江西省自然科学基金(0450099)
- 作品数：6 被引量：50H指数：4
- 相关作者：赵晴章志友陈宁杨丽娜杜楠更多>>
- 相关机构：南昌航空大学南昌航空工业学院更多>>
- 发文基金：江西省自然科学基金更多>>
- 相关领域：金属学及工艺一般工业技术化学工程更多>>
- 电流密度对MB8镁合金微弧氧化膜耐蚀性的影响被引量：5
- 2008年
- 微弧氧化处理镁合金是一种有很大潜力的镁合金表面处理方法。采用碱性硅酸盐体系,讨论了电流密度(20,30,40,50mA/cm2)对MB8镁合金表面微弧氧化膜耐蚀性能的影响,利用扫描电镜(SEM),X射线衍射(XRD)和电化学方法对膜层的表面形貌、相组成及动电位极化曲线进行了分析。结果表明:电流密度越大,膜层的生长速度越快,晶化程度越高,陶瓷层表面致密度下降,孔径增大,腐蚀电流密度先下降后上升,呈现出的熔融状态逐渐明显。因此可推断出膜层的耐蚀性能并不单由膜层的总厚度决定,还取决于膜层的致密程度,随着电流密度的升高呈先增大后减小的趋势。
- 赵晴章志友刘月娥
- 关键词：微弧氧化镁合金电流密度耐蚀性
- 镁合金微弧氧化膜相组成及结构分析被引量：3
- 2008年
- 为了解镁合金微弧氧化膜的耐蚀性能,研究了其截面不同位置的组织结构及元素分布。通过扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、能谱(EDS)等测试手段,对镁合金微弧氧化膜层的形貌、结构、相组成及元素分布的特点进行了系统分析。结果表明:膜层表面分布着大量均匀的放电微孔;截面致密层厚度占膜层总厚度的60%以上;XRD图谱显示陶瓷层主要由Mg2SiO4和MgO组成;由电能谱面分析可知过渡层n(MgO)∶n(Mg2SiO4)=5∶1,致密层n(MgO)∶n(Mg2SiO4)=1∶1;线性扫描测试结果显示从基体到膜层外表面,Mg元素的含量逐渐降低,O与Si元素的分布相似,均呈先增大后减小的趋势,P含量则基本保持不变。
- 章志友赵晴陈宁
- 关键词：镁合金微弧氧化相组成
- 镁合金微弧阳极氧化膜的特性被引量：1
- 2005年
- 采用扫描电镜（SEM）、X射线衍射（XRD）等方法初步研究了镁合金微弧氧化膜的成分、相组成及其形貌特征。结果表明，在微弧氧化处理过程中，镁合金基体中的合金元素Al向表面扩散进入氧化膜层，微弧氧化处理液组分中的元素也进入了氧化膜层。氧化膜主要由MgO、Mg2SiO4、MgAl2O4和不定形相组成。在微弧氧化过程中，氧化膜中首先产生的物相为立方结构的MgO，随着氧化时间的延长，氧化膜中出现晶态的MgAl2O4及Mg2SiO4。
- 杨丽娜赵晴
- 关键词：镁合金微弧氧化表面形貌相结构
- 终止电压对MB8镁合金微弧氧化膜耐蚀性的影响被引量：17
- 2007年
- 采用SEM、XRD、动电位极化曲线及电化学阻抗等测试方法,研究了MB8镁合金微弧氧化过程中不同终止电压下获得的陶瓷膜层的耐蚀性能。结果表明:终止电压越高,膜层越厚;微火花阶段,膜层表面均匀、结晶细致,腐蚀电流密度较小,阻抗较大;弧放电阶段,膜层孔径变大,陶瓷层内显微缺陷增多,腐蚀电流密度增大,阻抗减小。由此得出结论:膜层耐蚀性能由膜层厚度与终止电压共同决定,微火花放电末期膜层的耐蚀性能优于弧放电阶段的耐蚀性能。
- 赵晴章志友陈宁
- 关键词：微弧氧化镁合金耐蚀性终止电压
- 电参数对压铸镁合金微弧氧化的影响被引量：15
- 2007年
- 采用脉冲电源在K2SiO3-KOH溶液中对压铸镁合金AZ91D进行微弧氧化,并采用扫描电镜(SEM)及X射线衍射(XRD)研究了微弧氧化电流密度、频率、占空比对陶瓷膜的生长速率、腐蚀速率及组织形貌的影响。结果表明,氧化膜主要由MgO、Mg2SiO4、MgAl2O4和不定形相组成;膜层的生长速率与表面形貌主要由单脉冲的放电能量决定;随电流密度的增加或频率的减小,微弧氧化膜层的生长速率增加,但膜层表面变粗糙并产生裂纹;厚度12～20μm的膜层有较好的耐蚀性。
- 赵晴杜楠杨丽娜
- 关键词：镁合金微弧氧化电参数
- 镁合金微弧氧化陶瓷层的生长过程研究被引量：16
- 2007年
- 采用扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)和膜厚测量等方法,研究了MB8镁合金在硅酸盐体系中不同的微弧氧化时间对陶瓷膜层的截面形貌、相组成及生长速度的影响。结果表明:微弧氧化初期,阳极表面主要生成MgO相并向基体内部生长;随后,膜层沿基体向外生成Mg2SiO4相;在氧化末期,膜层同时向内和向外生长,且向内生长占主导地位,但陶瓷层相组成与氧化中期时相同。氧化膜的厚度随时间呈线性增长。提出了陶瓷层在不同阶段的生长机制。
- 章志友赵晴陈宁
- 关键词：镁合金微弧氧化陶瓷层微观结构厚度
