国家自然科学基金(51201111)
- 作品数：7 被引量：11H指数：2
- 相关作者：刘春海金永中崔学军杨瑞嵩叶松更多>>
- 相关机构：四川理工学院成都理工大学乐山师范学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金材料腐蚀与防护四川省重点实验室开放基金项目四川省教育厅资助科研项目更多>>
- 相关领域：电子电信理学电气工程天文地球更多>>
- 智能监控系统记录异常目标移动路线的方法
- 2015年
- 传统的智能监控系统的监控装置是独立和分散的,其功能是不间断地拍摄所在区域的视频、音频等信息。当异常事件发生后,查找异常目标的方法大都是盲目地查看所有的监控视频,这就造成了人力物力极大的浪费。为有效解决这一问题,提出一种智能监控系统记录异常目标移动路线的方法。首先,将监控区域和监控装置进行编码,当监控装置监控到有异常目标(包括人和物品)进入监控区域时,将异常目标进行编码。同时,生成一个日志文件,用于记录异常目标从进入到离开整个监控区域的移动路线和全部过程(每条日志记录包括时间、区域编码、停留时间等信息)。该方法不仅适合单监控装置的监控系统,更加适合有多个监控装置的监控系统。
- 王素娟周丹刘春海柏宏斌杨静胡燕飞袁玉全
- 关键词：监控装置日志文件
- LiFePO_4/C多层膜的制备及电化学性能研究被引量：1
- 2019年
- 目的研究LiFePO_4/C多层膜在不同的调制周期下的电化学性能。方法采用多靶磁控溅射方法,在304不锈钢基底上,先沉积10 nm Ti薄膜作为阻挡层,然后交替沉积LiFePO_4薄膜和C薄膜,制备三组不同调制周期的[LiFePO4/C]n多层膜。通过扫描电子显微镜(SEM)及其附带的EDS能谱仪对退火前和经500℃退火2 h后的不同调制周期[LiFePO_4/C]n多层膜的截面形貌、成分进行表征,利用X射线衍射仪(XRD)对退火前和经500℃退火2 h后的LiFePO_4薄膜及不同调制周期[LiFePO4/C]n多层膜的结构进行表征,利用激光显微拉曼光谱仪(Raman)分析经500℃退火2 h后不同调制周期[LiFePO_4/C]n多层膜中的C结构,利用循环伏安和恒流充放电法对LiFePO_4薄膜和不同调制周期[LiFePO_4/C]n多层膜的电化学性能进行测试。结果调制周期为7.5次的[LiFePO4 (160 nm)/C(16 nm)]7.5多层膜中的碳石墨化程度高于调制周期为15次的[LiFePO4(80 nm)/C(8 nm)]15和调制周期为5次的[LiFePO_4 (240 nm)/C(24 nm)]5多层膜,且具有更好的充放电容量和倍率性能。在0.1 C放电倍率下,[LiFePO_4 (160 nm)/C(16 nm)]7.5多层膜的放电容量为151 mAh/g,在5 C高放电倍率下的放电容量为30 mAh/g。结论适当的调制周期下,LiFePO_4/C多层膜具有良好的电化学性能。
- 陈昶曹凤红邓迟徐要辉刘春海张伟
- 关键词：调制周期石墨化程度电化学性能
- (AlCrMoNbZr)_(1-x-y)N_yO_x高熵合金涂层的制备及性能研究被引量：4
- 2019年
- 采用多靶磁控共溅射技术的单靶功率可调特点,在Zr-4合金基底上,通过调节O_2流量制备出(AlCrMoNbZr)_(1-x-y)N_yO_x高熵合金涂层。利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、纳米压痕仪(nanoindentation)以及电化学工作站等对不同O_2流量下制备的(AlCrMoNbZr)_(1-x-y)N_yO_x高熵合金涂层,进行了微观结构、形貌、纳米硬度以及耐腐蚀性能进行了表征与测试。结果表明,在O_2氛围作用下,涂层相结构由fcc完全转变为bcc结构;随O_2流量由0 mL/min增至15 mL/min,涂层纳米硬度由22 GPa快速降低至7 GPa;O_2流量为10 mL/min的(AlCrMoNbZr)_(1-x-y)N_yO_x高熵合金涂层表现出优异的耐腐蚀性能,其腐蚀电流密度较O_2流量为0 mL/min的(AlCrMoNbZr)N涂层降低约6倍。
- 常鸿赵莎刘春海
- 关键词：磁控共溅射微结构耐腐蚀性能
- 超薄MoN扩散阻挡层的扩散阻挡性能分析
- 2012年
- 采用磁控溅射法,制备了超薄MoN扩散阻挡层,并对Cu/MoN/Si体系进行真空退火。用四点探针(FPP)、X射线衍射(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)进行薄膜电性能和微结构表征。分析结果表明,MoN作为Cu扩散阻挡层结构具有良好的热稳定性,失效温度达到600℃,明显优于Mo扩散阻挡层。
- 刘春海王龙崔学军金永中叶松
- 关键词：磁控溅射MON扩散阻挡层热稳定性
- 超薄α-Ta(N)／TaN双层扩散阻挡层的微观结构与热稳定性被引量：2
- 2013年
- 提出利用真空室残余的低浓度N原子制备超薄α-Ta(N)/TaN双层扩散阻挡层的方法,有效地避免了异质元素的引入和高N含量导致的高电阻率。用四点探针(FPP)、X射线衍射(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)进行薄膜电性能和微结构的表征,分析结果表明,利用低浓度氮化工艺,能调控超薄金属Ta膜的相结构,从而获得低阻α-Ta(N)/TaN双层Cu扩散阻挡层结构。高温退火的实验结果证明,此超薄结构具有高的热稳定性,失效温度达600℃。
- 刘春海崔学军金永中杨瑞嵩王素娟叶松
- 关键词：扩散阻挡层超薄热稳定性微结构
- FeCrNiMoCu高熵合金涂层的多靶磁控共溅射制备及微结构分析被引量：4
- 2018年
- 采用多靶磁控共溅射技术的单靶功率可调特点,在304不锈钢基体上,制备出了FeCrNiMoCu高熵合金涂层。通过纳米压入(Nanoindentation)、X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)等对不同组分含量的FeCrNiMoCu高熵合金涂层的纳米硬度、微观结构及形貌进行了表征。结果表明:磁控共溅射法制备的FeCrNiMoCu涂层具有简单的fcc结构和高的纳米硬度,表面硬度随铁元素含量上升而增加。
- 刘春海蒲国张伟张伟崔学军崔学军金永中
- 关键词：磁控共溅射微结构
- 三维Ni亚微米柱阵列的制备及微结构研究被引量：1
- 2016年
- 利用磁控溅射法在阳极氧化铝(AAO)模板上制备了Ni亚微米柱阵列,研究了不同退火温度对Ni亚微米柱阵列结构稳定性的影响。通过原子力显微镜(AFM)、X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)等对不同退火温度下制备的Ni亚微米柱阵列的晶体结构以及表面形貌进行了表征。结果表明,磁控溅射法制备的Ni亚微米柱阵列具有多晶的面心立方结构,排列规则、粗细均匀,其直径约为400nm。经400℃退火后,开始形成Al1.1Ni0.9和AlNi金属间化合物。500℃退火后,出现空心Ni亚微米柱,且Ni亚微米柱体积膨胀变粗。600℃退火后,Ni亚微米柱部分脱落。
- 陈昶张伟陈建刘春海曾宪光杨瑞嵩王龙蒲国
- 关键词：AAO模板表面形貌
