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卡尔蔡司SMS有限公司

作品数：10 被引量：0H指数：0
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相关领域：电子电信理学机械工程更多>>

合作机构

文献类型

  • 10篇中文专利

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇机械工程
  • 1篇理学

主题

  • 7篇掩模
  • 5篇像素
  • 4篇光掩模
  • 3篇基板
  • 3篇激光
  • 3篇光刻
  • 3篇光刻掩模
  • 3篇光学
  • 2篇雕刻
  • 2篇照明
  • 2篇照明系统
  • 2篇遮蔽
  • 2篇散射
  • 2篇散射函数
  • 2篇均匀性
  • 2篇激光系统
  • 2篇共轭
  • 2篇光束
  • 2篇光束聚焦
  • 2篇光衰

机构

  • 10篇卡尔蔡司SM...
  • 4篇卡尔蔡司SM...

年份

  • 1篇2024
  • 1篇2023
  • 1篇2022
  • 1篇2021
  • 2篇2020
  • 2篇2019
  • 1篇2017
  • 1篇2013
共 10 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
决定要引入光刻掩模的基板的一个或多个像素的效应的方法和设备
本发明关于用以决定要引入光刻掩模(100，300)的基板(110，310)的一个或多个像素的效应的方法，光刻掩模(100，300)具有一个或多个图案元件(120，360)，其中一个或多个像素用以至少部分地校正光刻掩模(1...
J.韦尔特U.斯特恩K.戈尔哈德V.德米特里夫
文献传递
确定引入光刻掩模基板中的多个像素的位置的方法和装置
本发明揭示一种用于确定通过激光系统(370)要引入光刻掩模(100、600)的基板(110)中的多个像素的位置的方法和装置，其中像素用于至少部分校正光刻掩模(100、600)的一个或多个误差(140、145)。该方法包括...
V.德米特里耶夫K.戈哈德J.韦尔特T.塞尔詹纽克
文献传递
确定引入光刻掩模基板中的多个像素的位置的方法和装置
本发明揭示一种用于确定通过激光系统(370)要引入光刻掩模(100、600)的基板(110)中的多个像素的位置的方法和装置，其中像素用于至少部分校正光刻掩模(100、600)的一个或多个误差(140、145)。该方法包括...
V.德米特里耶夫K.戈哈德J.韦尔特T.塞尔詹纽克
校正半导体光刻的光掩模的临界尺寸均匀性的方法
本发明涉及校正半导体光刻的光掩模(2)的临界尺寸均匀性(CDU)的方法，包括以下步骤：‑确定转换系数作为校准参数，‑通过写入像素场(5)校正所述光掩模(2)，‑验证因此校正的光掩模(2)，其特征在于，转换系数用于验证校正...
T.塞勒J.韦尔特K.戈哈德V.德米蒂耶夫U.布特格雷特T.谢鲁布尔Y.尤瓦尔佩列茨
光学系统及使用此系统校正掩模缺陷的方法
本发明关于光学系统，其包含扫描单元、至少包含第一透镜元件的第一透镜元件组，设计以将光束聚焦至焦点的聚焦单元，其中聚焦单元包含第二透镜元件组，其至少包含第二透镜元件，以及成像镜头。成像镜头更包含光瞳平面及波前操纵器。光学系...
M.塞斯尔伯格V.德米特里耶夫J.韦尔特U.斯特恩T.科恩E.格莱策
校正半导体光刻的光掩模的临界尺寸均匀性的方法
本发明涉及校正半导体光刻的光掩模(2)的临界尺寸均匀性(CDU)的方法，包括以下步骤：‑确定转换系数作为校准参数，‑通过写入像素场(5)校正所述光掩模(2)，‑验证因此校正的光掩模(2)，其特征在于，转换系数用于验证校正...
T.塞勒J.韦尔特K.戈哈德V.德米蒂耶夫U.布特格雷特T.谢鲁布尔Y.尤瓦尔佩列茨
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光学系统及使用此系统校正掩模缺陷的方法
本发明关于光学系统，其包含扫描单元、至少包含第一透镜元件的第一透镜元件组，设计以将光束聚焦至焦点的聚焦单元，其中聚焦单元包含第二透镜元件组，其至少包含第二透镜元件，以及成像镜头。成像镜头更包含光瞳平面及波前操纵器。光学系...
M.塞斯尔伯格V.德米特里耶夫J.韦尔特U.斯特恩T.科恩E.格莱策
文献传递
传达方向选择性光衰减的设备和方法
一种传达方向选择性光衰减的方法、设备。一种向光掩模传达方向选择性光衰减的方法可以包含对不同入射方向的光线分配不同衰减等级。所述方法还可以包括计算遮蔽元件阵列，以取决于光线的入射方向，用所分配的不同衰减等级来衰减光线。所述...
V.德米特里耶夫
文献传递
制造、俘获和控制液体中气泡的方法
本发明公开了一种制造、俘获和控制液体中气体微泡的方法。该方法包括提供用于产生激光脉冲辐射的脉冲激光源和聚焦光学装置；用超过聚焦带处液体中的光学击穿阈值的能量、将脉冲激光辐射聚焦至所述液体中的聚焦带。同时建议使用聚焦光学装...
谢尔盖·澳斯姆柯夫列夫·德沃尔金弗拉基米尔·德米特里耶夫
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传达方向选择性光衰减的设备和方法
一种传达方向选择性光衰减的方法、设备。一种向光掩模传达方向选择性光衰减的方法可以包含对不同入射方向的光线分配不同衰减等级。所述方法还可以包括计算遮蔽元件阵列，以取决于光线的入射方向，用所分配的不同衰减等级来衰减光线。所述...
V.德米特里耶夫
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