国家自然科学基金(10875033)
- 作品数：6 被引量：21H指数：3
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- 相关领域：金属学及工艺一般工业技术理学航空宇航科学技术更多>>
- 高能束流加工技术:全方位离子注入与沉积技术及其在航空领域的应用探讨被引量：2
- 2010年
- 作为先进制造技术发展的前沿领域,高能束流加工技术以其独特的技术优势,受到越来越多的重视。随着航空工业的快速发展和各种新结构、新材料的应用。
- 王浪平王小峰汤宝寅
- 关键词：全方位离子注入航空领域先进制造技术航空工业航空航天
- 等离子体浸没离子注入与沉积技术的发展及前沿问题被引量：6
- 2010年
- 等离子体浸没离子注入与沉积技术可实现复杂形状零件表面垂直、均匀地离子注入与沉积处理,在材料表面改性领域具有广泛的应用前景。在技术发明后的20年间,该技术得到了快速的发展,但是也遇到了如何提高离子注入效率和注入均匀性、内表面注入、大面积注入等一系列问题。若上述问题得到解决,将极大的推进等离子体浸没离子注入与沉积技术的工业应用进程。
- 王浪平王小峰汤宝寅
- 关键词：表面改性
- MPIIID制备TiAlN涂层的高温抗氧化及摩擦性能被引量：5
- 2011年
- 采用多源等离子体注入与沉积(MPIIID)装置制备了不同Al含量的TiAlN涂层,利用X射线能谱仪(EDX)、扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、纳米探针和摩擦试验对涂层的组成以及高温抗氧化和摩擦性能进行分析.结果表明:Al元素的加入明显提高了涂层的高温抗氧化能力,生成的Al2O3能有效地抑制氧的扩散;当Al的原子百分数为6.18%时,涂层硬度最高,约为38 GPa,涂层具有良好的摩擦磨损特性.
- 解志文王浪平王小峰闫久春黄磊陆洋
- 关键词：TIALN涂层
- 多阴极金属等离子体源的特性及应用研究被引量：3
- 2011年
- 设计了一种新型的多阴极金属等离子体源,对离子流分布均匀性、导管偏压和约束磁场电流进行了测试和优化。采用该装置制备了TiAlSiN多元复合薄膜,利用EDX、XRD、XPS和纳米探针对薄膜的组成、微结构和力学性能进行测试分析。结果表明,该装置可成功地制备复合薄膜,合成的薄膜具有n-TiAlN/a-Si3N4复合结构,具有高的硬度(≥35 GPa)。
- 解志文王浪平王小峰闫久春黄磊陆洋
- 关键词：均匀性
- 多元等离子体浸没离子注入与沉积和磁控溅射技术制备TiAlSiN/WS_2多层薄膜的力学性能和腐蚀行为(英文)被引量：1
- 2011年
- 为了降低超硬TiAlSiN复合涂层的摩擦因数,采用多元等离子体浸没离子注入与沉积和射频(RF)磁控溅射技术制备TiAlSiN/WS2多层薄膜,利用XRD、SEM、Raman光谱、纳米探针、摩擦和电化学试验对薄膜的微结构、力学性能和腐蚀行为进行测试与分析。SEM结果表明:TiAlSiN/WS2多层薄膜具有清晰的调制周期。纳米硬度结果表明,TiAlSiN/WS2多层薄膜硬度介于TiAlSiN和WS2涂层硬度之间。摩擦实验结果证实TiAlSiN/WS2多层薄膜的摩擦因数低于TiAlSiN涂层的,且摩擦过程平稳。此外,TiAlSiN/WS2多层薄膜表现出良好的抗腐蚀能力,在相对较小的调制周期内,其腐蚀电流密度显著降低。
- 解志文王浪平王小峰黄磊陆洋闫久春
- 关键词：WS2多层膜抗腐蚀
- Si含量对多元等离子体浸没离子注入与沉积技术制备TiAlSiN涂层微结构和机械性能的影响(英文)被引量：4
- 2011年
- 采用多元等离子体浸没离子注入与沉积制备TiAlSiN纳米复合涂层,利用EDX,XRD,SEM,XPS,纳米探针和划痕试验对涂层成分组成、微结构和机械性能进行测试分析。XRD测试表明,TiAlSiN涂层具有较强的TiN(200)择优取向。XPS测试表明,TiAlSiN涂层中也含有AlN、Si3N4、Al2O3和Ti2O3。与制备的TiN涂层相比,当涂层中的Si含量为0.9%时,TiAlSiN涂层表现出较高的硬度,达32GPa,但涂层的断裂韧性和结合强度较低;当涂层中的Si含量增加至6.0%时,TiAlSiN涂层具有超高的硬度57GPa,并表现出较好的断裂韧性和结合强度。
- 解志文王小峰黄磊陆洋闫久春
- 关键词：离子注入
