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中国工程物理研究院基金(2005R0806)

作品数：1 被引量：8H指数：1
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文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇核科学技术

主题

  • 1篇镀层
  • 1篇贫铀
  • 1篇铝镀层
  • 1篇脉冲偏压
  • 1篇溅射
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 1篇中国工程物理...

作者

  • 1篇刘清和
  • 1篇王庆富
  • 1篇刘柯钊
  • 1篇鲜晓斌

传媒

  • 1篇原子能科学技...

年份

  • 1篇2007
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
脉冲偏压对贫铀表面磁控溅射离子镀铝结合强度的影响被引量：8
2007年
采用磁控溅射离子镀技术在不同偏压下于贫铀表面制备铝镀层,用扫描电镜和俄歇电子能谱仪对镀层形貌和界面元素分布进行分析,用拉伸法对镀层的结合强度进行测定。结果表明:在-900 V脉冲偏压下所得镀层与铀基体结合良好,镀层与基体之间存在较为明显的“伪扩散区”;与直流偏压相比较,脉冲偏压所得镀层结合强度明显增强,镀层的致密性显著改善。
王庆富鲜晓斌刘柯钊刘清和
关键词：贫铀铝镀层脉冲偏压
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