国家自然科学基金(60776020) 作品数:24 被引量:34 H指数:3 相关作者: 姚若河 李斌 吴为敬 刘远 欧秀平 更多>> 相关机构: 华南理工大学 广东工业大学 广东农工商职业技术学院 更多>> 发文基金: 国家自然科学基金 博士科研启动基金 广东省科技攻关计划 更多>> 相关领域: 电子电信 自动化与计算机技术 电气工程 理学 更多>>
高效的五基数剩余数至二进制数转换器设计 被引量:1 2010年 针对混合基算法无法同时处理多个模而导致基于此算法的剩余数至二进制数转换器面积和延时较大的问题,提出了一个基于中国余数定理的高效并行的转换算法,并给出了相应的电路实现.该算法采用五基数模集合{2n-1,2n,2n+1,2n+1-1,2n-1-1}同时处理5个模,消除了所有超过动态范围的项,电路完全由加法器构成.实验结果表明,相比同类的转换器,文中的转换器节省了12%的面积,并使计算速度提高了14%. 陈建文 姚若河关键词:加法器 多晶硅薄膜晶体管的有效迁移率模型 被引量:1 2010年 提出一个多晶硅薄膜晶体管的有效迁移率模型.该模型同时考虑了晶体管沟道内晶粒的数目、载流子在晶粒与晶粒间界处不同的输运特性和栅致迁移率降低效应,适应于从小晶粒到大晶粒线性区的多晶硅薄膜晶体管.研究表明:当晶粒尺寸Lg<0.4μm时,其有效迁移率主要由晶粒间界控制;降低晶粒间界陷阱态密度可提高有效迁移率;减小栅氧化层厚度可增强栅压对有效迁移率的控制作用;高栅压时出现明显的有效迁移率退化效应. 姚若河 欧秀平关键词:多晶硅 薄膜晶体管 迁移率模型 晶粒间界 多晶硅薄膜晶体管中的晶粒间界电荷分享效应 被引量:1 2008年 通过对晶粒间界两侧耗尽区建立准二维模型,研究晶粒间界电荷分享效应对多晶硅薄膜晶体管阈值电压的影响。研究表明,考虑了晶粒间界电荷分享效应的阈值电压将变小,其中晶粒尺寸对阈值电压的影响最大。在此基础上,建立了多晶硅薄膜晶体管的阈值电压解析模型。 欧秀平 姚若河 吴为敬关键词:多晶硅 薄膜晶体管 晶粒间界 基于扩散模型的ZnO/p-Si异质结伏安特性研究 被引量:1 2011年 为了揭示ZnO/p-Si异质结的导电机理,基于p-n结扩散模型和Anderson扩散模型推导了ZnO/p-Si异质结在理想情况下的伏安特性,并分析了掺杂浓度、工作温度以及能带补偿的影响.结果表明:当正向偏压超过势垒高度时,界面两边多数载流子由耗尽变为堆积,形成反向势垒,对异质结的正向电流起阻碍作用;当外加正向电压等于内建势垒高度时,伏安特性曲线出现转折点;当外加正向电压超过转折点电压时,电流密度随电压升高而增大的速度减缓;反向饱和电流密度随p-Si受主掺杂浓度的增加和工作温度的降低而减小,但与ZnO的掺杂浓度和导带补偿无关;p-Si和ZnO的掺杂浓度减小、工作温度升高以及导带补偿增大均会引起转折点位置对应的外加正向电压减小. 熊超 姚若河 耿魁伟关键词:氧化锌 异质结 伏安特性 多晶硅薄膜晶体管Kink效应研究与建模 2008年 多晶硅薄膜晶体管(P-Si TFTs)技术在SOP(system on panel)显示应用中发挥着越来越重要的作用。随着尺寸的不断缩小,P-Si TFT的Kink效应越来越明显,对有源液晶显示矩阵和驱动电路的性能影响很大。对发生Kink效应的物理机制、二维数值仿真及其一维解析模型进行了分析,讨论了晶粒边界、沟道长度与Kink效应的关系,提出建立适合电路仿真的一维解析模型的关键与展望。 陈荣盛 郑学仁 邓婉玲 姚若河 吴朝晖 吴为敬关键词:多晶硅薄膜晶体管 KINK LSSVM在指数寿命型小子样IC寿命预测的应用 被引量:2 2011年 针对传统寿命预测方法需要大量样本与现代高可靠集成电路(IC)在寿命试验中通常只有少量失效样本的矛盾,提出了基于最小二乘支持向量机(LSSVM)的指数寿命型小子样IC寿命预测方法。用蒙特卡罗方法研究了该方法在指数寿命型IC寿命预测应用中的可行性。同时与基于神经网络的预测方法相比。结果表明基于LSSVM的方法能更精确地预测小子样下IC的寿命,可为预测指数寿命型小子样IC的寿命提供一种新的有效途径。 邹心遥 姚若河关键词:最小二乘支持向量机 集成电路 小子样 4基数模集合反向转换器的设计 2012年 针对大动态范围剩余数系统,给出了一个新的4基数模集合{2n-1,22n+1,2n+1,2n-1},基于新中国余数定理1实现了该模集合的剩余数至二进制的高效并行转换算法,并给出相应的转换器电路实现.与同类模集合反向转换器相比,文中提出的转换器电路完全由加法器构成,大大降低了对硬件电路的要求,明显减小了转换器的面积和电路延迟,提高了转换效率. 吕晓兰 姚若河关键词:加法器 基于BSIM4模型的不对称性研究及改进 2013年 以BSIM4模型为基础,从沟道电荷密度、有效源漏电压、载流子速度饱和及阈值电压等几个方面出发,找出BSIM4模型中导致不对称的因素,给出了对称的沟道电荷密度公式、源漏有效电压公式和载流子速度饱和公式;同时通过在源端和漏端分别计算的方法,抵消源/漏电压处理方式不同所带来的不对称性;最后推导出新的对称的沟道电流公式.模型验证表明:改进后的模型不但可以准确地模拟器件的特性,而且拥有更高的对称性.改进模型拓宽了BSIM4模型的运用范围,可以更有效地运用于RF集成电路设计和仿真. 李斌 潘元真 许跃彬关键词:集成电路 对称性 仿真 抗谐波锁定的延时锁相环 被引量:1 2010年 为了解决传统延时锁相环(DLL)结构在宽频率锁定范围中的无法锁定和谐波锁定问题,在传统DLL结构中加入启动控制电路,使DLL在上电阶段把环路滤波电容上的电压充电至电源电压,从而使压控延时线的初始延时在上电后达到最小,并且小于输入参考信号的1个周期.设计了带开关控制的鉴相器,将DLL的锁定过程分为粗调和微调两个阶段,压控延时线的延时在粗调阶段只能逐渐增大,在微调阶段微调,直到延时为输入参考信号的1个周期,从而克服了无法锁定以及谐波锁定的问题,而且减小了DLL的锁定时间.采用GSMC 0.13μm1P7MCMOS工艺设计、1.2 V的电源电压进行仿真,结果表明该DLL工作频率范围为300~500MHz,功耗小于3mW. 姚若河 陈中盟关键词:锁相环 启动控制电路 鉴相器 深亚微米MOS晶体管总剂量效应模型研究 2013年 总剂量辐照效应会在器件氧化层中引入固定电荷和界面态。对于深亚微米CMOS器件而言,栅氧化层非常薄,固定电荷和界面态的变化不明显,而STI(Shallow Trench Isolation)场氧隔离区中电荷变化却相对明显,构成了器件静态泄漏电流产生的主要原因。针对此现象,通过引入表面势分量φrad,描述了总剂量辐照效应下STI场氧隔离区固定电荷和界面态变化特性,对STI场氧隔离区引入的寄生晶体管进行建模,修正了漏电流方程,新的模型可以较准确地描述深亚微米CMOS器件在总剂量辐照应力下的退化特性。 李斌 许跃彬 潘元真关键词:总剂量效应 浅沟道隔离 泄漏电流