公共文化服务平台

共 2 条记录，以下是 1-2

全选清除导出

排序方式：

铜膜厚度对铜膜结构和光电学性质的影响被引量：4: 2010年; 采用热蒸发方法在玻璃基片上沉积100 nm以内不同厚度的铜薄膜.利用X射线衍射仪、原子力显微镜和分光光度计分别检测薄膜的结构、表面形貌和光学性质,用Van der Pauw方法测量薄膜的电学性质.结果表明,可以将薄膜按厚度划分为区（0-11.5 nm）的岛状膜、区（11.5-32 nm）的网状膜和区（〉32.0 nm）的连续膜.薄膜的表面粗糙度随膜厚的增加,在、区时增加,区时减小.薄膜电阻在区时无法测量,在区随膜厚的增加急剧下降,而在区时随膜厚增加缓慢减小.薄膜的光学吸收与其表面粗糙度密切相关,其变化规律与表面粗糙度的变化相一致.; 肖荣辉郑卫峰郑明志彭福川赖发春; 关键词：铜薄膜膜厚光学性质电学性质

单摆实验的研究: 2009年; 应用PASCO数字实验教学系统对影响单摆周期测量的因素进行测量和估算,主要内容包含:摆角、相同体积不同质量的摆球、空气浮力、光电门的位置以及起摆的方向对周期测量的影响。; 李育元盖静岚方良栋郑卫峰; 关键词：单摆周期

全选清除导出

共1页<1>

福建省教育厅资助项目(JA08048)