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三菱化学工程株式会社
作品数:
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相关机构:
日本瑞环株式会社
三菱化学株式会社
立山机械股份有限公司
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相关领域:
化学工程
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日本瑞环株式会社
三菱化学株式会社
立山机械股份有限公司
三菱化学食品株式会社
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化学工程
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蒸馏
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二次电池
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机构
31篇
三菱化学工程...
4篇
三菱化学株式...
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三菱化学食品...
2篇
立山机械股份...
1篇
三菱丽阳株式...
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1篇
2022
1篇
2021
2篇
2019
2篇
2017
2篇
2016
1篇
2015
4篇
2014
2篇
2013
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2012
2篇
2011
1篇
2009
4篇
2007
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2005
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2003
1篇
2002
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板式反应器、其制作方法及使用板式反应器制造反应生成物的制造方法
本发明的课题在于提供能够在板式反应器中防止反应生成物的制造中的反应失控且可用于以高生产率制造反应生成物的技术;至少均匀且容易地向板式反应器中的相邻传热板间的间隙填充催化剂的技术;以及即使在高负荷的条件下运转也能抑制压力损...
矶谷真治
神野公克
坂仓康之
川谷洋治
矢田修平
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显影液的浓度调节方法、调制装置和显影液
本发明提供一种显影液的浓度调节方法和调制装置,其用于调节在光致抗蚀剂显影工序中使用的碱性显影液的碱浓度,从而能够进行高品质的显影处理。在显影液的浓度调节方法中,测定显影液的碱浓度和显影液中的碳酸盐浓度,按照能够发挥使显影...
高崎纪博
杉本建二
棚桥亮太
板东嘉文
能谷敦子
谷口克人
文献传递
氟酸的回收方法
本发明提供从玻璃基板的蚀刻工序等排出的氟酸废液中回收氟酸的方法,是不产生水垢、可以以高收率回收杂质更少的精制氟酸的氟酸的回收方法。氟酸的回收方法通过蒸馏法从含有金属成分的氟酸废液中回收氟酸,具备:将氟酸废液供给到蒸发釜(...
宫田坚洋
亀山薰
川瀬泰人
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显影液的浓度调节方法、调制装置和显影液
本发明提供一种显影液的浓度调节方法和调制装置,其用于调节在光致抗蚀剂显影工序中使用的碱性显影液的碱浓度,从而能够进行高品质的显影处理。在显影液的浓度调节方法中,测定显影液的碱浓度和显影液中的碳酸盐浓度,按照能够发挥使显影...
高崎纪博
杉本建二
棚桥亮太
板东嘉文
能谷敦子
谷口克人
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清洗废液的处理装置和清洗废液的处理方法
提供一种清洗废液的处理装置和清洗废液的处理方法,其为处理锂离子二次电池的电极制造工序中所排放的清洗废液的装置和方法,可以高效分离液体成分和固体成分、充分回收液体成分并进行减容处理。处理清洗废液的装置具备有:作为搅拌清洗废...
田村贵弘
西岛阳大郎
唐渊
方南日
化合物的制造方法和前述制造方法中使用的化合物的制造系统
本发明的化合物的制造方法的特征在于,使用连续槽型反应装置,所述连续槽型反应装置具备:用于制造化合物的2个以上的反应槽;和将反应液从上游的反应槽送至下游的反应槽的反应液输送管,将在前述反应液输送管内流动的前述反应液的雷诺数...
加纳诚
苅谷贵光
番场启泰
马渡朋彦
加藤雄
平地务
立花启造
上出昌宏
森本惠
文献传递
清洗废液的处理装置和清洗废液的处理方法
提供一种清洗废液的处理装置和清洗废液的处理方法,其为处理锂离子二次电池的电极制造工序中所排放的清洗废液的装置和方法,可以高效分离液体成分和固体成分、充分回收液体成分并进行减容处理。处理清洗废液的装置具备有:作为搅拌清洗废...
田村贵弘
西岛阳大郎
唐渊
方南日
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NMP的蒸馏装置
本发明提供一种NMP的蒸馏装置,其能够将使用过的NMP现场再生,能够简单且安全地精制NMP,且能够进一步提高回收率。该NMP的蒸馏装置具有原料罐(41)、蒸馏塔(1)和产品罐(42),蒸馏塔(1)为侧馏分方式的蒸馏塔,包...
田村贵弘
武田久隆
工藤佳织
研磨液的制造装置
本发明提供将在半导体装置制造工艺的研磨加工中所使用的二氧化硅系研磨液进行调制的研磨液制造装置,该装置可在线、连续且高精度地管理研磨液中大于规定粒径的磨粒的产生。研磨液的制造装置是调制主要由纯水和磨粒构成的研磨液的制造装置...
近藤郁
津田直纪
高崎纪博
板东嘉文
日野增美
宫田坚洋
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NMP的蒸馏装置
本发明提供一种对从锂离子二次电池的电极制造工序等中回收的使用后的NMP进行再生的蒸馏装置,其能够简单且安全地精制,适于在现场自动运转。NMP的蒸馏装置具备原料罐(41)、蒸馏塔(1)和制品罐(42),蒸馏塔(1)包括分离...
宫田坚洋
川田智之
田村贵弘
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