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国家高技术研究发展计划(2004AA842070)

作品数:2 被引量:21H指数:2
相关作者:林尊琪周申蕾李学春朱俭戴亚平更多>>
相关机构:中国科学院上海光学精密机械研究所中国工程物理研究院更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:理学机械工程电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇机械工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 2篇激光
  • 1篇色散
  • 1篇相位调制
  • 1篇均匀照明
  • 1篇激光技术
  • 1篇激光物理
  • 1篇光技术

机构

  • 2篇中国科学院上...
  • 1篇中国工程物理...

作者

  • 2篇周申蕾
  • 2篇林尊琪
  • 1篇戴亚平
  • 1篇朱俭
  • 1篇李学春

传媒

  • 1篇中国激光
  • 1篇光学学报

年份

  • 1篇2007
  • 1篇2006
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
谱色散平滑与透镜列阵联用实现均匀照明被引量:4
2007年
为满足激光惯性约束聚变中靶面激光辐照不均匀性低于5%的要求,在目前使用透镜列阵基础上,提出了谱色散平滑与透镜列阵联用方案,对其进行数值计算并分析其平滑效果和应用可行性。结果表明:焦斑的不均匀性从单独使用透镜列阵时的14%降低到与谱色散平滑结合后的3%;对焦斑点功率谱的分析表明谱色散平滑通过抑制焦斑中高频的频谱强度达到平滑效果。该方案可以进一步提高焦斑平滑效果,计算结果对实际应用有着重要的参考意义。
周申蕾林尊琪
关键词:激光物理相位调制
光谱色散平滑的实验研究被引量:18
2006年
为提高国内惯性约束聚变(ICF)装置的焦斑平滑能力,在对光谱色散平滑(SSD)技术理论分析的基础上,开展相关实验并研究其平滑机制。实验结合另一种焦斑平滑技术———分布式相位板(DPP)比较分析光谱色散平滑技术应用下的焦斑均匀性的变化。实验表明,利用光谱色散平滑技术中的正弦相位调制对光谱展宽并色散后,在色散方向上的焦斑均匀性有明显改善,120μm内的光强调制被平滑,其平滑能力依赖于光谱色散平滑技术参量的选择;焦斑的低频光谱强度变化很小,但中高频光谱强度下降,焦斑质量有良好的改善,焦斑的不均匀性从40%降低到12.5%。结果还表明,光谱色散平滑技术中的关键是色循环的产生,光谱本身加宽产生的平滑作用非常有限。
周申蕾朱俭李学春林尊琪戴亚平
关键词:激光技术
共1页<1>
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