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湖南省科技厅重点项目(05FJ2005)

作品数:2 被引量:0H指数:0
相关作者:郑学军周益春唐明华成传品叶志更多>>
相关机构:湘潭大学更多>>
发文基金:湖南省科技厅重点项目国家自然科学基金湖南省自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 1篇溶胶
  • 1篇溶胶-凝胶
  • 1篇铁电
  • 1篇铁电性
  • 1篇退火
  • 1篇退火温度
  • 1篇退火研究
  • 1篇POTENT...
  • 1篇THRESH...
  • 1篇YB
  • 1篇BI
  • 1篇MOSFET...
  • 1篇SILICO...

机构

  • 2篇湘潭大学

作者

  • 2篇唐明华
  • 2篇周益春
  • 2篇郑学军
  • 1篇张俊杰
  • 1篇唐俊雄
  • 1篇杨锋
  • 1篇叶志
  • 1篇成传品

传媒

  • 1篇半导体技术
  • 1篇Journa...

年份

  • 1篇2008
  • 1篇2007
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
A Temperature-Dependent Model for Threshold Voltage and Potential Distribution of Fully Depleted SOI MOSFETs
2008年
A temperature-dependent model for threshold voltage and potential distribution of fully depleted silicon-on- insulator metal-oxide-semiconductor field-effect transistors is developed. The two-dimensional potential distribution function in the silicon thin film based on an approximate parabolic function has been applied to solve the two-dimensional Poisson's equation with suitable boundary conditions. The minimum of the surface potential is used to deduce the threshold voltage model. The model reveals the variations of potential distribution and threshold voltage with temperature, taking into account short-channel effects. Furthermore, the model is verified by the SILVACO ATLAS simulation. The calculations and the simulation agree well.
唐俊雄唐明华杨锋张俊杰周益春郑学军
关键词:POTENTIAL
(Bi,Yb)_4Ti_3O_(12)薄膜退火研究
2007年
采用溶胶-凝胶旋涂法在Pt(111)/Ti/SiO2/Si(100)基底上成功地沉积出(Bi,Yb)4Ti3O12[Bi3.4Yb0.6Ti3O12,BYT]铁电薄膜。系统地研究了退火温度对BYT铁电薄膜的晶体结构、表面形貌以及铁电性能(剩余极化强度)的影响。揭示了退火温度对BYT薄膜的晶体结构、表面形貌以及铁电性能有着明显的影响,给出了最佳退火温度为700℃左右。
成传品唐明华叶志周益春郑学军
关键词:溶胶-凝胶退火温度铁电性
共1页<1>
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