...
汤世炎王继明
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