安徽省自然科学基金(050440603)
- 作品数：8 被引量：136H指数：6
- 相关作者：宣天鹏杨广舟杨礼林陆广广贾韦更多>>
- 相关机构：合肥工业大学中国电子科技集团公司第四十三研究所更多>>
- 发文基金：安徽省自然科学基金更多>>
- 相关领域：化学工程一般工业技术金属学及工艺电子电信更多>>
- 电子浆料的研究进展与发展趋势被引量：74
- 2008年
- 介绍了广泛应用于电子行业的电子浆料,讨论了电子浆料的组成、分类和制备方法。文章着重阐述了贵金属浆料和贱金属浆料,并探讨了电子浆料的应用领域,以及无铅电子浆料和复合电子浆料等方面的发展趋势。
- 陆广广宣天鹏
- 关键词：电子浆料导电薄膜电子元器件无铅
- 化学镀Ni-Fe-B-La合金工艺的研究被引量：3
- 2006年
- 研究了稀土元素La介入化学镀Ni-Fe-B合金的镀覆工艺。在正交试验的基础上获得了化学镀Ni-Fe-B-La合金的基础配方,分析了加入稀土元素La后化学镀液中各种组分对镀层沉积速率的影响,并考察了镀液稳定性和镀层质量。通过稀土元素La的介入,Ni-Fe-B-La合金镀液稳定性和镀层的质量得到明显的改善;但随La含量的增加,沉积速率达到最大值后有降低趋势。
- 杨礼林宣天鹏琚正挺张路长
- 关键词：化学镀稀土元素
- 电磁屏蔽涂镀层的研究现状及进展被引量：17
- 2005年
- 主要讨论了电磁屏蔽(EMS)的基本原理和相关的电磁屏蔽知识,简述了国内外近年来重点开发的各种电磁屏蔽化学涂层、镀层,总结了当前电磁屏蔽涂镀层的研究现状和进展,为解决敏感设备的电磁屏蔽(EMS)问题和进一步研究开发电磁屏蔽涂镀层材料提供参考。
- 杨礼林宣天鹏杨广舟
- 关键词：电磁屏蔽涂层镀层
- 化学镀镍在微电子领域的应用及发展前景被引量：20
- 2007年
- 介绍了化学镀镍工艺的基本原理、化学镀镍合金层的物理和化学性质及其研发现状。重点阐述了化学镀镍技术在微电子领域的应用,包括UBM制作、印制电路板表面终饰工艺和LCR元件制造,以及在计算机存储领域的应用。指出,减少污染、延长镀液使用寿命、降低成本仍然是化学镀镍面临的一项长期的任务;其在微电子领域中的镍镀层的多功能化、镀层高密度化存储、纳米微粒掺杂新型功能性镀层等更深层次的需求有着广阔的发展前景。
- 贾韦宣天鹏
- 关键词：化学镀镍微电子计算机存储
- Ni-P-La合金镀层电磁屏蔽效能的研究被引量：12
- 2006年
- 采用电沉积的方法制备Ni-P-La合金镀层,用网络测试仪测试了不同稀土添加量、不同环境下样品的电磁屏蔽效能.结果表明：在10～350MHz内,Ni-P-La合金镀层的电磁屏蔽效能在45～70dB之间,盐雾腐蚀对镀层的电磁屏蔽效能影响较小;少量稀土的添加,不但能提高镀层的耐蚀性能,而且能将镀层的电磁屏蔽效能提高1～5dB.
- 杨广舟宣天鹏冯书争朱云丽杨礼林
- 关键词：电磁屏蔽屏蔽效能电沉积
- 稀土Ce对化学镀Fe-P合金镀层成分和形貌的影响被引量：5
- 2010年
- 借助电化学分析仪、电子能谱仪、扫描电镜等对稀土掺杂化学镀Fe-P镀层的阴极极化曲线、镀层化学组成和表面形貌进行了分析和测试。结果表明,镀液中加入稀土Ce使得Fe-P合金镀层的极化度减小,析出电位正移;随着镀液中稀土Ce加入量的增加,镀层中的Fe含量减小、P含量先增加后减少;镀层表面由不规则条索状物构成,稀土添加可使表面条索状物尺寸减小、细化。
- 于瑶宣天鹏张丽丽闵文锦
- 关键词：表面形貌
- 稀土La对电沉积Ni-P电磁屏蔽镀层组织结构的影响被引量：6
- 2005年
- 借助等离子发射光谱仪、电子能谱仪、X-射线衍射仪、透射电子显微镜和扫描电子显微镜等分析了稀土La对电沉积Ni-P合金镀层的化学成分、晶体结构和表面形貌的影响。结果表明:在电沉积镀液中添加少量稀土La,改变了电极界面双电层结构,使镀层表面更为平整;稀土元素La进入镀层后,微晶态结构的Ni-P合金转变成了非晶态结构的Ni-P-La合金。
- 杨广舟宣天鹏杨礼林霍影
- 关键词：非晶态稀土电磁屏蔽
- 稀土La对电沉积Ni-P合金镀层工艺的影响被引量：7
- 2006年
- 研究了添加稀土La电沉积电磁屏蔽N i-P合金镀层的工艺。在正交试验的基础上分析了镀液组成及电流密度对沉积速率的影响,综合考察了镀层表面质量及镀层与基体的结合力。结果表明:在镀液中加入微量稀土La,金属离子的沉积速率,镀层与基体的结合力,镀液的分散能力,镀层的表面质量都有不同程度的提高,并由此得出工艺的最佳镀液组成和操作条件。
- 杨广舟宣天鹏王卫荣
- 关键词：稀土NI-P合金沉积速率电磁屏蔽
