2024年12月25日
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湖北鼎龙控股股份有限公司
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2021
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2020
28篇
2019
29篇
2018
10篇
2017
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抛光垫的制备方法
本发明公开了一种抛光垫的制备方法,解决了现有抛光制备过程中散热不均导致抛光垫密度不均、影响研磨稳定性的问题。技术方案包括在模具中设置含有或通入冷却剂的冷却腔,然后将原料浇注在模具中得到第一垫层;由第一垫层中取出含有冷却剂...
朱顺全
吴晓茜
张季平
车丽媛
文献传递
抛光垫、研磨设备及制造半导体器件的方法
本发明公开了涉及半导体的化学机械抛光技术领域的抛光垫、研磨设备及制造半导体器件的方法。所述抛光垫具有抛光面,自抛光面圆心向外周缘方向,在抛光面上至少依次设置第一环状研磨单元群、第二环状研磨单元群和第三环状研磨单元群;所述...
黄学良
王淑芹
王欢
王腾
张季平
朱顺全
一种自修整抛光垫及其制备方法和应用
本发明公开一种自修整抛光垫及其制备方法和应用,所述自修整抛光垫包括抛光层,所述抛光层包括不连续相聚合物材料和连续相聚合物材料,所述不连续相聚合物材料均匀分散在所述连续相聚合物材料中,所述连续相聚合物材料包括水溶性聚合物材...
王腾
殷晶莉
罗乙杰
刘敏
王椎
林文多
杨浩
黄锐
微波辐射法辅助制备彩色碳粉的方法
本发明公开了一种微波辐射辅助制备彩色碳粉的方法,包括在微波辐射作用下,使乳液预聚体A升温至聚合反应温度并保持该温度至聚合反应结束,乳液预聚体A在引发剂的存在下发生聚合反应,以制备阴离子型含蜡聚合物复合乳液A;在微波辐射作...
朱双全
李小龙
肖桂林
文献传递
一种抛光垫及其制备方法、应用
本发明公开一种抛光垫及其制备方法、应用。该抛光垫具有不同压缩比和回弹率的组合片共同形成的缓冲层及叠合在缓冲层上的抛光层;不同组合片形成中心圆心缓冲区、环绕中心缓冲区依次设置的一个或一个以上的中间环形缓冲区以及环绕中间缓冲...
王腾
罗乙杰
王磊
刘敏
杨浩
文献传递
用于调色剂的添加剂及其制备方法
本发明涉及一种用于调色剂的添加剂及其制备方法。用于调色剂的添加剂为具有特定结构的流动改性剂改性纳米二氧化硅复合体,具体将纳米二氧化硅进行改性,并在表面接枝具有特定结构的流动改性剂得到的。所述添加剂具有如下述式(1)所示的...
夏元玲
李清涛
李小龙
张季平
朱顺全
抛光垫及其研磨设备
本发明公开了一种化学机械抛光垫,包括抛光层,所述抛光层包括设置在所述抛光层中心的中心区域、设置在所述抛光层外周的外周区域、以及位于所述中心区域与所述外周区域之间的连接区域,所述连接区域包括同心设置的环形沟槽和环形间断沟槽...
罗乙杰
康靖
杨浩
二胺化合物、树脂、感光树脂组合物及固化膜
本发明公开了涉及感光树脂材料技术领域的二胺化合物、树脂、感光树脂组合物及固化膜。所述二胺化合物通式如式(1)所示:<Image file="DDA0003397170980000011.GIF" he="391" img...
周小明
肖桂林
鲁丽平
王元强
朱双全
抛光垫的连续浇注制造方法
本发明公开了一种抛光垫的连续浇注制造方法,涉及半导体制备领域。本发明的技术方案包括将装有任意大小的环形模框的模具经传送带送至浇注机的浇注区,浇注机的浇注头移动到模框的圆心上方,开始向模框内浇注物料,浇注结束后得到浇注体,...
王磊
余军
李云峰
朱顺全
文献传递
一种抛光垫及半导体器件的制造方法
本发明公开一种抛光垫及半导体器件的制造方法,该方法包括使用具有特定图案及物性参数的抛光垫对半导体晶片表面进行研磨的工序;本发明还公开了一种抛光垫,所述抛光垫包括抛光层,所述抛光层硬度为40‑70D,密度为0.6‑0.9g...
黄学良
蔡长益
邱瑞英
桂辉辉
刘敏
罗乙杰
杨佳佳
张季平
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