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国家科技重大专项(2011ZX02101-005)

作品数:5 被引量:11H指数:2
相关作者:李国光熊伟刘涛荣健谌雅琴更多>>
相关机构:中国科学院微电子研究所电子科技大学北京智朗芯光科技有限公司更多>>
发文基金:国家科技重大专项中国科学院科研装备研制项目更多>>
相关领域:理学机械工程电子电信更多>>

文献类型

  • 5篇中文期刊文章

领域

  • 3篇机械工程
  • 3篇理学
  • 2篇电子电信

主题

  • 2篇最小二乘
  • 2篇最小二乘法
  • 2篇光栅
  • 1篇形貌
  • 1篇衍射
  • 1篇校准
  • 1篇校准法
  • 1篇校准方法
  • 1篇膜厚
  • 1篇介电
  • 1篇介电常数
  • 1篇光学
  • 1篇光学常数
  • 1篇傅里叶
  • 1篇傅里叶分析
  • 1篇傅里叶系数
  • 1篇SOI
  • 1篇测定法
  • 1篇层数

机构

  • 5篇中国科学院微...
  • 4篇电子科技大学
  • 1篇北京智朗芯光...

作者

  • 4篇李国光
  • 4篇熊伟
  • 3篇刘涛
  • 2篇荣健
  • 1篇叶甜春
  • 1篇王建东
  • 1篇徐鹏
  • 1篇温朗枫
  • 1篇付永启
  • 1篇张强
  • 1篇严冬
  • 1篇宋国志
  • 1篇陈树强
  • 1篇王林梓
  • 1篇谌雅琴

传媒

  • 2篇光学学报
  • 1篇激光与光电子...
  • 1篇微电子学
  • 1篇中国科技论文

年份

  • 1篇2014
  • 4篇2013
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
基于反射测定法的SOI膜厚检测系统
2013年
研制可用于膜厚检测的系统,获取薄膜反射光谱,基于多层膜反射率模型和非线性回归算法得到厚度分布图。对SOI材料的反射光谱进行测试及分析,结果表明,对于厚度为30μm的顶层硅,其静态重复性为±0.01nm,动态重复性为±1.30nm;对于厚度为2μm的氧化层,其静态重复性为±0.02nm,动态重复性为±1.60nm。该技术还适用于其他集成电路制造工艺中不同材质的膜厚检测。
严冬李国光刘涛熊伟李成敏郭青杨叶甜春
关键词:形貌
耦合波分析中任意二维光栅介电常数的傅里叶分析
2013年
严格耦合波分析(RCWA)法在测量二维周期光栅的关键尺寸(CD)和获得其剖面结构中有着较为广泛的应用。在这个应用过程中需要对二维光栅周期单元的相对介电常数分布表达式进行傅里叶级数展开,而在以往的研究中只提出了几种规则光栅的傅里叶系数求解公式,从而使得能够应用RCWA方法进行衍射分析的光栅在形状方面受到了一定的限制。针对这一局限,运用矩形网格细分的方法得到了计算二维周期光栅的相对介电常数傅里叶系数的通用公式,它能够对任意形状的二维周期光栅相对介电常数分布进行傅里叶级数展开,并运用于衍射问题的RCWA方法分析之中。
张强熊伟荣健
关键词:光栅傅里叶系数介电常数衍射
利用多个标准样品校准光谱椭圆偏振仪被引量:7
2014年
光谱椭偏仪是常用的测量薄膜厚度及材料光学性质的仪器,其准确性主要由系统的校准过程确定。提出一种新的利用标准样品校准光谱椭偏仪的方法。该方法通过对多个已知厚度和已知材料特性的薄膜样品进行测量,利用测量得到的多个样品的傅里叶系数光谱与包含未知校准参数的理论光谱之间进行对比,通过最小二乘法拟合,回归求解出整个系统的未知校准参数,包括偏振器方位角,波片延迟,波片方位角和系统入射角等。将该方法的应用领域扩展到2001000nm的宽光谱区域,并通过测量3~13nm的SiO2/Si薄膜样品,实验验证了该方法的有效性,准确性达到0.194nm。该方法相对于传统校准方法更加简单、快速。
宋国志刘涛谌雅琴李国光王建东
关键词:校准最小二乘法光学常数
样品校准法在单波长椭偏仪中的应用被引量:5
2013年
椭偏仪是薄膜测量的重要工具。从模拟和实验两方面,描述一种新颖的单波长椭偏仪的校准方法。该方法的基本思路是:如果被测样品的相关信息(折射率n,吸收系数k,厚度d)已知,则可以通过测量光强变化的傅里叶系数,采用最小二乘法原理反演出此时椭偏系统的信息(即校准参数,包括起偏器方位角P,检偏器方位角A,波片起始旋转角Cs,波片位相延迟δ,系统入射角θ0)。利用校准得到的系统参数和测量未知样品得到的光强傅里叶系数,求得未知样品的厚度。该方法具有操作简单、节约成本等优点。分别针对2~6个样品尝试了校准,对该校准方法做了模拟分析。将该方法用于实际测量,考证校准后的测量效果,并做了误差分析,最大误差为0.26nm。
徐鹏刘涛王林梓李国光熊伟荣健
关键词:最小二乘法
严格耦合波收敛层数的研究
2013年
研究了梯形光栅的结构参数与分层数的关系,通过减少分层数来提高求解光栅衍射效率计算速度。采用开发的软件进行仿真模拟,得到正入射时,TE和TM的收敛层数随着顶宽和周期的增大而减小;TE在占空比小于0.4时,收敛层数随着占空比的增大而减小,之后基本保持不变;TM在占空比为0.5时所需的收敛层数最大,并呈现向两边递减的趋势。结果表明:根据这些规律适当减少分层数可有效提高计算效率。
温朗枫熊伟李国光陈树强付永启
关键词:光栅
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