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BiFeO_3多铁薄膜掺杂改性研究进展被引量：7: 2015年; 铁酸铋是目前发现的唯一的室温单相多铁性的材料,其禁带宽度较小,剩余极化强度较大,居里温度较高,在光电器件、自旋电子器件、铁电随机存储器、磁电存储单元等领域有着广阔的应用前景。但铁酸铋薄膜存在漏电流较大、磁电耦合性较弱等问题,制约了在实际中的应用。离子掺杂具有操作方便、易于实现薄膜的微结构及性能调控等优点,因而受到广泛关注。综述了国内外近年来关于铁酸铋薄膜电性能掺杂改性的相关工作,阐述了不同种类的掺杂,包括A位(三价镧系元素与二价碱金属元素)、B位(过渡金属元素等)以及AB位共掺杂,同时根据掺杂对铁酸铋薄膜的漏电流、铁电性以及介电性能的影响,对A位掺杂和B位掺杂中的元素进行了分类,系统总结了各类元素掺杂改性的效果及其机理。最后,提出了铁酸铋薄膜亟待解决的问题。; 张玉雷天宇任红孙远洋蔡苇符春林; 关键词：铁酸铋漏电流铁电性

组成对锆钛酸铅铁电薄膜电性能影响的研究进展被引量：3: 2013年; 锆钛酸铅材料因具有优异的介电、压电和铁电性被广泛用于制作电容器、压电器件和铁电随机存储器等功能器件。本文综述了锆钛酸铅铁电薄膜材料中锆钛比、掺杂种类及掺量对其介电性和铁电性的影响,并提出了亟待解决的问题。; 钟世兴蔡苇符春林刘凯华; 关键词：锆钛酸铅掺杂介电铁电

铁酸铋薄膜的溶胶-凝胶法制备及电性能研究进展被引量：9: 2014年; 铁酸铋是唯一一种在室温下存在的单相多铁材料,因其具有较高的铁电居里温度、较大的剩余极化强度、较小的禁带宽度和多铁特性,受到国内外的广泛关注。溶胶-凝胶法是制备铁酸铋薄膜的一种常见方法。综述了近年来溶胶-凝胶法制备铁酸铋薄膜的研究进展,详细阐述了制备工艺参数(前驱液、退火温度、退火气氛、底电极)与掺杂对铁酸铋薄膜电性能的影响;分析了不同制备工艺导致薄膜电性能出现差异的原因;归纳、总结出了目前溶胶-凝胶法制备铁酸铋薄膜的较佳工艺条件;最后,指出了亟待解决的问题。; 雷天宇孙远洋任红张玉蔡苇符春林; 关键词：铁酸铋溶胶-凝胶法电学性能

锆钛酸铅铁电薄膜的制备及光伏特性研究进展被引量：2: 2013年; 介绍了铁电材料光伏效应的研究背景,指出了锆钛酸铅铁电薄膜光伏特性的研究意义。分析、归纳了锆钛酸铅铁电薄膜电极、膜厚和退火制度(退火温度、退火时间和退火气氛)等工艺参数与所制样品的界面层厚度、肖特基势垒以及取向的关系,综述了这些工艺参数对锆钛酸铅铁电薄膜光伏特性影响的研究现状,提出了锆钛酸铅铁电薄膜光伏特性研究中亟待解决的问题。; 刘凯华蔡苇符春林成计平龚心波; 关键词：锆钛酸铅铁电薄膜光伏特性电极膜厚退火制度

锆钛酸铅薄膜的溶胶-凝胶制备工艺及结构与物性的研究: 2015年; 采用溶胶-凝胶匀胶法制备锆钛酸铅铁电薄膜,研究了前驱体影响因素（如有机溶剂、前驱单体加入顺序、添加剂）、溶胶影响因素（如溶胶浓度、p H值）、匀胶速度和退火温度对成膜质量及薄膜微结构、铁电性的影响。结果表明：采用乙二醇甲醚为溶剂对Pb2＋、Zr4＋和Ti4＋金属盐进行溶解优于乙醇和乙二醇,但由于乙二醇甲醚对硝酸锆的溶解性差,对硝酸锆应先用乙醇溶解再加入乙二醇甲醚的方法来进行溶解;以硝酸锆为Zr源配制溶胶时,只有先将Pb前驱液滴加到Ti前驱液中,然后再滴入Zr前驱液的方式才能得到澄清前驱体。将锆钛酸铅溶胶浓度和p H值分别控制在0.2-0.3 mol/L和2-3较为适宜,与此溶胶相适应的匀胶参数：转速为4000 r/min,时间为60 s。随退火温度升高,薄膜的晶化程度增加,且逐渐表现出（100）晶面择优取向,晶格常数c和四方率c/a逐渐增加,而晶格常数a逐渐减小;随退火温度升高,晶粒尺寸逐渐增大,使得剩余极化强度逐渐增加,矫顽场强逐渐减小。当退火温度为850℃时制备的锆钛酸铅薄膜具有均匀的晶粒、较低的表面粗糙度和最为优异的铁电性。; 蔡苇陈晓勇符春林高荣礼邓小玲陈刚; 关键词：锆钛酸铅溶胶-凝胶法铁电

微波烧结制备铁酸铋陶瓷的介电性和铁电性被引量：2: 2013年; 采用微波烧结法制备铁酸铋多铁陶瓷，研究了微波烧结时间对其显微结构、介电性和铁电性的影响。结果表明：在4kW下烧结35～40min制备出基本为纯相的铁酸铋陶瓷；随烧结时间增加，铁酸铋陶瓷结构越来越致密，晶粒尺寸有一定程度增大；在-10—90℃范围内，介质损耗随烧结时间增加而增大；随微波烧结时间增加，剩余极化强度增大，而矫顽场强先增加后减小，且铁电性具有明显的频率依赖性；铁酸铋陶瓷的漏电流随微波烧结时间增加而减小，这是结构致密化的结果。; 蔡苇符春林胡文广邓小玲陈刚; 关键词：铁酸铋微波烧结介电铁电

磁控溅射法制备铁酸铋基薄膜的研究进展被引量：1: 2014年; 铁酸铋材料是唯一的室温单相多铁材料,在微电子学、光电子学等领域具有广泛的应用。磁控溅射法是制备铁酸铋薄膜的一种常见手段。本文综述了射频磁控溅射制备铁酸铋薄膜的研究进展,详细阐述了溅射工艺参数(靶材、缓冲层、溅射气压、氧气压力、沉积温度)对其微结构与电性能的影响,并提出了亟待解决的问题。; 孙远洋雷天宇张玉任红蔡苇符春林; 关键词：磁控溅射铁电介电

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重庆市教育委员会科学技术研究项目(KJ131402)