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国家高技术研究发展计划(2008A031101)

作品数：1 被引量：1H指数：1
相关作者：彭佳江四川陈韦黄佳木更多>>
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文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 1篇制备工艺参数
  • 1篇镁合金
  • 1篇耐腐
  • 1篇耐腐蚀
  • 1篇溅射
  • 1篇合金
  • 1篇TIALN薄...
  • 1篇AZ31镁合...
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 1篇重庆大学

作者

  • 1篇黄佳木
  • 1篇陈韦
  • 1篇江四川
  • 1篇彭佳

传媒

  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 1篇2014
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
制备工艺参数对AZ31镁合金表面溅射TiAlN薄膜耐腐蚀性能的影响被引量：1
2014年
采用射频反应磁控溅射法在AZ31镁合金表面沉积了TiAlN薄膜。用场发射扫描电镜、电化学工作站研究分析了薄膜的表面形貌以及电化学性能,研究了铝靶溅射功率、钛靶溅射功率、氮气流量、沉积时间对TiAlN薄膜耐腐蚀性能的影响。结果表明实验所制备的TiAlN薄膜表面光滑、致密。当Al靶功率为50 W,Ti靶功率为125 W,N2流量为30 mL/min(标准状态),沉积时间为8 h时薄膜耐腐蚀性能最佳。薄膜腐蚀电流密度(4.321×10-7 A/cm2)比镁合金基体(1.066×10-5 A/cm2)降低了1个数量级以上,镁合金耐腐蚀性能得到较大提高。
黄佳木陈韦彭佳江四川
关键词：TIALN薄膜磁控溅射镁合金
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